本発明は、微粒子を吸い込むフードに関し、微粒子を発射できるように壁２に接近して配置されることを意図され、前記フードの内部３１と外部３２とを定める稜３ｂを含む空気吸入口３０と、前記微粒子を吸い込むための吸引出口５とを有する。前記フードは、前記空気吸入口が、前記吸入出口の方に延び、前記稜に関して前記吸入出口と同じ側に位置する先端４１を含む外部リップ４０を有し、その結果、前記フードの動作中に、吸い込まれた空気８が前記外部リップで分離されず、空気分離地帯が前記フードの内部にのみ位置する。
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【課題】従来の洗浄装置は、超音波振動子などによるキャビテーションを用いて洗浄していたが、洗浄効果が得られないと共に、洗浄時間が長いという課題を有していた。
【解決手段】被洗浄物を収容するための洗浄室１１と、前記洗浄室内１１に設けた２つの電極にパルスパワーを印加しストリーマ放電を発生させる放電手段１６とを設けて、被洗浄物１１を洗浄することを特徴とした洗浄装置である。特に、パルスパワーを印加しストリーマ放電を発生させることで、高い圧力範囲の衝撃波を発生させることができるので、被洗浄物１１に付着した汚れ成分や細菌やウィルスなどを除去する。さらに、水中にストリーマ放電を生成することによってオゾンを生成することができるので、殺菌性能を向上することができるとともに、洗浄水を浄化することが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、微粒子を吸い上げるためのフッドに関し：壁（2）に近く配置されることを目的とした開口（3b）、レーザー・ビーム（6）が通り抜けることができる窓（3）を有する基盤（3a）、開口（3b）と基盤（3a）との間の中間部分（5a）、及びフッド（1）の中間部分（5a）に置かれ、微粒子を吸い上げるように設計された吸引出口（5）、を含む。当該フッドは、基盤（3a）の近くに配置された少なくとも1つの空気吸入口（110）を含み、作動中に、微粒子が窓（3）の堆積することを防止するように、そのフッド（1）の基盤（3a）で気流を生成することが可能であることを特徴とする。

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【課題】異物を除去するためのレーザ光照射装置及び受光装置を利用して基板の位置合わせを行い、基板に対して適正な後処理を施すことができる異物除去方法を提供する。
【解決手段】異物除去装置に設けられた異物を除去するためのレーザ光照射部３４からステージ３３に載置されて回転するウエハＷの端部にずれ測定用のレーザ光を照射し、照射したレーザ光のうちウエハＷの端部に遮られたレーザ光を除く残りのレーザ光をパワーメータ３５で受光してレーザ光の出力を検出し、回転するウエハＷの回転角を検出し、検出したレーザ光の出力データと回転角データとに基づいてウエハＷのずれ量を算出し、算出したずれ量に基づいてウエハＷのずれを補正し、その後、ウエハＷの端部にレーザ光照射部３４から洗浄用のレーザ光を照射すると共に異物と反応する処理ガスを噴射してウエハＷに付着した異物を分解、除去する。 （もっと読む）

【課題】被照射面における紫外線強度が十分に確保され、かつ、紫外線照射範囲が狭くなることがなく、また、照度分布が不均一になることもなく、紫外線照射効率が向上され、紫外線ランプの交換やその他の部品の交換などのメンテナンスが容易に行えるようになされた紫外線照射装置及び紫外線照射処理装置を提供する。
【解決手段】真空紫外線を放射する円柱形状の紫外線ランプ１と、反射膜が形成されこの反射膜を紫外線ランプ１の少なくとも側面の両側に位置させて配置され紫外線ランプ１から放射される紫外線を反射してこの反射光を被照射面に照射する反射体２とを備え、紫外線ランプ１と反射体２とは、一体化したランプモジュール３を構成して基台４上に配置されており、ランプ交換にあたっては、ランプモジュール３を一体的に交換することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】被処理体に対して面内均一性の高いプラズマ処理を行うこと。
【解決手段】載置台２７と誘電体窓部材３を介して対向するようにアンテナ５を設ける。このアンテナ５は、各々長さが等しく、互いに横に平行に並べた直線状の複数のアンテナ部材５１により構成されている。このアンテナ５の一端側を高周波電源部６に電源側導電路６１により接続すると共に、その他端側を接地点に接地側導電路６２により接続する。前記電源側導電路６１及び接地側導電路６２の少なくとも一方に、アンテナ５の電位分布を調整するための電位分布調整用のコンデンサ７を設け、前記高周波電源部６から各アンテナ部材５１を介して接地点に至るまでの各高周波経路のインピーダンスが互いに等しくなるように設定する。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】フローティングユニットを用いて基板をフローティング状態に維持したままで基板の洗浄工程を行うことによって、基板の垂れによる破損を防止することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄装置は、基板にプラズマを照射して基板上の異物を除去するプラズマ照射部、基板上に残っている異物を除去する異物洗浄部、基板を洗浄する仕上げ洗浄部、基板を乾燥させる乾燥部と、基板をアンローディングする基板アンローディング部を備え、プラズマ照射部には、プラズマを照射するプラズマ照射ユニット及び基板をフローティング状態に維持させるフローティングユニットを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、放射される紫外線を遮光する反応生成物の固着を抑制した紫外線ランプ及び紫外線照射装置を提供することにある。
【解決手段】
第１の発明に係る紫外線照射装置は、紫外線ランプと、該紫外線ランプを内部に配置した筐体と、該紫外線ランプを該筐体と共に取り囲む平板状の光照射窓と、からなる紫外線照射装置において、該光照射窓の紫外線ランプに対向する面に対して反対側の面に金又は白金からなる薄膜を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 一対の通水用面材を有するケース内に夫々平行に配設された多数本の杆状の器具押さえパッドにより、洗浄するべきマイクロ器具を閉じ込めた状態でジェット洗浄などで洗浄するに用いられる洗浄器において、高さや太さの異なる全てのマイクロ器具を、その高さか太さに応じて器具押さえパッド間に円滑且つ安定良好に閉じ込め、洗浄し得られるようにした洗浄器を提供する。
【解決手段】 通水用多孔面材2bを有する筐体2内に、その対向枠壁間2a,2aに亘り杆状の器具押さえパッド3,3,…の多数本を平行に配設して成るケース1の一対をその各開口面を対向させて互いに開閉自在として成る洗浄器において、両ケース1,1の少なくともいずれか一方のケース1内に配設して成る各器具押さえパッド3をばね6により上下方向に可動自在に支持せしめた。 （もっと読む）

吸気口（１）と、排気口（２）と、吸気口（１）と排気口（２）の間にある空気誘導部とを備え、空気誘導部に少なくとも１つの反応表面部材（３）が設けられ、空気誘導部に少なくとも１つの紫外線光源（４）が配置され、反応表面部材が空気誘導部のほぼ全体に配置される、特に車両用の空気清浄システムを提案する。
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【課題】チャックテーブルの被加工物を保持する保持面を有する保持テーブルに付着した付着物を除去するチャックテーブルの付着物除去方法を提供する。
【解決手段】被加工物を保持する保持面を有する石英からなる保持テーブルを備えたチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段とを具備し、保持テーブルの保持面に粘着テープを介して保持された被加工物にレーザー光線を照射することにより粘着テープが溶融して該保持テーブルの保持面に付着した付着物を除去するチャックテーブルの付着物除去方法であって、保持面に付着物が付着した保持テーブルを加熱することにより、保持テーブルの保持面に付着した付着物を焼失せしめる。 （もっと読む）

フッ化物イオン洗浄方法は、洗浄レトルト内でフッ化水素（ＨＦ）ガスを現場生成するステップと、洗浄が必要な部品を生成されたＨＦガスと接触させるステップと、初期の廃流を現場除染し、そこから残留ＨＦガスを実質的に除去するステップと、除染された排ガスを洗浄レトルトから排出させるステップとを含む。例示的方法では、液相又は気相のハロゲン化供給材料が洗浄レトルトに投入され、水素ガスが洗浄レトルトに投入され、十分な温度で供給材料と水素ガスとの反応によってＨＦガスが生成される。例示的方法では、現場生成された、又は現場再構成されたＨＦガスのみが洗浄工程において使用される。
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【課題】メンテナンス性に優れ、フィルムなどの薄い被クリーニング材上に付着する異物を除去するような場合でも、被クリーニング材がローラ表面に張り付くのを回避する。
【解決手段】被クリーニング材Ｓの表面Ｓ１にクリーニングローラ１１を接触させ、被クリーニング材Ｓの表面Ｓ１上に付着する塵埃などの異物Ｔを静電気を利用して取り除く。クリーニングローラ１１は、芯金１１ａと、芯金１１ａの外側に設けられる円筒状の円筒状の内層部１１ｂと、その内層部１１ｂの外側に設けられる円筒状の外層部１１ｃとを備え、外層部１１ｃは５０°以上の硬度（ＪＩＳ−Ａ）を有しかつ内層部１１ｂよりも高抵抗である。クリーニングローラ１１の外層部１１ｃを形成する材料としては、被クリーニング材Ｓの表面上に付着する異物Ｔを静電気により吸着する電荷を帯電し得るものが選択される。 （もっと読む）

【課題】装置価格の上昇を抑えつつ処理時間を短縮することのできるプラズマ洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマ洗浄装置１は、基板５０を搬送する搬送機構１５を備えた前チャンバ２と、主チャンバ入口１４に繋がっており、基板５０をプラズマ洗浄する高周波電極２５等を備えると共に、搬送機構１８を備えた主チャンバ３と、主チャンバ出口１７に繋がって、搬送機構２１を備えた後チャンバ４と、主チャンバ３に接続される主真空ポンプ７と、前チャンバ２および後チャンバ４に共通して接続される副真空ポンプ６とを備え、主真空ポンプ７によって真空引きされた主チャンバ３に前チャンバ２から基板５０を搬送するとき、および主チャンバ３から後チャンバ４に基板５０を搬送するときには、前チャンバ２、後チャンバ４を副真空ポンプ６で予め真空引きしておくものである。 （もっと読む）

【課題】間紙に付着している粉塵等の付着物を効果的に除去することができると共に、省設置スペースとし、且つメンテナンスを容易とすることができる間紙クリーニング装置を提供する。
【解決手段】ブラシクリーニング手段４は、縦方向に形成された搬送路３５の左右に対配置された搬送ローラ２１により前記間紙Ｐを縦立させて上方に搬送する間紙搬送手段と、前記間紙搬送手段により上方に搬送される間紙Ｐの表裏面に対し、前記搬送路３５の左右に対配置されたロールブラシ２３を回転させることにより除塵処理するロールブラシ手段と、前記ロールブラシ手段により除塵処理され、前記間紙搬送手段により上方に搬送される間紙Ｐの表裏面に対し、前記搬送路３５の左右に対配置された直線ブラシ２４を摺接させて除塵処理する直線ブラシ手段とを備える。 （もっと読む）

本発明は、密封された筐体内に用意されたオブジェクトの洗浄および／または殺菌方法に関し、筐体の内部容積と周囲との間に気圧差をもたらし、オブジェクトの前記洗浄および／または殺菌方法のための筐体内部のみにプラズマを発生させる。また、本発明は、これを可能にする装置に関する。装置１０は、真空ポンプ２を使って空気が抜かれる真空チャンバ１と、筐体８内に適切なガスのプラズマを発生させるように構成されたプラズマ源３とを備え、筐体８は、真空チャンバの周囲に対して略密封して閉じられる。筐体８は、可塑性タイプでも、剛性材料から製造されてもよい。筐体が剛性のときの場合、筐体内部の気圧は、外の気圧より低くてもよい。
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【課題】生産性を向上させることが可能な表面処理装置を提供すること。
【解決手段】放電用ガスを流通させる放電管と、前記放電管を流通する前記放電用ガスを励起させる電圧を印加可能な電源電極及び接地電極と、前記放電管の端部に接続され、前記電圧を印加されて励起した前記放電用ガスを対象物の処理領域に向けて噴射するノズルとを有し、前記ノズルは、前記処理領域の配置に応じたスポット状の複数の噴射口及びスリット状の噴射口のうち少なくとも一方を有している。 （もっと読む）

【課題】表面処理用の処理槽に設けた、被処理物の出し入れ用の開口でのガスの流れを安定させる。
【解決手段】被処理物９を搬送方向に沿って搬入開口１３から処理槽１０の内部に搬入し、処理空間１９に配置する。供給系３０から処理ガスを処理空間１９に供給し、被処理物９を表面処理する。その後、被処理物９を搬出開口１４から搬出する。排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。開口１３，１４を、互いに上記搬送方向と直交する対向方向に対向距離Ｄを隔てて対向する一対の整流面１７，１８によって画成する。開口１３，１４の上記搬送方向に沿う奥行きＬを、対向距離Ｄの２倍以上とし、好ましくは６倍以上とする。 （もっと読む）

【課題】表面処理用ノズル装置から処理ガスが漏洩するのを防止する。
【解決手段】ノズル装置３の板状の供給溝形成部材１１の主面１１ｆに処理ガス供給溝４０を形成し、主面１１ｆを被覆部材１２で覆い、処理ガス供給溝４０に処理ガスの供給手段４を接続する。開口溝部４２を供給溝形成部材１１の主面１１ｆと交差する先端面に開口させる。更に主面１１ｆ又は被覆部材１２の被覆面１２ｒの処理ガス供給溝４０より外側の部分に外側溝８０を形成し、外側溝８０をガス吸引手段５に接続する。 （もっと読む）