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Fターム[3B116BC01]の内容

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Fターム[3B116BC01]に分類される特許

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【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ10と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ11と、洗浄液にマスク部材4を浸漬させて行う第1のウエット洗浄ステージ12と、マスク部材4に対してシャワー洗浄を行う第2のウエット洗浄ステージ13と、マスク部材4に熱風を供給して行う乾燥ステージ14と、アンロードステージ15とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ10からドライ洗浄ステージ11にマスク部材4を搬送・移載する同期式マスク搬送手段20Cと、ステージ11〜15間にマスク部材4を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段20Aとが設けられている。 (もっと読む)


【課題】部材の内面に付着した汚染物を除去するメンテナンスを容易に行うことができる部材の清浄化方法を提供する。
【解決手段】液体を通す流路を有するインクジェットヘッド1の本体部2の内面2Aとオリフィスプレート3の内面3Aに、光触媒13をコーティングして、この光触媒13がコーティングされたインクジェットヘッド1の本体部2とオリフィスプレート3を焼成し、焼成したインクジェットヘッド1の本体部2の光触媒13とオリフィスプレート3の光触媒13に紫外光31を照射する。 (もっと読む)


【課題】パルスレーザを用いて有機EL用マスクを走査してレーザクリーニングを行う場合に、有機EL用マスクに過剰なエネルギーを作用させることなく高い洗浄度でクリーニングを行うことを目的とする。
【解決手段】レーザ光を走査して有機EL用マスク2に付着した蒸着物質を除去する有機EL用マスククリーニング方法であって、有機EL用マスク2に対してレーザ光を間欠的に照射して走査を行うときに、レーザ光を照射することにより除去される蒸着物質の円形の除去領域を部分的に重ねることでクリーニングエリアの全面に除去領域が及ぶようになし、且つ1つの除去領域の中心と他の除去領域とが重ならないように走査している。 (もっと読む)


【課題】有機EL用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。
【解決手段】テーパ面5A乃至5Dを有する開口部3を複数形成した有機EL用マスク1のクリーニングを行う有機EL用マスククリーニング装置であって、各開口部3に形成される4つのテーパ面5A乃至5Dのうち相互に隣接する2つのテーパ面に向けて、開口部3の対角線D1を挟んで反対側から第1のレーザL1を入射させて開口部3の斜め方向に走査させる第1のレーザ光学系17Aと、対角線D1を挟んで2つのテーパ面の反対側から第1のレーザL1が入射するように、有機EL用マスク1と第1のレーザ光学系17Aとを相対的に移動させる第1のレーザ移動部24Aと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】板状のサファイア単結晶であるサファイア基板に付着した異物の除去を行う。
【解決手段】サファイア基板10を加熱装置2の炉室21内に設けられる積載台22に設置する。そして、大気中よりも酸素の濃度が高められた雰囲気ガスをヒータ23によって加熱し、その雰囲気ガスを介してサファイア基板10を加熱する。そして、サファイア基板10の加熱によって、サファイア基板10に付着している異物(有機物、無機物)が酸化することで、異物が気化する、あるいは異物とサファイア基板10との密着性が低下する。その結果、サファイア基板10に付着する異物が除去される。 (もっと読む)


【課題】被処理物の処理箇所のみに対して、安定して効率的にかつ簡単な構成及び制御にて生産性良く、低コストにて処理を行う。
【解決手段】プラズマヘッド10に設けた反応空間11に第1の不活性ガス15を供給するとともに高周波電界を印加して反応空間11から一次プラズマ16を吹き出させ、第2の不活性ガスを主とし適量の反応性ガスを混合した混合ガス領域20をプラズマヘッド10内又はその近傍に形成するとともにこの混合ガス領域20に一次プラズマ16を衝突させて二次プラズマ21を発生させ、発生した二次プラズマ21を被処理物5の処理箇所に吹き付けて処理するプラズマ処理方法であって、プラズマヘッド10と被処理物5を相対移動させて処理箇所を処理するに際して、一次プラズマ16は連続して発生させ、処理箇所でのみ混合ガス領域20を形成して二次プラズマ21を発生させるようにした。 (もっと読む)


【課題】マスクに付着した異物の除去に有利な異物除去装置を提供する。
【解決手段】本発明の異物除去装置8aは、マスク1のパターン面に付着した異物2a、2bを除去する異物除去装置であって、マスク1のパターン面に対向配置される電極5、6と、マスク1のパターン面と電極5、6との間に正及び負の電圧を交互に印加する電源3を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、温度状態の管理をより正確に行うことができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、前記処理容器の内部に設けられた被処理物を載置する載置部と、内部にプラズマを発生させる領域を有し、前記処理容器から離隔された位置に設けられた放電管と、マイクロ波発生部から放射されたマイクロ波を伝播させて、前記プラズマを発生させる領域にマイクロ波を導入する導入導波管と、前記プラズマを発生させる領域にプロセスガスを供給するガス供給部と、前記放電管と、前記処理容器と、を連通させる輸送管と、前記放電管の温度を検出する第1の温度検出部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】人体に付着した花粉をより確実に除去することを可能にする花粉除去方法を提供する。
【解決手段】人体に付着した花粉3を除去する方法であって、接地した導電体を備える静電気除去装置に人Mが触れることによって人体に帯電した静電気を導電体を介して除電する。これとともに、送風装置2の吹出口2aから人体に風4を吹き付けることによって人体に付着した花粉3を吹き飛ばして除去するようにした。 (もっと読む)


【課題】 高い洗浄処理能力を得ることができ、しかも、結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物についても確実に除去することができる照射装置を提供する。
【解決手段】 放電容器および一対の電極を有するエキシマランプと、エキシマランプにおける一方の電極に誘電体を介して対向するよう配置されたプラズマ放電用電極とを備え、エキシマランプにおける一方の電極およびプラズマ放電用電極を介してプラズマ発生回路が形成されてなり、エキシマランプにおける一対の電極間に印加される高周波電界によって放電容器内にエキシマ放電が発生されると共に、エキシマランプとプラズマ放電用電極との間にプラズマ発生用反応性ガスが流過された状態で、エキシマランプにおける一方の電極とプラズマ放電用電極との間に印加された高周波電界によってプラズマ放電が発生されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被処理物の物性が限定されず、直接型プラズマ処理装置及び間接型プラズマ処理装置のいずれにも応用可能なセラミック被覆電極及びそれを用いた直接型プラズマ処理装置及び間接型プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】単一のセラミック被覆電極1Aの内部に第1電極11と第2電極12が埋設されており、第1電極11及び第2電極12は、セラミック基板2の最大面積を有する面に対して垂直な所定の断面において、その断面に平行に交互に所定の間隔を隔てて複数組配列されており、セラミック基板の最大面積を有する面のうち少なくとも一方を放電面とするので、放電面において、複数箇所の第1電極11と第2電極12の間で放電を発生させる。 (もっと読む)


【課題】皮膜を容易に除去することができ、リサイクル性に優れ、しかも、環境負荷の少ない、ステアリングホイール用芯金のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】マグネシウム合金からなる芯金の表面が、レーザ光吸収剤を含有する架橋ポリウレタン樹脂組成物の皮膜で覆われてなるステアリングホイールから、予め前記皮膜を機械的に剥離する工程、及び前記芯金の表面に残存して付着している架橋ポリウレタン樹脂組成物にレーザ光を照射して架橋ポリウレタンを分解する工程によって、ステアリングホイール用芯金をクリーニングする。 (もっと読む)


【課題】オゾンよりも短い所定の寿命を有する活性粒子の発生密度および発生効率を向上させることができる活性粒子発生装置を提供する。
【解決手段】接地電極1と、空隙を介して接地電極1と対向し、空隙側の表面が誘電体4で覆われた高圧電極2との間に、高電圧を印加して誘電体バリア放電を生じさせるとともに、空隙に原料ガス8を供給して、誘電体バリア放電により活性粒子を発生させる活性粒子発生装置であって、活性粒子の寿命を、原料ガス8が空隙に滞在する平均時間で除した値が0.1以上10以下であり、接地電極1および高圧電極2の単位面積に供給される放電電力が、原料ガス流の上流側から下流側に向けて増加されるものである。 (もっと読む)


【課題】床面に飛散した切削屑等の鉄屑を無動力で効率的に回収するようにした鉄屑清掃器を提供すること。
【解決手段】中空の外筒1と、この外筒1内をその長手軸心方向に沿って摺動自在とした操作部材2と、この操作部材2の先端部に配設した磁石6と、外筒1の端部に固定し、磁石6の外表面を覆い、かつ内部を磁石6が操作部材2の長手軸心方向に沿って移動可能とした形状に非磁性体で形成したカバー3と、このカバー3の両側面に配設して床面F上を転動可能に取り付けたローラ4、4とより構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機物質でコーティングされた材料4の表面をクリーニングするための方法に関する。
【解決手段】本発明の方法は、内部の圧力が10mbarから1barであり、且つ容量で少なくとも90%の酸素を含むガス流が供給される処理チャンバ2内に、材料4を導入する工程と、材料の表面と誘電体で覆われた電極(5a、5b、5c、5d、5e、5f、5g)との間で放電を引き起こすことによりプラズマを形成し、生成されたフリーラジカルOの作用により有機物質を分解する工程とを含むことを特徴とする。本発明はさらに、前記方法を行なうために使われる装置1に関する。 (もっと読む)


【課題】簡便かつ的確に大気圧プラズマの良否検査を行うことができるプラズマ検査方法、プラズマ処理方法、プラズマ検査装置及びプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】測定試料42の表面に大気圧プラズマPZを照射するプラズマ照射工程(ステップST8)と、大気圧プラズマPZが照射された測定試料42の表面の状態を検出する表面状態検出工程(ステップST9)と、検出した測定試料42の表面の状態に基づいて大気圧プラズマPZの状態の良否判定を行う判定工程(ステップST10及びステップST11)を実行する。 (もっと読む)


【課題】大気圧プラズマにて被処理物を処理するに際して所望の処理状態を高い信頼性をもって確保することができるプラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】大気圧近傍の空間2に不活性ガスと反応性ガスの混合ガス8を供給するとともに電界を印加してプラズマ11を発生させ、発生したプラズマ11を被処理物Wに照射して被処理物Wをプラズマ処理するプラズマ処理方法において、空間2に供給される混合ガス8の反応性ガス濃度をガス濃度検出手段15にて検出し、その検出結果に基づいて制御部14にて被処理物Wに照射されるプラズマ11の性能の良否を判定するようにした。 (もっと読む)


【課題】表面が清浄な状態となされたマスクブランクス、または、転写マスクを製造することができるマスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法を提供し、また、ArFエキシマレーザ光以上の量子エネルギを有する露光光を用いる場合において好適なマスクブランクス、または、転写マスクを製造することができるマスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法を提供する。さらに、化学増幅型レジスト膜が成膜されたマスクブランクスの好適な製造方法を提供する。
【解決手段】基板1上の薄膜2,3をスパッタリング法により成膜した後、この薄膜2,3の表面に電磁波を照射することによりこの薄膜2,3の表面に付着した有機物質を分解し、薄膜2,3の表面に純水を供給して湿式洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】基板の処理品質を向上させつつ基板の処理コストを十分に低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽4から引き上げられる基板Wに気体供給ダクト62から気体が供給され、基板Wの乾燥処理が行われる。気体供給ダクト62は、主管141および2つの分岐配管142a,142bからなる配管140を介してドライエア発生装置110およびファンユニット120と接続されている。ドライエア発生装置110は分岐配管142aを通して気体供給ダクト62にドライエアを供給し、ファンユニット120は分岐配管142bを通して気体供給ダクト62に大気を供給する。各分岐配管142a,142bには、制御バルブ130a,130bが介挿されている。制御バルブ130a,130bの開閉状態に応じてドライエアおよび大気のいずれか一方が気体供給ダクト62に供給され、基板Wの乾燥処理が行われる。 (もっと読む)


【課題】ゴミの拭き取り能力に優れると共に、一旦捕捉したゴミに対する保持能力にも優れ、清掃効率を向上できる清掃用シートを提供する。
【解決手段】多数の透孔5を有する可撓性シート2と、可撓性シート2の内面側に位置し、静電気によるゴミ吸着能力を有する帯電性シート3とからなり、可撓性シート2の一端部2a及び他端部2bを帯電性シート3に接合してそれぞれ第1接合部6、第2接合部7を形成する。 (もっと読む)


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