【課題】成膜材料等に影響を与えることなく、大型の成膜用マスクに対して均一なクリーニングを高速且つ効率良く行うことができる技術を提供する。
【解決手段】クリーニングガス供給部８から供給されたクリーニングガスを放電させ、クリーニングガスのラジカルをマスク６に向って放出するためのラジカル放出器１０を真空槽内に備える。ラジカル放出器１０は、面状のシャワープレート１５と、面状のメッシュ状部材１６を有する。シャワープレート１５とメッシュ状部材１６とが電気的に絶縁されるとともに、シャワープレート１５に高周波電力を印加することにより、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８においてクリーニングガスのプラズマを生成し、メッシュ状部材１６からマスク６に向ってクリーニングガスのラジカルを放出する。 （もっと読む）

【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】真空槽１２の外部に設けられた処理ガス供給源８と、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器１０とを備える。ラジカル放出器１０の処理ガス導入室１４の基板側に、導電体からなる面状のシャワープレート１５と、シャワープレート１５に対応する大きさ及び形状の導電体からなる面状のメッシュ状部材１６が設けられる。シャワープレート１５とメッシュ状部材１６とは電気的に絶縁されている。メッシュ状部材１６に高周波電力を印加し、シャワープレート１５とメッシュ状部材１６の間のプラズマ形成室１８において処理ガスのプラズマを形成して、メッシュ状部材１６から基板５に向って処理ガスのラジカルを放出する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置のステージの表面が損傷したとき、上記表面部分だけを容易に交換できるようにする。
【解決手段】ステージ２０を、ステージ本体２１とその上側の表面板２２とに分割する。ステージ２０を挟んで両側には、処理ヘッド１０の移動に用いる一対のレール６１が設けられている。このレール６１上にステージ保守用クレーン３０を設置する。クレーン３０のフレーム３１の一対の支え部３２の下端部にスライダ３４をそれぞれ設け、これをレール６１にスライド可能に嵌合する。フレーム３１の天井部３３に吊具５１を昇降可能に垂下し、これに連結部５２を設ける。好ましくは、連結部５２をボルト５５にて表面板２２の端面に連結する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波の損失を極力低減し、高密度プラズマを効率良く生成できるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置１００は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置２１と、マイクロ波発生装置２１に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の矩形導波管２２と、矩形導波管２２に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置２３と、矩形導波管２２の一部分であって、内部で生成したプラズマを外部で放出するアンテナ部４０とを備えている。アンテナ部４０は、その断面において短辺をなす壁４０ａに１又は複数のスロット孔４１を有しており、大気圧状態の矩形導波管２２内に供給された処理ガスをマイクロ波によってプラズマ化し、スロット孔４１から外部の被処理体へ向けて放出する。 （もっと読む）

【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】基板５に対して相対移動可能に設けられ、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させ、当該処理ガスのラジカルを基板５に向って放出するためのラジカル放出器１０を備える。ラジカル放出器１０は、処理ガス供給源８から処理ガスのプラズマがそれぞれ供給され且つ互いの雰囲気が隔離された第１〜第４の拡散室１１〜４１と、第１〜第４の拡散室１１〜４１にて拡散された処理ガスのプラズマを混合するプラズマ形成室５１とを有する。プラズマ形成室５１には、基板５の相対移動方向に対し直交するスリット状のスリット５３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】薄膜の表面に付着された塵埃を簡単な構成で確実に剥離して除去できる薄膜表面の塵埃除去装置を提供する。
【解決手段】薄膜の走行を案内する複数のローラと、走行途中の薄膜の表面に付着した塵埃を除去する塵埃除去部を備えた薄膜表面の塵埃除去装置において、前記塵埃除去部は前記ローラの間を走行する薄膜を伸縮させる伸縮付与手段と、伸縮によって薄膜から剥離した塵埃を捕捉する捕捉手段を備え、伸縮付与手段は、薄膜の走行を案内する一部のローラを振動させて薄膜を伸縮させる振動子を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一なプラズマを励起することが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部に被処理体を載置する真空容器１００と、２つの電極部を有し、真空容器の内部に隙間を設けて配列された複数の電極対２００と、真空容器の内部にプラズマを励起するための電磁波を供給する伝送路とを備え、複数の電極対のそれぞれは、２つの電極部間に形成され、前記伝送路に接続され、前記プラズマ空間に向けてスリット状に開口する導波路２０５と、導波路に挿入され、プラズマ空間に露出する誘電体板２１０とを有し、伝送路から供給された電磁波が、導波路を伝搬した後に誘電体板のプラズマ露出面から真空容器内に放出してプラズマを励起することを特徴とするプラズマ処理装置１０が提供される。 （もっと読む）

【課題】乾式洗浄媒体の運動速度と清浄度とを高めることにより洗浄品質と洗浄効率とを向上させることができる洗浄媒体を提供する。
【解決手段】気流により飛翔することにより洗浄対象物に衝突して該洗浄対象物Ｗに付着している付着物ｄを除去するために用いられる洗浄媒体であって、上記洗浄媒体Ｍは、平坦面からなる基部から屈曲あるいは湾曲による立ち上がり部を有する可撓性薄片で構成され、基部Ｍの表裏各面と立ち上がり部との間の隙間に気流が進入できるようにすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エキシマランプが複数並列に配置された光照射装置において、エキシマランプの照度を測定する照度センサーを適正に配置して、エキシマランプからの照射光を遮断することなく、有効照射領域内にあるランプ中央部の正常なエキシマ放電を正確に検出することのできる構造を提供することである。
【解決手段】前記エキシマランプの放射光を受光する照度センサーが、当該エキシマランプの長手方向における一方の端部に対応して配置され、受光面がエキシマランプの中央部に向いて傾斜していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＣバイアス電圧に応答した制御を含む、真空プラズマプロセッサ室においてワークピースを加工する方法を提供する。
【解決手段】十分な電力を有するＡＣ電気エネルギーを電極の少なくとも１つに供給することによって室内のガスをプラズマに励起して、電極の少なくとも１つを介してガスに供給されたＡＣ電気エネルギーにより（ａ）供給されたＡＣ電気エネルギーの周波数におけるプラズマ励起ＡＣ電場を第１電極アセンブリと第２電極アセンブリとの間に存在させ（ｂ）ＤＣバイアス電圧を室内のガスがプラズマに励起されるのに応答して電極の少なくとも１つに発生させ、ＤＣバイアス電圧の指示に応答してプラズマ励起ＡＣ電場を制御する。 （もっと読む）

【課題】エキシマランプと、該エキシマランプを収容するケーシングと、該ケーシングからエキシマ光を外部に出射するための光出射窓を備えた光照射装置において、光出射窓での発熱を抑制し、特に温度管理の厳しいナノインプリント装置におけるテンプレートの洗浄用光照射装置として有用な構造を提供することである。
【解決手段】前記光出射窓は、中央光出射部と周辺の取り付けフランジ部とを備え、前記光出射部は、前記エキシマランプ側の裏面が前記フランジ部裏面より凹んでいて、該光出射部の肉厚がフランジ部の肉厚より薄くなっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】建物の内装用素材に染みこんだ煙草のヤニ等を含む汚れを迅速かつ有効に除去又は分解することができる内装用素材の再生方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る内装用素材の再生方法においては、建物内に張られた、煙草のヤニを含む汚れを伴った内装用素材、例えばクロス壁紙（塩化ビニルクロス）の表面に紫外線、例えば波長が３００〜４５０ｎｍの範囲内の紫外線を照射して煙草のヤニを分解する。内装用素材の表面への紫外線の照射は、内装用素材に過酸化水素水を含ませた状態で行われる。過酸化水素水の過酸化水素濃度は５〜１０重量％であるのが好ましく、過酸化水素水は界面活性剤を含んでいるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象面内の清浄度およびその均一性を高めさらにメンテナンスも容易なＵＶオゾン洗浄装置を提供すること。
【解決手段】ＵＶ照射室（１０）内に２つのＵＶユニット（２０Ａ、２０Ｂ）を備えており、これらＵＶユニットは所定の間隔を有するように対向して設けられている。この間隔内には、洗浄対象物（３０）が基板搬送部（４０）により把持された状態で搬送される。オゾン発生の源となるエアーと不活性ガスの混合ガスは第１および第２のガス供給部（５０Ａ、５０Ｂ）から、ＵＶ照射室（１０）内に搬送された基板（３０）の表面に向けて供給される。ガス排出部（６０）は、装置（１００）の底部に設けられており、ＵＶ照射室（１０）内で発生したオゾン含有ガスは、装置上部に設けられた排気ユニット（７０Ａ、７０Ｂ）の作用により、ガス排気経路部（８０Ａ、８０Ｂ）を通ってガス排出部（６０）から外部へと排出される。 （もっと読む）

【課題】輸送管内壁への酸化物の付着を低減できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】対象物１１に水素ラジカルを供給することによって前記対象物１１を洗浄する洗浄装置２７であって、加熱された触媒１に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、前記生成手段から前記対象物１１への気体の供給を制限可能な制限手段と、前記制限手段により気体の供給が制限された状態で、前記触媒１の周囲の気体を前記対象物１１を介さずに排気可能な排気手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】サポートプレートの洗浄後に廃溶液を発生させること無く、且つ安価に処理することが可能なサポートプレートの洗浄方法を実現する。
【解決手段】サポートプレート７にドライアイス粒子４を接触させて、サポートプレート７に付着した有機物および金属を除去する二酸化炭素ブラスト処理工程を含み、サポートプレート７は、基板が剥離された後のサポートプレートである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型マスクが洗浄可能で、マスクへの物理的・熱的な要因の印加や環境への負荷増大のない、有機ＥＬ用マスククリーナ装置と方法を提供する。
【解決手段】蒸着工程において表面に付着した有機物を含むマスクから、当該表面に付着した有機物を除去するためのドライ完結型有機ＥＬ用マスククリーナ装置は、レーザ洗浄を行うレーザ洗浄装置（１０）と、酸素プラズマによるアッシングを行う酸素アッシング装置（２０）と、ＥＵＶをマスクの表面に照射するＥＵＶ装置（３０）と、大気圧プラズマ処理を行う大気圧プラズマ処理装置（４０）とを備え、互いに隣接して配置すると共に、マスクを搬送するための搬送手段（５０）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ洗浄処理の制限を緩和し、使用勝手の良いプラズマ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ洗浄処理のレシピ設定をする際には、パソコン１５により、プラズマエッチング（ＰＥ）方式かリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）方式かのどちらであるかを判定し、ＲＩＥ方式であればプラズマ処理制限を内部メモリから読み込む。次に、プラズマ処理パワー（Ｗ）と処理時間（秒）の積がプラズマ処理制限を超えていないか判定する。ＲＦ電源出力パワーを「５００（Ｗ）」と入力して、プラズマ処理時間を「２５（秒間）」と入力すると、パソコン１５は５００Ｗ×２５秒＝１２５００Ｗ秒と算出して、プラズマ処理制限の１００００Ｗ秒を超えたと判定して、超えた旨をモニター１７に表示させる。次に、ＲＦ電源出力パワーはそのままとし、１００００Ｗ秒÷５００Ｗ＝２０秒間を算出し、プラズマ処理時間を２０秒間として内部メモリに保存する。 （もっと読む）

【課題】汚染物質を効果的に減少させることができる反射型マスク、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】反射パターンが設けられたパターン領域（Ｒａ）を有する反射型マスク（Ｒ）であって、入射した光をパターン領域（Ｒａ）が反射する反射方向とは異なる方向に反射又は散乱させる非パターン領域（Ｒｂ）を有する。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦ露光によってＭｏＳｉ遮光膜上に発生するＨＡＺＥの発生を抑制する抑制手段の提供である。
【解決手段】ＭｏＳｉからなる遮光膜を備えるフォトマスクの遮光部に発生するアンモニアまたは有機物からなるＨＡＺＥを、ＡｒＦ露光前後にＡｒＦランプからの光を照射して分解、除去することを特長とするフォトマスクのＨＡＺＥ抑制方法、及びＭｏＳｉを含む遮光膜を備えるフォトマスクの表裏に、ＡｒＦランプからの光を照射する機構を備えたことを特徴とするフォトマスクの保管庫あるいは露光装置である。 （もっと読む）