【課題】熱硬化型のシリコン系接着剤を介して半導体素子が装着された基板をプラズマ処理して、接着剤中に含まれるシロキサン成分を除去して、その後の信頼性の高いワイヤーボンディング等が行えるようにすること。
【解決手段】真空チャンバー１を所定の真空状態とし、高周波電源１０からの高周波電圧を下部電極３に高周波電圧を印加する。また、開閉バルブ２３を開いて、上部電極２と下部電極３との間に六フッ化イオウガスを供給してプラズマ化する。すると、六フッ化イオウガスのフッ素がシリコン系接着剤７中のケイ素と合体して、このケイ素は真空通路６を介して装置外部へ排出される。このプラズマ洗浄を６０秒間行った後、５秒経過後に上部電極２と下部電極３との間にアルゴンガスを供給してプラズマ化する。すると、アルゴンガスのアルゴンが六フッ化イオウガス中のイオウと合体して、このイオウは真空通路６を介して装置外部へ排出される。 （もっと読む）

【課題】製作コストが比較的に安く済み、コンパクト化も容易な除塵装置を提供する。
【解決手段】回転操作される帯電ローラ１２と、除塵の対象物Ｐと帯電ローラ１２とを、同帯電ローラ１２が対象物Ｐと対向した状態で相対移動させる搬送機構３とを備え、帯電ローラ１２が、同帯電ローラ１２と帯電傾向の異なる補助部材１４との摩擦によって帯電されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に分解残渣が再付着することを防止または抑制することができ、しかも、被処理物の温度上昇を抑制しながら紫外線照射処理を行うことができる光処理装置および光処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の光処理装置は、一面に開口を有する筐体と、この筐体の開口に設けられた紫外線透過性を有する窓板材と、前記筐体内に配置されたエキシマランプとを具えてなり、前記筐体は、当該筐体内に不活性ガスよりなる洗浄用ガスを供給するためのガス供給口を有し、前記窓板材は、前記筐体内の洗浄用ガスを当該窓板材に対向して配置された被処理物に向かって噴出するガス噴出口を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】給電コネクタの把持部の汚れを除去可能な充電装置を提供する。
【解決手段】車両に設けられた受電コネクタに接続して、該車両の蓄電池を充電するために用いられると共に、把持部を有する給電手段と、前記給電手段を収納する収納手段と、前記収納手段に収納された前記給電手段の前記把持部を洗浄する洗浄手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制する。
【解決手段】マスク部材１を位置調整手段２１により位置調整可能な昇降部材１１に装着して、マスク板２に対してレーザ光照射手段１５におけるレーザ発振器１３からのレーザ光をスキャニング光学系１５によって、マスク板２の主走査方向に微小移動させながらレーザ光のパルスを照射し、１ライン分の走査が終了すると、副走査方向に１ピッチ分ずらせて走査を継続するようになし、マスク板２の全面にレーザ光のスポットを照射することによりドライ洗浄を行うに当って、ドライ洗浄開始前に撮像手段２０によりマスク部材１のアラインメントマークＭを基準として、レーザ光の微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されるように位置調整する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の洗浄に有利な露光装置の提供。
【解決手段】光源２０と、複数の光学素子１５ａ、１５ｂを収容する真空容器３４、３５とを有する露光装置は、複数の光学素子のうち予め決められた値未満の照度で光が照射されている光学素子に酸素ガスＡ２を供給する酸素ガス供給手段と、記複数の光学素子のうち前記値以上の照度で光が照射されている光学素子に水蒸気Ａ１を供給する水蒸気供給手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、静電気を応用して生活範囲のゴミや埃を、安全かつ容易に捕集するのを課題とする。
【解決手段】本体（１）には、握り手（９）と側板（２）を固着させ、本体（１）が保持するスライド具（１−１）には、ヘラ（１−２）貼着材（１−３）を、」スライド具（１−１）を引き出す凸具（１−４）備え、側板（２）にて軸（５）も保持し、掻き板（８）具備して構成し、円筒具（３）は帯電性の部材とし外輪（４）は絶縁性の部材で、軸（５）に有す、内筒（６）には緩衝具（７）を備え、緩衝具（７）に摩擦具（７−１）を保持させ、円筒具（３）の回転作用で、内筒（６）が有する摩擦具（７−１）が、円筒具（３）表面に静電気を帯電し、床面のゴミや埃を吸着し本体（１）のスライド具の貼着材（１−３）に集積させ、処分する。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の温度上昇を抑制しながら紫外線照射処理を行うことができる光処理装置および光処理方法を提供する。
【解決手段】 本発明の光処理装置は、紫外線透過窓を有する筐体と、この筐体内に配置されたエキシマランプとを具えてなる光処理装置であって、前記紫外線透過窓の周囲に、冷却用ガス供給機構または冷却用ガス吸気機構に接続されるガス流通口を有することを特徴とする。また、前記エキシマランプは、全体が扁平な板状の放電容器と、この放電容器の一面に配置された高電圧側電極と、当該放電容器の他面に配置されたアース側電極とを有し、前記放電容器における前記高電圧側電極が配置された一面が、前記紫外線透過窓と対向するよう配置されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】処理対象に電子ビームを照射することによって、処理対象の洗浄や研磨、処理対象からの付着物の除去等を行う電子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置１は、負電圧を周期的に発生させる電圧生成器６と、電圧生成器６に接続され、表面が接地された処理対象２に対してインパルスである電子ビーム３を照射するカソード１と、カソード１と処理対象２とを収容可能であり、内部雰囲気を真空に保持可能である真空チャンバ５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ基板の製造工程で発生した品質基準を満足しないガラス基板、あるいはスパッタリング装置のダミー基板の再生プロセスにおいて、透明電極処理に酸処理を用いずに、カラーフィルタを効率的に再生処理するガラス基板の再生装置及びこれを用いた再生方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に着色画素層と透明電極層とが設けられたカラーフィルタ基板から着色画素層と透明電極層とを除去してガラス基板を再生する装置であって、前記着色画素層が硬化した感光性着色樹脂から構成されており、前記透明電極層が導電性金属酸化物薄膜から構成されており、しかも、これら着色画素層と透明電極層とが互いに積層されているカラーフィルタ基板の再生装置において、前記透明電極層を除去する電気分解手段であって、基板に電極を接触させることのない電気分解手段と前記着色画素層を剥離するアルカリ液処理手段と、を具備している。 （もっと読む）

【課題】 全長が１８００ｍｍ以上ある大型のエキシマランプ４０を光源に備えていても、中間部と端部とで一定の水準の処理効果を保つことができるランプユニット２０を提供すること。
【解決手段】 放電容器４１における上壁面４２と下壁面４３との外表面に電極４６、４７が設けられると共に放電容器内にキセノンガスが封入されてなり、当該放電容器内にエキシマ放電を発生させるエキシマランプ４０と、
エキシマランプ４０の両端をランプ保持体２６によって支持して筐体２１内にエキシマランプ４０を配置したランプユニットにおいて、
前記エキシマランプ４０の長手方向の中間部下方に中間支持体５０を配置し、エキシマランプ４０を下側から支持したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に存在する有機物等の汚染物を高い効率で除去することができると共に、被処理物の表面の濡れ性を向上させることができ、被処理物の表面に高い密着性を有する薄膜を形成することができるドライ洗浄方法およびドライ洗浄装置を提供する。
【解決手段】被処理物１に大気圧プラズマを作用させることにより洗浄処理する第１洗浄工程と、この第１洗浄工程によって洗浄処理された被処理物１にエキシマランプから放射されたエキシマ光を照射することにより洗浄処理する第２洗浄工程とを有し、搬送される被処理物１に対して被処理物１の搬送方向の上流位置に大気圧プラズマ装置２０を配置し、被処理物１の搬送方向の下流位置にエキシマ光照射装置３０を配置する。 （もっと読む）

【課題】製造工程で基板表面に付着した有機異物を、屑を残存させることなく、かつ、基板表面を損傷させることなく良好に除去できる基板用異物除去装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板ＢＳ表面の観察によって有機異物αを特定し、基板用異物除去装置と基板ＢＳ上の有機異物αとを位置合わせする。次いで、光触媒テープＰＨＴを降下させて有機異物αに対して光触媒テープＰＨＴの光触媒層を圧着させる。次いで、光照射手段４００を動作させて、光触媒テープＰＨＴの有機異物αに圧着されている面の反対側から光を照射する。光触媒が光を吸収することで、有機異物αを光酸化し、有機異物αが分解・除去され、異物除去を完了する。 （もっと読む）

【課題】加速イオンを用いた低温プラズマ浸漬イオンにより様々な試片を加工処理する装置と方法を提供する。
【解決手段】本発明によるプラズマ浸漬イオンを用いた加工装置は、チャンバ内部に円筒形加工物が載置されると共に円筒形加工物の周囲を低温プラズマが囲むようになり、多重スロットを有する抽出電極を含む加工物蓋が円筒形加工物の周囲を覆ってプラズマから分離させ、スパッタリングを誘発するに十分な負電位が円筒形加工物と加工物蓋の抽出電極に付加されることにより、プラズマから出てきたイオンが抽出電極とプラズマとの間に形成されたシース内で加速され、抽出電極のスロットを通過して円筒形加工物に衝突して円筒形加工物の表面粗さを減少させる方式で行われ、本発明による加工装置及び方法は、大面積の円筒形基板、特に、マイクロまたはナノパターン転写技術のための基板表面を数ｎｍの表面粗さにする効果があり、単一または多重チャンバ内でプラズマ洗浄、表面活性、表面研磨、乾式エッチング、蒸着、プラズマ浸漬イオンの注入及び蒸着などの工程を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】減圧処理室内の部材表面から微粒子を飛散させて部材の清浄化を行う。
【解決手段】減圧処理内の部材に付着した微粒子を飛散させて部材を清浄化するために、（１）微粒子を帯電させてクーロン力を利用して飛散させる手段、（２）減圧処理室にガスを導入し、微粒子の付着した部材にガス衝撃波を到達させ、微粒子を飛散させる手段、（３）部材の温度を上昇させ、熱応力及び熱泳動力により微粒子を飛散させる手段、又は（４）部材に機械的振動を与えて微粒子を飛散させる手段を用いる。さらに、飛散させた微粒子を比較的高圧雰囲気でガス流に乗せて除去する。 （もっと読む）

【課題】 被着体（例えば、自動車のホイール）に粘着剤層で粘着したバランスウエイトを、被着体を傷付けることなく効率よく容易に剥ぎ取ることができる粘着式バランスウエイトの剥ぎ取り器具を提供する。
【解決手段】 把持部と該把持部より二股状に分岐する支持部材と、該支持部材の先端間に張設した線状体とより成り、被着体に粘着したバランスウエイトの粘着剤層と被着体との間に線状体を引き入れ又は押し入れて、被着体よりバランスウエイトを剥ぎ取ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理物をステージ兼接地電極の固体誘電体層として代用するプラズマ処理装置において、空気の処理空間への微量混入を防止する。
【解決手段】第１ステージ部２１の第１金属表面２１ａを被処理物９にて覆う。第２ステージ部２２の固体誘電体層２５の内側誘電部２６を被処理物９の外周部９ｅにて覆う。処理ヘッド１０をステージ２０に対し相対移動させながら、吹き出しノズル１５から処理ガスを吹き出し、電極１１とステージ２０との間に電界を印加する。ステージ２０には、内側誘電部２６の表面から延びてステージ２０の処理ヘッド１０と対向する側以外の面へ抜ける通気孔２９を設ける。好ましくは、第１ステージ部２１と第２ステージ部２２との対向面どうし間に間隙を形成し、これを通気孔２９とする。 （もっと読む）

【課題】配線基板の表面に付着した異物を配線基板に再付着させることなく、良好に除去することが可能な配線基板の異物除去装置および異物除去方法を提供すること。
【解決手段】
第１の電圧に帯電された帯電ブラシ３のブラシ面を配線基板１の表面に摺動させることにより、配線基板１の表面の異物８を帯電ブラシ３に付着させて除去するようになした。配線基板１の表面に強固に付着した異物８や配線基板１の表面に形成された微小な凹部内に入り込んだ異物８も帯電ブラシ３により掻き出されるとともにクーロン力により帯電ブラシ３に吸着されるので、異物８が飛散したり配線基板１に再付着したりすることがなく、配線基板１の異物８の除去を良好に行なうことができる。 （もっと読む）

プラズマ発生装置は、電力を供給される第１の電極と、第１の電極の前に位置付けされた第２の電極構造を備える。絶縁層が、第１の電極と第２の電極構造の間にはさまれている。第２の電極構造は、ギャップ部分をその間に画定する複数の第２の電極部分を有する。ギャップ部分の幅はｗである。第２の電極部分各々は前表面を有し、さらにギャップ部分各々は前表面を有し、各第２の電極部分の前表面と隣接するギャップ部分の前表面との間の高差はｈであり、さらに、ｈは最大でも１ｍｍで、比ｗ／ｈは少なくとも１である。したがって、第２の電極部分の前表面とギャップ部分の前表面は一緒に滑らかなトポグラフィを形成する。本装置によって発生されたプラズマ（空気または他の酸素含有気体中の）は、オゾンを形成し、そのオゾンは、例えば食品を処理するために使用可能である。滑らかなトポグラフィによって、全てのプラズマが実質的に包装容器の内部に発生するようになり、その包装容器の壁は第２の電極構造の方へ押されている。
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【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）