マスク部材の洗浄装置
【課題】レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制する。
【解決手段】マスク部材１を位置調整手段２１により位置調整可能な昇降部材１１に装着して、マスク板２に対してレーザ光照射手段１５におけるレーザ発振器１３からのレーザ光をスキャニング光学系１５によって、マスク板２の主走査方向に微小移動させながらレーザ光のパルスを照射し、１ライン分の走査が終了すると、副走査方向に１ピッチ分ずらせて走査を継続するようになし、マスク板２の全面にレーザ光のスポットを照射することによりドライ洗浄を行うに当って、ドライ洗浄開始前に撮像手段２０によりマスク部材１のアラインメントマークＭを基準として、レーザ光の微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されるように位置調整する。
【解決手段】マスク部材１を位置調整手段２１により位置調整可能な昇降部材１１に装着して、マスク板２に対してレーザ光照射手段１５におけるレーザ発振器１３からのレーザ光をスキャニング光学系１５によって、マスク板２の主走査方向に微小移動させながらレーザ光のパルスを照射し、１ライン分の走査が終了すると、副走査方向に１ピッチ分ずらせて走査を継続するようになし、マスク板２の全面にレーザ光のスポットを照射することによりドライ洗浄を行うに当って、ドライ洗浄開始前に撮像手段２０によりマスク部材１のアラインメントマークＭを基準として、レーザ光の微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されるように位置調整する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板表面に真空蒸着を行った後の金属製のマスク部材を洗浄するためのマスク部材の洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、有機ＥＬディスプレイの製造に当っては、パネル基板の表面にＲ，Ｇ，Ｂに発光する発光素子のパターンを形成する。各色の発光素子は有機材料から形成され、そのパターン形成は真空蒸着法によるのが一般的である。この真空蒸着に用いられるのがマスク部材である。マスク部材はマスク板とマスクフレームとから構成される。マスク板はニッケル―コバルト合金等からなり、数十μｍ程度の厚みからなる金属薄板で構成され、マスクパターンとして、多数の微小な透孔を微小ピッチ間隔で有するものである。マスク板は四角形の部材からなり、その保形性を図り、取り扱い時にマスク板の変形や損傷を防止するために、マスクフレームが取り付けられている。
【０００３】
このマスク部材はパネル基板に対する真空蒸着を行う際には、真空チャンバ内でパネル基板の表面にマスク部材をアラインメントさせた状態にして対向配設し、蒸発源から蒸着物質を気化させて、マスク部材を介してパネル基板に付着させることによって、パネル基板の表面に所定の薄膜発光素子のパターンを形成する。従って、有機ＥＬディスプレイを構成する場合には、パネル基板の表面にＲ，Ｇ，Ｂの３色の薄膜発光素子のパターンが形成される。
【０００４】
真空蒸着時には、パネル基板だけでなく、マスク部材にも蒸着物質が付着する。同じマスク部材を用いて複数回蒸着を行うと、マスク部材の表面に付着した蒸着物質が積層状態で成長する結果、厚みが増大する。このように、蒸着物質の厚みが大きくなると、透孔によるパターン形状が変化する等、製品の品質が低下してしまう。そこで、マスク部材を使用して所定の回数だけ真空蒸着を行うと、このマスク部材をクリーニング乃至洗浄して、表面に付着している蒸着物質を除去して再生を行うようにする。
【０００５】
マスク部材の洗浄方式としては、溶剤を貯留した洗浄槽にマスク部材を浸漬させて行うウエット式超音波洗浄がある。しかしながら、マスク部材を長い時間洗浄液に浸漬させると、超音波による熱の影響から、マスク板にダメージが発生することがあり、また洗浄槽の汚損が発生し、その排液処理の負担が大きくなる等の問題点がある。
【０００６】
マスク部材の他の洗浄方式としてドライ洗浄方式が、例えば特許文献１の記載から明らかなように、従来から知られている。即ち、マスク部材を構成するマスク板にレーザ光のパルスを照射することによって、膜状となってマスク板の表面に付着している蒸着物質を剥離して回収するものである。このマスク板からの剥離は、マスク板に作用するレーザ光の振動等に起因するものであり、マスク板に照射されるレーザ光のパルスを微小スポットとするために、集光レンズでスポット径を絞るようになし、マスク板の表面に沿ってＸ，Ｙ方向に移動させることによって、このマスク板の全面をドライ洗浄する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１９２４２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
マスク板は多数の微小透孔が穿設されており、この微小透孔は所定のピッチ間隔をもって縦横に配置している。従って、マスク板にレーザ光を照射したときに、その照射位置が微小透孔の部位と、微小透孔が存在しない部位と、微小透孔と透孔のない部位との境界部とでは、マスク板に作用するレーザ光のエネルギが変化する。従って、照射されるレーザ光のパワーに変化がなくても、照射位置によっては、マスク板からの蒸着物質の剥離効率が変化する。特に、微小透孔にレーザ光が照射されると、剥離効率が低下することになる。つまり、レーザ光の照射スポットとマスク板の微小透孔の位置との関係から、剥離むらが発生する可能性がある。
【０００９】
ところで、マスク部材を洗浄する場合、マスク板とマスクフレームとの境界部及びマスクフレームの表面にも蒸着物質が付着しており、このためにドライ洗浄だけでなく、ドライ洗浄の後に洗浄液を用いたウエット洗浄が行われることになる。従って、ドライ洗浄時に剥離効率の低下や剥離むらが多少あったとしても、マスク部材の清浄化という観点からは格別問題はない。しかしながら、マスク板に蒸着物質の剥離残りがあると、ウエット洗浄工程に持ち越されることになり、蒸着物質の回収率の低下を来し、また洗浄液の汚損度合いが高くなる等といった問題点がある。後段でウエット洗浄を行うにしても、ドライ洗浄を行う以上、洗浄効率を最大限に発揮することが望まれる。
【００１０】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前述した目的を達成するために、本発明は、所定のパターンをもって微小透孔を穿設したマスク板からなる蒸着マスク部材に付着している蒸着物質を除去するために、レーザ光照射手段からのレーザ光を照射して、このレーザ光を前記マスク板の表面を走査することによって、前記蒸着物質を剥離してマスク部材を洗浄する装置であって、前記マスク部材の所定の位置に設けられているアラインメントマークを認識するアラインメントマーク認識手段と、前記アラインメントマーク認識手段により検出した前記マスク部材の位置に応じて、前記レーザ光照射手段による前記マスク部材へのレーザ光の照射位置を制御する制御手段とを備える構成としたことをその特徴とするものである。
【００１２】
レーザ光をマスク板に照射するに当って、その照射位置はマスク板から蒸着物質をできるだけ効率的に剥離できる位置とする。マスク板には多数の微小透孔が形成されているが、これら微小透孔は規則的に配列されている。従って、最も剥離効率が高い位置にレーザ光を照射するためには、レーザ光の照射開始位置と、照射パルスの間隔とを適正に設定しなければならない。このために、ドライ洗浄を行う前に、マスク部材とレーザ光照射手段との間でアラインメントを行う。一般に、有機ＥＬディスプレイを製造する際には、パネル基板にＲ，Ｇ，Ｂの各色の薄膜発光素子が所定のパターンとなるように形成される。マスク部材はパネル基板に積層されるが、パネル基板とマスク部材との間でアラインメントするために、各色のマスク部材にはそれぞれ所定の位置にアラインメントマークが設けられている。本発明においては、マスク部材の位置を認識するために、このアラインメントマークを手懸りとする。
【００１３】
アラインメントマークを検出して、レーザ光照射手段とマスク部材との間を位置合わせする。このためにアラインメントマーク認識手段が設けられ、このアラインメントマーク認識手段はマスク部材のアラインメントマークを画像認識する。そして、レーザ光照射手段とマスク部材との位置合わせはレーザ光照射手段により光学的に行うことができ、マスク部材乃至またはレーザ光照射手段の少なくとも一方を位置調整可能な構成とすることもできる。例えば、マスク部材を支持部材に支持させ、この支持部材に直交２軸からなる位置調整機構を持たせるようになし、アラインメントマークが基準位置からずれていると、位置調整機構を作動させて、位置調整を行うようにすることができる。この場合おいて、洗浄対象となるマスク部材を予め設定した基準位置に配置することができる。支持部材はマスク部材を水平状態に支持するように構成することができ、また垂直状態のように立てた状態にして支持するように構成しても良い。
【００１４】
レーザ光照射手段によるマスク部材へのレーザ光の照射位置はマスク板に付着している蒸着物質を効率的に剥離し、かつ剥離むらが最小限となる位置とする。マスク板にはマスクパターンをパネル基板に転写するための微小透孔が所定のピッチ間隔をもって配設されており、このために一般にマスク板は格子状となっている。格子の部分にレーザ光を照射すると、レーザ光のエネルギは透孔から抜けることなく、そのほぼ全体がマスク板に作用することになる。できるだけ格子の部分に照射することによって、剥離効率が高くなり、迅速なドライ洗浄が可能になる。レーザ光のスポット径と微小透孔のサイズとの関係で、格子の交差部毎にレーザ光を照射するようになし、微小透孔のサイズが大きい場合には、格子の交差部間の位置の１乃至複数箇所にレーザ光を照射するのがより望ましい。
【００１５】
パネル基板に対しては、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色用として、３種類のマスク部材により蒸着が行われる。これら３種類のマスク部材についは、各マスク板における微小透孔の位置が異なってくる。従って、各マスク部材のドライ洗浄を行う際には、それぞれレーザ光の照射位置を調整しなければならない。そこで、制御装置では、これら各種のマスク部材について、レーザ光の照射位置及び間隔に関するデータを保持しておき、マスク部材の種類に応じて、このデータを読み出して、レーザ光照射手段によるレーザ光の照射位置の制御を行うようにする。
【００１６】
また、同一のドライ洗浄装置において、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類のマスク部材をドライ洗浄するだけでなく、種類やサイズの異なるマスク部材も洗浄処理が行われることがある。微小透孔の大きさやピッチ間隔が異なるものである場合には、レーザ光の照射位置の間隔を変化させる必要がある。照射パルスの周波数そのものを制御することもできるが、パルス周波数を一定にして走査速度を変化させることもできる。即ち、レーザ光の照射間隔を広げる場合には、レーザ光の走査速度を速くし、照射間隔を狭める場合には、レーザ光の走査速度を遅くするように制御すれば良い。
【発明の効果】
【００１７】
マスク部材に対して、レーザ光照射手段によりマスク板にレーザ光を照射してドライ洗浄を行うに当って、マスク板におけるレーザ光の照射位置を制御することによって、剥離効率が高く、しかも剥離むらの発生を最小限に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明において、クリーニングの対象となるマスク部材の平面図である。
【図２】マスク部材を装着して基板表面に真空蒸着を行っている状態を示す要部拡大断面図である。
【図３】ドライ洗浄装置の概略構成図である。
【図４】マスク板と、このマスク板へのレーザ光のスポットとの関係を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。まず、図１において、１はマスク部材であり、マスク部材１は、四角形状のマスク板２と、このマスク板２の周囲に設けた枠体からなるマスクフレーム３とから構成されている。マスク板２には、微小透孔４ａを所定のピッチ間隔をもって縦横に多数配列したマスクパターン領域４を有するものであり、従ってマスク板２は微小透孔４ａを区画形成する縦横の格子４ｂ部を有している。
【００２０】
マスク部材１は、図２に示したように、透明な薄板ガラスからなるパネル基板５の表面に所定のパターンを形成するために用いられるものであって、有機ＥＬディスプレイを構成する場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂに発光する発光素子のパターンを形成するために用いられる。各色の発光素子は有機材料から形成され、そのパターン形成は真空蒸着法により行われる。パネル基板５は真空蒸着チャンバの内部において、加熱されている蒸発源と対向配設することによって、蒸発源からの蒸着物質を気化させて、パネル基板５の表面に蒸着膜６が成膜される。このパネル基板５への成膜パターンを形成するためにマスク部材１が用いられる。
【００２１】
マスク部材１は、そのマスク板２がパネル基板５に重ね合わされる。真空蒸着が行われると、マスク板２だけでなくマスクフレーム３を含めたマスク部材１全体に蒸着物質からなる蒸着膜６が膜状に付着することになる。この蒸着物質の付着は、蒸着回数を重ねる毎に堆積して、ある程度まで蒸着物質が堆積すると、微小透孔４ａによるパターン形状を変化させることになり、パターンの転写精度が低下することになる。そこで、この微小透孔４ａによるパターン形状が変化する前にクリーニングを行って、マスク部材１の表面に付着している蒸着物質膜７を除去するようにしなければならない。蒸着物質が付着するのは、マスク板２における微小透孔４ａの壁面を含めて、真空蒸着時に蒸発源に対向する表面１ａの全面であって、マスクフレーム３にも蒸着物質膜７が付着する。また、マスク部材１の裏面側１ｂにも多少の蒸着物質が付着することもある。
【００２２】
ここで、マスク板２の表面に付着している蒸着物質膜７を除去するために、レーザ光の照射によるドライ洗浄が行われる。このドライ洗浄装置の全体概略構成を図３に示す。このドライ洗浄装置では、マスク部材２を鉛直方向に立てた状態で、このマスク部材２を構成するマスク板２のマスクパターン領域４へのレーザ光の照射によるドライ洗浄が行われる。
【００２３】
ドライ洗浄ステージＳには、一対のポスト１０，１０が設けられており、ポスト１０，１０間には昇降部材１１が設けられている。昇降部材１１は側部ガイド部１１ａ，１１ａと、ボトム受け部１１ｂとから構成されている。両側部ガイド部１１ａには、スライドガイド１２が設けられており、マスク部材１は、そのマスクフレーム３の左右両側部がスライドガイド１２に挿通可能となっており、マスク部材１はボトム受け部１１ｂに当接する位置まで落し込まれて、この昇降部材１１に支持される。従って、昇降部材１１がマスク部材１を昇降可能に支持する支持部材となる。そして、昇降部材１１の側部ガイド部１１ａはポスト１０のガイド溝１０ａに係合しており、このガイド溝１０ａに沿って上下移動することになる。従って、マスク部材１は鉛直状態にして支持されることになる。
【００２４】
ドライ洗浄は、昇降部材１１に支持されているマスク部材１をスポット的に急速加熱することにより行われる。このために、レーザ光のパルスを出射するレーザ発振器１３が設けられている。このレーザ発振器１３からのパルス状のレーザ光の光路はスキャニング光学系１４により曲折されて、マスク部材１に照射されるようになっている。ここで、スキャニング光学系１４は、例えば集光レンズとガルバノミラー及びその駆動用アクチュエータとから構成され、これらレーザ発振器１３とスキャニング光学系１４とでレーザ光照射手段１５が構成される。
【００２５】
ここで、マスク部材１に対しては、そのマスク板２における少なくともマスクパターン領域４の全体がドライ洗浄される。マスク部材１は鉛直状態に装着されているので、スキャニング光学系１４はマスク板１に対してレーザパルスの照射位置を水平方向（主走査方向）と、垂直方向、つまり主走査方向と直交する副走査方向に走査させるが、これら主走査方向及び副走査方向へのレーザスポットの移動はスキャニング光学系１４により行われることになる。
【００２６】
レーザ光の走査はマスク部材１の表面１ａに対して行われるものであって、マスク板２の表面の付着物は破砕されて、マスク板２から遊離することになるが、このように遊離した付着蒸着物質の砕片及び薄片を回収する回収手段を備えている。この回収手段は、マスク部材１の幅方向の全長に及ぶように負圧吸引力を作用させる負圧吸引手段としての長尺ノズル１７を有するものである。長尺ノズル１７は、昇降部材１１に保持されているマスク部材１の幅方向の全長に及ぶ長さを有するスリット状のノズル口を有する吸引ノズルである。
【００２７】
なお、長尺ノズル１７は、ポスト１０のレーザ照射の障害にならない位置に固定しておいても良い。若しくは、図示しない移動機構によって、レーザ照射位置に合わせて、照射位置の下側付近、即ち剥離物質を回収する効率が概ね最大となる位置に移動させるようにしても良い。
【００２８】
ところで、マスク部材１のマスク板２は、既に説明したように、そのマスクパターン領域４において、微小透孔４ａが形成されており、この微小透孔４ａの周囲は格子部４ｂとなっている。そして、このマスク板２に照射されるレーザ光はエネルギを集中させるために、微小スポットとなるものであり、この微小スポットＳの全体または一部が、図４（ａ）に示したように、微小透孔４ａの領域内に照射されると、その分のエネルギがマスク板２に作用しないことになる。その結果、マスク板２の表面からの付着蒸着物質を効率的に剥離・除去することはできない。一方、図４（ｂ）に示したように、微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されると、特に縦横の格子の交点位置に照射されると、レーザ光のほぼ全パワーがマスク板２に作用する結果、図４（ａ）で示した場合より付着蒸着物質の剥離効率は高くなる。
【００２９】
以上のように、レーザ光照射手段１５を構成するレーザ発振器１３からスキャニング光学系１４を介してマスク板２に照射されるレーザ光の照射位置によっては、付着蒸着物質の剥離効率に差が生じることになる。また、レーザ光の照射位置によっては剥離むらが生じることもある。ここで、剥離効率及びマスク板２のダメージ防止等の観点から、できるだけマスク板２の縦横の格子の交点位置にレーザ光を照射するようにする。
【００３０】
ここで、マスク板２を一定の位置に固定し、レーザ光の照射開始位置がマスク板２の基準となる位置とし、レーザ光の走査方向を設定し、さらにレーザ光の照射間隔を制御することによって、レーザ発振器１３からのレーザ光をマスク板２の所望位置に照射することができるようになる。このためには、まずレーザ光照射手段１５とスライドガイド１２により昇降部材１１に支持されているマスク部材１との間でアラインメントを行う必要がある。
【００３１】
マスク部材１には、図１に示したように、マスクフレーム３の４つの角隅部にアラインメントマークＭが設けられている。そこで、これらのアラインメントマークＭを撮像手段２０により撮影して、画像処理を行うことによって、各アラインメントマークＭの基準位置からのずれを検出して、位置調整手段２１によりにより微小位置調整を行うことができるようになっている。なお、位置調整手段２１によるマスク部材１の位置調整機構の具体的な構成は、従来から周知であるので、その図示及び説明は省略する。
【００３２】
従って、位置調整手段２１によるマスク部材１の位置調整は、撮像手段２０によるアライメントマークＭの位置に関する信号に基づいて位置調整手段２１を駆動することによって、マスク部材１を所定の位置に配置することができる。その結果、ドライ洗浄時におけるマスク板２の姿勢状態が一定になり、またレーザ光の走査方向が設定される。
【００３３】
一方、マスク部材１は、Ｒ，Ｇ，Ｂ用によっては微小透孔４ａの位置が異なっているものの、同じパネル基板に使用される３種類のマスク部材１は、縦横における各微小透孔４ａのピッチ間隔は一般に一定である。従って、同じパネル基板５に形成されるＲ，Ｇ，Ｂ各色のマスク部材は、レーザ光の照射パルス間隔は一定であるものの、レーザ光の照射開始位置が異なってくる。また、サイズまたは種類の異なるパネル基板に使用されるマスク部材の場合には、レーザ光の照射開始位置及びレーザ光の照射パルス間隔が異なるものである。
【００３４】
ここで、スキャニング光学系１４としては、ガルバノミラーから構成されており、主走査方向へのレーザ光を走査させるが、ガルバノミラーの初期位置と、回転速度とを変化させれば、任意の位置に、任意の間隔でレーザ光を照射することができる。従って、ドライ洗浄されるマスク部材の種類に応じて、スキャニング光学系１４によるレーザ光の走査開始位置及び照射パルス間隔を自在に調整することができる。
【００３５】
以上の構成を有するドライ洗浄装置を用いてマスク部材１のドライ洗浄を行うには、マスク部材１のマスクフレーム３を昇降部材１１の側部ガイド部１１ａに差し込むようにして支持させて、マスク部材１を所定の高さ位置に保持する。この状態で、撮像手段２０によりマスク部材１のアライメントマークＭを撮像する。ここで、撮像手段２０はマスク部材１に４箇所設けられているアラインメントマークＭの全てを撮影すると、最も正確に検出できるが、少なくとも２箇所のアラインメントマークＭを検出することによって、マスク部材１の位置検出を行うことができる。アラインメントマークＭの位置が基準位置からずれていた場合には、位置調整手段２１を駆動することによって、マスク部材１が所定の位置の位置となるように調整される。その結果、マスク板２の姿勢状態が一定になり、またレーザ光の走査方向が設定されることになる。
【００３６】
レーザ光の照射開始位置は、マスク部材１の種類により異なっている。同じパネル基板５に用いられるマスク部材であっても、Ｒ，Ｇ，Ｂ用のものでは、微小透孔４ａの位置が違ってくる。従って、同じパネル基板に使用される３種類のマスク部材１の場合には、レーザ光の照射開始位置のみが異なってくる。また、サイズまたは種類の異なるパネル基板に使用されるマスク部材に対しては、照射開始位置だけでなく、レーザ光の照射パルス間隔も調整する。このために、ガルバノミラーの初期位置だけでなく、回転速度も変化させる。レーザ光の照射間隔を短くする場合には、ガルバノミラーの回転速度を遅くするようになし、またレーザ光の照射間隔を長くするには、ガルバノミラーの回転速度を増速する。
【００３７】
マスク部材１の位置検出が行われ、スキャニング光学系１４を制御して、レーザ光の走査開始位置とガルバノミラーの回転速度とが設定されると、レーザ発振器１３からレーザ光のパルスを出射させる。このレーザ光により、マスク部材１の微小領域が瞬間的に加熱される。その結果、マスク板２の表面から付着蒸着物質を剥離させることができ、長尺ノズル１７の作用により剥離して浮遊する蒸着物質を吸引して回収する。また、この吸引力によって、マスク板２から浮いた状態で、なおかつ部分的に付着している蒸着物質をマスク板２から引き離すこともできる。そして、スキャニング光学系１４によりレーザ光のスポットを所定の速度で主走査方向に移動させることによって、マスク板２における格子部４ｂに対して、特に格子の交差部位を含む部位に対してレーザ光のスポットが照射され、マスク板２から高い効率で、蒸着物質をむらなく剥離し、かつ回収することができる。
【００３８】
主走査ラインの１ライン分のレーザ光の走査が行われると、スキャニング光学系１４を副走査方向に１ライン分移動させる。そして、このときに、主走査ラインにおける走査は、前回の走査とは反対方向に向けて行う。これによって、動作の迅速性が確保され、効率的な洗浄が可能になる。
【００３９】
マスク板２の全領域の走査が終了して、このマスク板２に対するドライ洗浄が終了すると、昇降部材１１からマスク部材１を取り出し、新たなマスク部材１を昇降部材１１に装着する。ドライ洗浄が終了したマスク部材２は、なおマスクフレーム３に蒸着物質が付着しており、またマスク板２に対しても、完全には蒸着物質が除去されないこともある。そこで、ドライ洗浄が終了した後には、洗浄液に浸漬する等によって、ウエット洗浄を行うのが望ましい。予めドライ洗浄によって、マスク板２から大半の蒸着物質が除去されているので、ウエット洗浄は短時間で良く、しかも洗浄液が蒸着物質で汚損される度合いが小さくなる。
【００４０】
なお、マスク板２のサイズがスキャニング光学系１４で走査できる範囲より大きい場合には、マスク部材１のマスク板２を複数領域に分割して前述したと同様の照射を行うことができる。この場合は、マスク板２とスキャニング光学系１４の位置を相対的に移動できるようにすれば良い。即ち、昇降部材１１や、図示しない駆動機構によってマスク部材１を図３のＺまたはＹ方向に移動させても良く、図示しない駆動機構によりスキャニング光学系１４をＸ，Ｚ方向に移動させても良く、或いは両者を移動させても良い。
【００４１】
以上によりマスク部材１におけるマスク板２へのレーザ光を効率的に作用させることができて、効率的にしかも迅速にドライ洗浄することができるようになり、しかもマスク板２に与えるダメージを最小限のものとなし、剥離むらを起こさないようにしてドライ洗浄を行うことができる。
【符号の説明】
【００４２】
１ マスク部材 ２ マスク板
３ マスクフレーム ４ マスクパターン領域
４ａ 微小透孔 ４ｂ 格子部
１０ ポスト １１ 昇降部材
１３ レーザ発振器 １４ スキャニング光学系
１５ レーザ光照射手段 １７ 長尺ノズル
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板表面に真空蒸着を行った後の金属製のマスク部材を洗浄するためのマスク部材の洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、有機ＥＬディスプレイの製造に当っては、パネル基板の表面にＲ，Ｇ，Ｂに発光する発光素子のパターンを形成する。各色の発光素子は有機材料から形成され、そのパターン形成は真空蒸着法によるのが一般的である。この真空蒸着に用いられるのがマスク部材である。マスク部材はマスク板とマスクフレームとから構成される。マスク板はニッケル―コバルト合金等からなり、数十μｍ程度の厚みからなる金属薄板で構成され、マスクパターンとして、多数の微小な透孔を微小ピッチ間隔で有するものである。マスク板は四角形の部材からなり、その保形性を図り、取り扱い時にマスク板の変形や損傷を防止するために、マスクフレームが取り付けられている。
【０００３】
このマスク部材はパネル基板に対する真空蒸着を行う際には、真空チャンバ内でパネル基板の表面にマスク部材をアラインメントさせた状態にして対向配設し、蒸発源から蒸着物質を気化させて、マスク部材を介してパネル基板に付着させることによって、パネル基板の表面に所定の薄膜発光素子のパターンを形成する。従って、有機ＥＬディスプレイを構成する場合には、パネル基板の表面にＲ，Ｇ，Ｂの３色の薄膜発光素子のパターンが形成される。
【０００４】
真空蒸着時には、パネル基板だけでなく、マスク部材にも蒸着物質が付着する。同じマスク部材を用いて複数回蒸着を行うと、マスク部材の表面に付着した蒸着物質が積層状態で成長する結果、厚みが増大する。このように、蒸着物質の厚みが大きくなると、透孔によるパターン形状が変化する等、製品の品質が低下してしまう。そこで、マスク部材を使用して所定の回数だけ真空蒸着を行うと、このマスク部材をクリーニング乃至洗浄して、表面に付着している蒸着物質を除去して再生を行うようにする。
【０００５】
マスク部材の洗浄方式としては、溶剤を貯留した洗浄槽にマスク部材を浸漬させて行うウエット式超音波洗浄がある。しかしながら、マスク部材を長い時間洗浄液に浸漬させると、超音波による熱の影響から、マスク板にダメージが発生することがあり、また洗浄槽の汚損が発生し、その排液処理の負担が大きくなる等の問題点がある。
【０００６】
マスク部材の他の洗浄方式としてドライ洗浄方式が、例えば特許文献１の記載から明らかなように、従来から知られている。即ち、マスク部材を構成するマスク板にレーザ光のパルスを照射することによって、膜状となってマスク板の表面に付着している蒸着物質を剥離して回収するものである。このマスク板からの剥離は、マスク板に作用するレーザ光の振動等に起因するものであり、マスク板に照射されるレーザ光のパルスを微小スポットとするために、集光レンズでスポット径を絞るようになし、マスク板の表面に沿ってＸ，Ｙ方向に移動させることによって、このマスク板の全面をドライ洗浄する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１９２４２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
マスク板は多数の微小透孔が穿設されており、この微小透孔は所定のピッチ間隔をもって縦横に配置している。従って、マスク板にレーザ光を照射したときに、その照射位置が微小透孔の部位と、微小透孔が存在しない部位と、微小透孔と透孔のない部位との境界部とでは、マスク板に作用するレーザ光のエネルギが変化する。従って、照射されるレーザ光のパワーに変化がなくても、照射位置によっては、マスク板からの蒸着物質の剥離効率が変化する。特に、微小透孔にレーザ光が照射されると、剥離効率が低下することになる。つまり、レーザ光の照射スポットとマスク板の微小透孔の位置との関係から、剥離むらが発生する可能性がある。
【０００９】
ところで、マスク部材を洗浄する場合、マスク板とマスクフレームとの境界部及びマスクフレームの表面にも蒸着物質が付着しており、このためにドライ洗浄だけでなく、ドライ洗浄の後に洗浄液を用いたウエット洗浄が行われることになる。従って、ドライ洗浄時に剥離効率の低下や剥離むらが多少あったとしても、マスク部材の清浄化という観点からは格別問題はない。しかしながら、マスク板に蒸着物質の剥離残りがあると、ウエット洗浄工程に持ち越されることになり、蒸着物質の回収率の低下を来し、また洗浄液の汚損度合いが高くなる等といった問題点がある。後段でウエット洗浄を行うにしても、ドライ洗浄を行う以上、洗浄効率を最大限に発揮することが望まれる。
【００１０】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前述した目的を達成するために、本発明は、所定のパターンをもって微小透孔を穿設したマスク板からなる蒸着マスク部材に付着している蒸着物質を除去するために、レーザ光照射手段からのレーザ光を照射して、このレーザ光を前記マスク板の表面を走査することによって、前記蒸着物質を剥離してマスク部材を洗浄する装置であって、前記マスク部材の所定の位置に設けられているアラインメントマークを認識するアラインメントマーク認識手段と、前記アラインメントマーク認識手段により検出した前記マスク部材の位置に応じて、前記レーザ光照射手段による前記マスク部材へのレーザ光の照射位置を制御する制御手段とを備える構成としたことをその特徴とするものである。
【００１２】
レーザ光をマスク板に照射するに当って、その照射位置はマスク板から蒸着物質をできるだけ効率的に剥離できる位置とする。マスク板には多数の微小透孔が形成されているが、これら微小透孔は規則的に配列されている。従って、最も剥離効率が高い位置にレーザ光を照射するためには、レーザ光の照射開始位置と、照射パルスの間隔とを適正に設定しなければならない。このために、ドライ洗浄を行う前に、マスク部材とレーザ光照射手段との間でアラインメントを行う。一般に、有機ＥＬディスプレイを製造する際には、パネル基板にＲ，Ｇ，Ｂの各色の薄膜発光素子が所定のパターンとなるように形成される。マスク部材はパネル基板に積層されるが、パネル基板とマスク部材との間でアラインメントするために、各色のマスク部材にはそれぞれ所定の位置にアラインメントマークが設けられている。本発明においては、マスク部材の位置を認識するために、このアラインメントマークを手懸りとする。
【００１３】
アラインメントマークを検出して、レーザ光照射手段とマスク部材との間を位置合わせする。このためにアラインメントマーク認識手段が設けられ、このアラインメントマーク認識手段はマスク部材のアラインメントマークを画像認識する。そして、レーザ光照射手段とマスク部材との位置合わせはレーザ光照射手段により光学的に行うことができ、マスク部材乃至またはレーザ光照射手段の少なくとも一方を位置調整可能な構成とすることもできる。例えば、マスク部材を支持部材に支持させ、この支持部材に直交２軸からなる位置調整機構を持たせるようになし、アラインメントマークが基準位置からずれていると、位置調整機構を作動させて、位置調整を行うようにすることができる。この場合おいて、洗浄対象となるマスク部材を予め設定した基準位置に配置することができる。支持部材はマスク部材を水平状態に支持するように構成することができ、また垂直状態のように立てた状態にして支持するように構成しても良い。
【００１４】
レーザ光照射手段によるマスク部材へのレーザ光の照射位置はマスク板に付着している蒸着物質を効率的に剥離し、かつ剥離むらが最小限となる位置とする。マスク板にはマスクパターンをパネル基板に転写するための微小透孔が所定のピッチ間隔をもって配設されており、このために一般にマスク板は格子状となっている。格子の部分にレーザ光を照射すると、レーザ光のエネルギは透孔から抜けることなく、そのほぼ全体がマスク板に作用することになる。できるだけ格子の部分に照射することによって、剥離効率が高くなり、迅速なドライ洗浄が可能になる。レーザ光のスポット径と微小透孔のサイズとの関係で、格子の交差部毎にレーザ光を照射するようになし、微小透孔のサイズが大きい場合には、格子の交差部間の位置の１乃至複数箇所にレーザ光を照射するのがより望ましい。
【００１５】
パネル基板に対しては、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色用として、３種類のマスク部材により蒸着が行われる。これら３種類のマスク部材についは、各マスク板における微小透孔の位置が異なってくる。従って、各マスク部材のドライ洗浄を行う際には、それぞれレーザ光の照射位置を調整しなければならない。そこで、制御装置では、これら各種のマスク部材について、レーザ光の照射位置及び間隔に関するデータを保持しておき、マスク部材の種類に応じて、このデータを読み出して、レーザ光照射手段によるレーザ光の照射位置の制御を行うようにする。
【００１６】
また、同一のドライ洗浄装置において、Ｒ，Ｇ，Ｂの３種類のマスク部材をドライ洗浄するだけでなく、種類やサイズの異なるマスク部材も洗浄処理が行われることがある。微小透孔の大きさやピッチ間隔が異なるものである場合には、レーザ光の照射位置の間隔を変化させる必要がある。照射パルスの周波数そのものを制御することもできるが、パルス周波数を一定にして走査速度を変化させることもできる。即ち、レーザ光の照射間隔を広げる場合には、レーザ光の走査速度を速くし、照射間隔を狭める場合には、レーザ光の走査速度を遅くするように制御すれば良い。
【発明の効果】
【００１７】
マスク部材に対して、レーザ光照射手段によりマスク板にレーザ光を照射してドライ洗浄を行うに当って、マスク板におけるレーザ光の照射位置を制御することによって、剥離効率が高く、しかも剥離むらの発生を最小限に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明において、クリーニングの対象となるマスク部材の平面図である。
【図２】マスク部材を装着して基板表面に真空蒸着を行っている状態を示す要部拡大断面図である。
【図３】ドライ洗浄装置の概略構成図である。
【図４】マスク板と、このマスク板へのレーザ光のスポットとの関係を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。まず、図１において、１はマスク部材であり、マスク部材１は、四角形状のマスク板２と、このマスク板２の周囲に設けた枠体からなるマスクフレーム３とから構成されている。マスク板２には、微小透孔４ａを所定のピッチ間隔をもって縦横に多数配列したマスクパターン領域４を有するものであり、従ってマスク板２は微小透孔４ａを区画形成する縦横の格子４ｂ部を有している。
【００２０】
マスク部材１は、図２に示したように、透明な薄板ガラスからなるパネル基板５の表面に所定のパターンを形成するために用いられるものであって、有機ＥＬディスプレイを構成する場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂに発光する発光素子のパターンを形成するために用いられる。各色の発光素子は有機材料から形成され、そのパターン形成は真空蒸着法により行われる。パネル基板５は真空蒸着チャンバの内部において、加熱されている蒸発源と対向配設することによって、蒸発源からの蒸着物質を気化させて、パネル基板５の表面に蒸着膜６が成膜される。このパネル基板５への成膜パターンを形成するためにマスク部材１が用いられる。
【００２１】
マスク部材１は、そのマスク板２がパネル基板５に重ね合わされる。真空蒸着が行われると、マスク板２だけでなくマスクフレーム３を含めたマスク部材１全体に蒸着物質からなる蒸着膜６が膜状に付着することになる。この蒸着物質の付着は、蒸着回数を重ねる毎に堆積して、ある程度まで蒸着物質が堆積すると、微小透孔４ａによるパターン形状を変化させることになり、パターンの転写精度が低下することになる。そこで、この微小透孔４ａによるパターン形状が変化する前にクリーニングを行って、マスク部材１の表面に付着している蒸着物質膜７を除去するようにしなければならない。蒸着物質が付着するのは、マスク板２における微小透孔４ａの壁面を含めて、真空蒸着時に蒸発源に対向する表面１ａの全面であって、マスクフレーム３にも蒸着物質膜７が付着する。また、マスク部材１の裏面側１ｂにも多少の蒸着物質が付着することもある。
【００２２】
ここで、マスク板２の表面に付着している蒸着物質膜７を除去するために、レーザ光の照射によるドライ洗浄が行われる。このドライ洗浄装置の全体概略構成を図３に示す。このドライ洗浄装置では、マスク部材２を鉛直方向に立てた状態で、このマスク部材２を構成するマスク板２のマスクパターン領域４へのレーザ光の照射によるドライ洗浄が行われる。
【００２３】
ドライ洗浄ステージＳには、一対のポスト１０，１０が設けられており、ポスト１０，１０間には昇降部材１１が設けられている。昇降部材１１は側部ガイド部１１ａ，１１ａと、ボトム受け部１１ｂとから構成されている。両側部ガイド部１１ａには、スライドガイド１２が設けられており、マスク部材１は、そのマスクフレーム３の左右両側部がスライドガイド１２に挿通可能となっており、マスク部材１はボトム受け部１１ｂに当接する位置まで落し込まれて、この昇降部材１１に支持される。従って、昇降部材１１がマスク部材１を昇降可能に支持する支持部材となる。そして、昇降部材１１の側部ガイド部１１ａはポスト１０のガイド溝１０ａに係合しており、このガイド溝１０ａに沿って上下移動することになる。従って、マスク部材１は鉛直状態にして支持されることになる。
【００２４】
ドライ洗浄は、昇降部材１１に支持されているマスク部材１をスポット的に急速加熱することにより行われる。このために、レーザ光のパルスを出射するレーザ発振器１３が設けられている。このレーザ発振器１３からのパルス状のレーザ光の光路はスキャニング光学系１４により曲折されて、マスク部材１に照射されるようになっている。ここで、スキャニング光学系１４は、例えば集光レンズとガルバノミラー及びその駆動用アクチュエータとから構成され、これらレーザ発振器１３とスキャニング光学系１４とでレーザ光照射手段１５が構成される。
【００２５】
ここで、マスク部材１に対しては、そのマスク板２における少なくともマスクパターン領域４の全体がドライ洗浄される。マスク部材１は鉛直状態に装着されているので、スキャニング光学系１４はマスク板１に対してレーザパルスの照射位置を水平方向（主走査方向）と、垂直方向、つまり主走査方向と直交する副走査方向に走査させるが、これら主走査方向及び副走査方向へのレーザスポットの移動はスキャニング光学系１４により行われることになる。
【００２６】
レーザ光の走査はマスク部材１の表面１ａに対して行われるものであって、マスク板２の表面の付着物は破砕されて、マスク板２から遊離することになるが、このように遊離した付着蒸着物質の砕片及び薄片を回収する回収手段を備えている。この回収手段は、マスク部材１の幅方向の全長に及ぶように負圧吸引力を作用させる負圧吸引手段としての長尺ノズル１７を有するものである。長尺ノズル１７は、昇降部材１１に保持されているマスク部材１の幅方向の全長に及ぶ長さを有するスリット状のノズル口を有する吸引ノズルである。
【００２７】
なお、長尺ノズル１７は、ポスト１０のレーザ照射の障害にならない位置に固定しておいても良い。若しくは、図示しない移動機構によって、レーザ照射位置に合わせて、照射位置の下側付近、即ち剥離物質を回収する効率が概ね最大となる位置に移動させるようにしても良い。
【００２８】
ところで、マスク部材１のマスク板２は、既に説明したように、そのマスクパターン領域４において、微小透孔４ａが形成されており、この微小透孔４ａの周囲は格子部４ｂとなっている。そして、このマスク板２に照射されるレーザ光はエネルギを集中させるために、微小スポットとなるものであり、この微小スポットＳの全体または一部が、図４（ａ）に示したように、微小透孔４ａの領域内に照射されると、その分のエネルギがマスク板２に作用しないことになる。その結果、マスク板２の表面からの付着蒸着物質を効率的に剥離・除去することはできない。一方、図４（ｂ）に示したように、微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されると、特に縦横の格子の交点位置に照射されると、レーザ光のほぼ全パワーがマスク板２に作用する結果、図４（ａ）で示した場合より付着蒸着物質の剥離効率は高くなる。
【００２９】
以上のように、レーザ光照射手段１５を構成するレーザ発振器１３からスキャニング光学系１４を介してマスク板２に照射されるレーザ光の照射位置によっては、付着蒸着物質の剥離効率に差が生じることになる。また、レーザ光の照射位置によっては剥離むらが生じることもある。ここで、剥離効率及びマスク板２のダメージ防止等の観点から、できるだけマスク板２の縦横の格子の交点位置にレーザ光を照射するようにする。
【００３０】
ここで、マスク板２を一定の位置に固定し、レーザ光の照射開始位置がマスク板２の基準となる位置とし、レーザ光の走査方向を設定し、さらにレーザ光の照射間隔を制御することによって、レーザ発振器１３からのレーザ光をマスク板２の所望位置に照射することができるようになる。このためには、まずレーザ光照射手段１５とスライドガイド１２により昇降部材１１に支持されているマスク部材１との間でアラインメントを行う必要がある。
【００３１】
マスク部材１には、図１に示したように、マスクフレーム３の４つの角隅部にアラインメントマークＭが設けられている。そこで、これらのアラインメントマークＭを撮像手段２０により撮影して、画像処理を行うことによって、各アラインメントマークＭの基準位置からのずれを検出して、位置調整手段２１によりにより微小位置調整を行うことができるようになっている。なお、位置調整手段２１によるマスク部材１の位置調整機構の具体的な構成は、従来から周知であるので、その図示及び説明は省略する。
【００３２】
従って、位置調整手段２１によるマスク部材１の位置調整は、撮像手段２０によるアライメントマークＭの位置に関する信号に基づいて位置調整手段２１を駆動することによって、マスク部材１を所定の位置に配置することができる。その結果、ドライ洗浄時におけるマスク板２の姿勢状態が一定になり、またレーザ光の走査方向が設定される。
【００３３】
一方、マスク部材１は、Ｒ，Ｇ，Ｂ用によっては微小透孔４ａの位置が異なっているものの、同じパネル基板に使用される３種類のマスク部材１は、縦横における各微小透孔４ａのピッチ間隔は一般に一定である。従って、同じパネル基板５に形成されるＲ，Ｇ，Ｂ各色のマスク部材は、レーザ光の照射パルス間隔は一定であるものの、レーザ光の照射開始位置が異なってくる。また、サイズまたは種類の異なるパネル基板に使用されるマスク部材の場合には、レーザ光の照射開始位置及びレーザ光の照射パルス間隔が異なるものである。
【００３４】
ここで、スキャニング光学系１４としては、ガルバノミラーから構成されており、主走査方向へのレーザ光を走査させるが、ガルバノミラーの初期位置と、回転速度とを変化させれば、任意の位置に、任意の間隔でレーザ光を照射することができる。従って、ドライ洗浄されるマスク部材の種類に応じて、スキャニング光学系１４によるレーザ光の走査開始位置及び照射パルス間隔を自在に調整することができる。
【００３５】
以上の構成を有するドライ洗浄装置を用いてマスク部材１のドライ洗浄を行うには、マスク部材１のマスクフレーム３を昇降部材１１の側部ガイド部１１ａに差し込むようにして支持させて、マスク部材１を所定の高さ位置に保持する。この状態で、撮像手段２０によりマスク部材１のアライメントマークＭを撮像する。ここで、撮像手段２０はマスク部材１に４箇所設けられているアラインメントマークＭの全てを撮影すると、最も正確に検出できるが、少なくとも２箇所のアラインメントマークＭを検出することによって、マスク部材１の位置検出を行うことができる。アラインメントマークＭの位置が基準位置からずれていた場合には、位置調整手段２１を駆動することによって、マスク部材１が所定の位置の位置となるように調整される。その結果、マスク板２の姿勢状態が一定になり、またレーザ光の走査方向が設定されることになる。
【００３６】
レーザ光の照射開始位置は、マスク部材１の種類により異なっている。同じパネル基板５に用いられるマスク部材であっても、Ｒ，Ｇ，Ｂ用のものでは、微小透孔４ａの位置が違ってくる。従って、同じパネル基板に使用される３種類のマスク部材１の場合には、レーザ光の照射開始位置のみが異なってくる。また、サイズまたは種類の異なるパネル基板に使用されるマスク部材に対しては、照射開始位置だけでなく、レーザ光の照射パルス間隔も調整する。このために、ガルバノミラーの初期位置だけでなく、回転速度も変化させる。レーザ光の照射間隔を短くする場合には、ガルバノミラーの回転速度を遅くするようになし、またレーザ光の照射間隔を長くするには、ガルバノミラーの回転速度を増速する。
【００３７】
マスク部材１の位置検出が行われ、スキャニング光学系１４を制御して、レーザ光の走査開始位置とガルバノミラーの回転速度とが設定されると、レーザ発振器１３からレーザ光のパルスを出射させる。このレーザ光により、マスク部材１の微小領域が瞬間的に加熱される。その結果、マスク板２の表面から付着蒸着物質を剥離させることができ、長尺ノズル１７の作用により剥離して浮遊する蒸着物質を吸引して回収する。また、この吸引力によって、マスク板２から浮いた状態で、なおかつ部分的に付着している蒸着物質をマスク板２から引き離すこともできる。そして、スキャニング光学系１４によりレーザ光のスポットを所定の速度で主走査方向に移動させることによって、マスク板２における格子部４ｂに対して、特に格子の交差部位を含む部位に対してレーザ光のスポットが照射され、マスク板２から高い効率で、蒸着物質をむらなく剥離し、かつ回収することができる。
【００３８】
主走査ラインの１ライン分のレーザ光の走査が行われると、スキャニング光学系１４を副走査方向に１ライン分移動させる。そして、このときに、主走査ラインにおける走査は、前回の走査とは反対方向に向けて行う。これによって、動作の迅速性が確保され、効率的な洗浄が可能になる。
【００３９】
マスク板２の全領域の走査が終了して、このマスク板２に対するドライ洗浄が終了すると、昇降部材１１からマスク部材１を取り出し、新たなマスク部材１を昇降部材１１に装着する。ドライ洗浄が終了したマスク部材２は、なおマスクフレーム３に蒸着物質が付着しており、またマスク板２に対しても、完全には蒸着物質が除去されないこともある。そこで、ドライ洗浄が終了した後には、洗浄液に浸漬する等によって、ウエット洗浄を行うのが望ましい。予めドライ洗浄によって、マスク板２から大半の蒸着物質が除去されているので、ウエット洗浄は短時間で良く、しかも洗浄液が蒸着物質で汚損される度合いが小さくなる。
【００４０】
なお、マスク板２のサイズがスキャニング光学系１４で走査できる範囲より大きい場合には、マスク部材１のマスク板２を複数領域に分割して前述したと同様の照射を行うことができる。この場合は、マスク板２とスキャニング光学系１４の位置を相対的に移動できるようにすれば良い。即ち、昇降部材１１や、図示しない駆動機構によってマスク部材１を図３のＺまたはＹ方向に移動させても良く、図示しない駆動機構によりスキャニング光学系１４をＸ，Ｚ方向に移動させても良く、或いは両者を移動させても良い。
【００４１】
以上によりマスク部材１におけるマスク板２へのレーザ光を効率的に作用させることができて、効率的にしかも迅速にドライ洗浄することができるようになり、しかもマスク板２に与えるダメージを最小限のものとなし、剥離むらを起こさないようにしてドライ洗浄を行うことができる。
【符号の説明】
【００４２】
１ マスク部材 ２ マスク板
３ マスクフレーム ４ マスクパターン領域
４ａ 微小透孔 ４ｂ 格子部
１０ ポスト １１ 昇降部材
１３ レーザ発振器 １４ スキャニング光学系
１５ レーザ光照射手段 １７ 長尺ノズル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンをもって微小透孔を穿設したマスク板からなる蒸着マスク部材に付着している蒸着物質を除去するために、レーザ光照射手段からのレーザ光を照射して、このレーザ光を前記マスク板の表面を走査することによって、前記蒸着物質を剥離してマスク部材を洗浄する装置において、
前記マスク部材の所定の位置に設けられているアラインメントマークを認識するアラインメントマーク認識手段と、
前記アラインメントマーク認識手段により検出した前記マスク部材の位置に応じて、前記レーザ光照射手段による前記マスク部材へのレーザ光の照射位置を制御する制御手段と
を備える構成としたことを特徴とするマスク部材の洗浄装置。
【請求項２】
前記マスク部材または前記レーザ光照射手段の少なくともいずれかの位置を調整する位置調整手を有し、前記制御手段は前記アラインメントマークの画像認識に基づいて、前記位置調整手段により前記マスク部材と前記レーザ光照射手段の位置を相対的に修正する構成としたことを特徴とする請求項１記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項３】
前記制御手段により制御されるレーザ光の照射位置は、前記微小透孔を避けた位置とすることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項４】
前記レーザ光照射手段による前記マスク部材へのレーザ光の照射位置は前記マスク板の格子の部位とする構成としたことを特徴とする請求項３記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項５】
前記マスク部材は昇降部材に垂直状態にして支持されるものであり、前記スキャニング光学系はガルバノミラーを用いたものであることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項１】
所定のパターンをもって微小透孔を穿設したマスク板からなる蒸着マスク部材に付着している蒸着物質を除去するために、レーザ光照射手段からのレーザ光を照射して、このレーザ光を前記マスク板の表面を走査することによって、前記蒸着物質を剥離してマスク部材を洗浄する装置において、
前記マスク部材の所定の位置に設けられているアラインメントマークを認識するアラインメントマーク認識手段と、
前記アラインメントマーク認識手段により検出した前記マスク部材の位置に応じて、前記レーザ光照射手段による前記マスク部材へのレーザ光の照射位置を制御する制御手段と
を備える構成としたことを特徴とするマスク部材の洗浄装置。
【請求項２】
前記マスク部材または前記レーザ光照射手段の少なくともいずれかの位置を調整する位置調整手を有し、前記制御手段は前記アラインメントマークの画像認識に基づいて、前記位置調整手段により前記マスク部材と前記レーザ光照射手段の位置を相対的に修正する構成としたことを特徴とする請求項１記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項３】
前記制御手段により制御されるレーザ光の照射位置は、前記微小透孔を避けた位置とすることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項４】
前記レーザ光照射手段による前記マスク部材へのレーザ光の照射位置は前記マスク板の格子の部位とする構成としたことを特徴とする請求項３記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【請求項５】
前記マスク部材は昇降部材に垂直状態にして支持されるものであり、前記スキャニング光学系はガルバノミラーを用いたものであることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のマスク部材のドライ洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−１７７６６４（Ｐ２０１１−１７７６６４Ａ）
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４５２２６（Ｐ２０１０−４５２２６）
【出願日】平成２２年３月２日（２０１０．３．２）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２日（２０１０．３．２）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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