【課題】ゴミの拭き取り能力に優れると共に、一旦捕捉したゴミに対する保持能力にも優れ、清掃効率を向上できる清掃用シートを提供する。
【解決手段】多数の透孔５を有する可撓性シート２と、可撓性シート２の内面側に位置し、静電気によるゴミ吸着能力を有する帯電性シート３とからなり、可撓性シート２の一端部２ａ及び他端部２ｂを帯電性シート３に接合してそれぞれ第１接合部６、第２接合部７を形成する。 （もっと読む）

【課題】汚染をより正確に非破壊的に迅速に検知すること。
【解決手段】汚染検知装置（１）は、汚染状態の検出箇所に光を照射する光源（３）と、光源から照射された光の反射光および透過光の少なくともいずれかの光のスペクトルを検出する受光部（４）と、汚染状態と汚染状態に対応するスペクトルとの関係を示す検量線データを予め記憶する検量線記憶部（１０）と、受光部で検出された光のスペクトルと検量線記憶部に記憶された検量線データとに基づいて、汚染状態を見積もる演算部（７）とを備える。好ましくは、汚染検知装置は、演算部で見積もられた汚染状態に基づいて、汚染を浄化する浄化装置（１５）を制御して汚染を浄化させるフィードバック制御部（１１）をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、センサで受光される真空紫外線の強度と、被照射物へ照射される真空紫外線の強度とを近似させる紫外線照射装置を提供することにある。
【解決手段】
第１の発明に係る紫外線照射装置は、被照射物に対して真空紫外光を出射するエキシマランプと、この真空紫外光を受光すると共に光取込部を備えた光センサと、エキシマランプを取り囲む筐体と、からなる紫外線照射装置において、前記光取込部と前記エキシマランプとの間に、不活性ガスと酸素との混合ガスを吹き出すブロー管を有し、前記光取込部と前記エキシマランプとの距離をＹ１、その間の酸素濃度をＰ１とし、前記エキシマランプと前記被照射物との距離をＹ２、その間の酸素濃度をＰ２とするとき、以下の関係を満たすことを特徴とする。
０．８≦Ｙ２×Ｐ２／Ｙ１×Ｐ１≦１．２ （もっと読む）

【課題】プラズマによる放射器および絶縁管の変質やエッチングを防止する。
【解決手段】上端部が閉塞板１１ｂで閉塞され、下端部が開放端に形成された筒状の筐体３１と、閉塞板１１ｂの内面に立設された筒状の放射器１４と、不活性ガスＧ１を筐体３１内を経由して開放端まで搬送して筐体３１の外部に放出させる絶縁管１１ｃとを備え、筐体３１は内部に供給された反応性ガスＧ２を開放端から外部に放出して開放端の前方に反応性ガス雰囲気を形成する反応性ガス供給路として構成され、放射器１４が供給された高周波信号Ｓ１を放射して、絶縁管１１ｃ内にプラズマ化した不活性ガスＧ１による一次プラズマＰ１を発生させる。一次プラズマＰ１は、絶縁管１１ｃの先端部から反応性ガス雰囲気中に放出されて反応性ガスＧ２をプラズマ化させ、処理対象体６をプラズマ処理するための二次プラズマ等Ｐ２を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 電子機器の基板製造における紫外線洗浄では紫外線照射時間の経過とともに被処理基板が加熱され電子部品の耐熱温度を超えてしまう問題がある。
【解決手段】 設定した洗浄処理時間と被処理基板に搭載される複数の部品の温度を測定し、各々の部品に対し上限温度、下限温度を設定することにより、複数部品の中で最も早く上限温度に到達した信号に対し低圧水銀ランプへの電力供給をオフにし、全ての部品温度が下限温度以下になった場合、低圧水銀ランプへの電力供給をオンにし、部品の耐熱温度を超えないよう所定の洗浄処理時間を満たすまで上記処理を自動で繰り返すことで、熱容量や光エネルギーの吸収率の違いにより各部品の温度上昇傾向が不明であっても、紫外線照射条件を設定することなく電子部品等の故障を起こさず最小の洗浄回数で自動処理が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 除塵装置にて、紙面等のワークに付着した付着力の強い微小異物を効率良く吸引除去できるようにする。
【解決手段】 ブラシロール１のブラシ毛１０をワーク２に接触させ、ワーク２の微小異物３をブラシロール１の回転にてかきとり剥離する。剥離浮遊した微小異物３は、ブラシロール１を覆っているケーシング４に設けたスリット５から吸引する。更に、ブラシロール１のブラシ毛に巻き込まれた微小異物３は、クロススパイラル状に植毛されたブラシロールのロールセル６の植毛されていない部分に形成したロールセル吸引孔７でロール内部に吸引除去する。 （もっと読む）

【課題】従来の洗浄方法でも除去できない灰化物等の汚染物を除去できる高清浄度の洗浄方法の提供。
【解決手段】固形炭酸粒子を被洗浄材に噴射することにより、前記被洗浄材上の付着物を除去した後に、炉内において前記被洗浄材を加熱冷却する加熱冷却工程を含む被洗浄材の洗浄方法であって、前記加熱冷却された被洗浄材を、比抵抗１５ＭΩ以上の純水に浸漬する浸漬工程と、前記浸漬工程において、前記被洗浄材に超音波振動を与える超音波振動工程を含む洗浄方法であり、前記洗浄後に、５０℃以上の窒素雰囲気下で前記被洗浄材を乾燥させる第１乾燥工程を含む洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】基板の両面から塵埃を除去する作業を従来よりも短時間で行える装置を提供する。
【解決手段】装置１は、基板１００を搬送する搬送手段１０と、搬送手段１０により搬送される基板１００を挟むように上下に配置された一対の回転ブラシローラ２１および３１であって、基板１００の搬送方向Ａと交差する方向にそれぞれ延びる一対の回転ブラシローラ２１および３１とを有する。搬送手段１０は、基板１００を搬送するための第１のコンベア１１であって、一対の回転ブラシローラ２１および３１よりも上流側に配置された第１のコンベア１１と、基板１００を搬送するための第２のコンベア１２であって、一対の回転ブラシローラ２１および３１よりも下流側に配置された第２のコンベア１２とを備える。第１のコンベア１１と第２のコンベア１２とは、一対の回転ブラシローラ２１および３１が基板１００に接触可能な隙間１３をあけて配置されている。 （もっと読む）

【課題】第１電極への直流電圧を印加する方式を採用しながら、対向電極を実質的に必要としないプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマエッチング装置は、半導体ウエハＷが収容され、内部が真空排気可能なチャンバ１０と、チャンバ１０内に互いに対向して配置される、上部電極３４および半導体ウエハＷを載置する下部電極１６と、チャンバ１０内に処理ガスを供給する処理ガス供給ユニット６６と、下部電極１６にプラズマ生成用の高周波電力を印加する第１の高周波電源４８およびバイアス用の高周波電力を印加する第２の高周波電源９０と、上部電極３４に正負交互に変化する直流電圧を印加する直流電圧印加ユニット５０とを具備する。 （もっと読む）

本発明は、高圧処理器に関し、本発明による高圧処理器は、高圧の二酸化炭素が内側に供給され、該高圧の二酸化炭素でウェーハを洗浄することができる収納空間部と、該収納空間部の前段で該収納空間部の高さよりさらに高い空間である開閉空間部とを備える本体と；前記本体の収納空間部に固定設置されて前記ウェーハを実装し、前記流入された高圧の二酸化炭素を前記ウェーハの表面に沿って流れるようにして洗浄するウェーハ支持部と；前記本体の開閉空間部の一側を密閉し、且つ、前記ウェーハのローディング及びアンローディングが可能な開口部が設けられたドアカバーと；前記開閉空間部内で上下移動が可能であり、前記ドアカバー側に前後移動が可能なドアと；前記ドアを上下方向に駆動させるドア駆動部と；を含む。このような構成の本発明は、気密部分が高圧の二酸化炭素に露出することを最小化し、気密部の寿命を延長させることができるという効果があり、ドアを上下及び前後に移動させることができるようにして、気密性を向上させると共に、上下駆動時に周辺との摩擦を最小化し、摩耗量を低減し、高圧処理器の寿命を延長させることができ、異物の発生を防止することができるという効果がある。 （もっと読む）

【課題】無電極ランプ１灯に対する負荷を減少させることができ、ランプの長寿命化や省電力化を実現する。
【解決手段】マグネトロン１３からマイクロ波を発生させ、このマイクロ波を筐体１４から同軸ケーブル１８を介して分配器２０に伝送する。分配器２０から同軸ケーブル２２ａ〜２２ｄを介してマイクロ波を分配し、整合器２４ａ〜２４ｄでインピーダンスの整合をそれぞれ行い、バルブ内に紫外線を放射させる放電媒体が封入された無電極ランプ２６が配置されたランプハウス２５からなる複数の紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｄ内に放射する。無電極ランプ２６は、マイクロ波が放電媒体を励起させて紫外線を放射し、反射板２８１，２８２によりはランプハウス２５から、被照射体に照射させるようにした。共通のマグネトロン１３で紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｄの無電極ランプ２６を励起させたことにより、ランプの長寿命化や省電力化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波給電式の複数の無電極ランプの中心軸が同一線上となるように配置する構成で紫外線を照射した場合でも、均一な配光分布を保持したまま照射エリアの拡大を実現する。
【解決手段】電磁シールド機能を有するランプハウス１１に、マグネトロン１３が発生するマイクロ波により紫外線を発光させる放電媒体が封入されている無電極ランプ１２を収納し、ランプハウス１１の下方から外部に紫外線を照射させるスクリーン２１を配置して紫外線照射部１０Ａを構成する。紫外線照射部１０Ａと同構成の紫外線照射部１０Ｂ〜１０Ｅの各無電極ランプ１２を、中心軸が同一線上となるように配置させることで照射エリアの拡大を図る。被照射体の照射エリアの配光が均一となるように、被照射体と紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｅの位置関係を調整する。 （もっと読む）

付着チャンバをｉｎ−ｓｉｔｕプラズマ洗浄する方法および装置が提供される。一実施形態では、真空を中絶させることなく付着チャンバをプラズマ洗浄する方法が提供される。この方法は、付着チャンバ内に配置されたサセプタであり、電気的浮動状態にある付着リングによって周囲を取り囲まれたサセプタ上に基板を配置すること、付着チャンバ内の基板上および付着リング上に金属膜を付着させること、付着リング上に付着した金属膜を、真空を中絶させることなく接地すること、ならびに付着チャンバ内に形成されたプラズマによって、付着リング上の接地された金属膜を再スパッタすることなく、かつ真空を中絶させることなしに、付着チャンバから汚染物質を除去することを含む。 （もっと読む）

【課題】表面処理装置において、被処理物の表面上での処理ガスの流れを調節する。
【解決手段】被処理物９を支持部２１にて処理領域に配置して支持する。第１処理ガス供給系６０Ａにて、処理ガスを被処理物９の相対的に内側の部分に供給する。第２処理ガス供給系６０Ｂにて、処理ガスを被処理物９の相対的に外周側の部分に供給する。第１処理ガス供給系６０Ａの処理ガスの供給流量と第２処理ガス供給系６０Ｂの処理ガスの供給流量を互いに連関させて調節する。好ましくは、第１処理ガス供給系６０Ａの供給流量を第２処理ガス供給系６０Ｂの供給流量より大きくする。 （もっと読む）

【課題】導電体ワークが損傷しにくく、導電体ワークの両面が同時にプラズマ処理されるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０２は、上部電極１０４と、下部電極１１４と、第１の出力端１２６と第２の出力端１２８との間に電気パルスを出力するパルス電源１２４と、第１の出力端１２６と上部電極１０４とを接続する第１の配線１３０と、第２の出力端１２８と下部電極１１４とを接続する第２の配線１３２と、プラズマ領域１９０２をワークＷに通過させワークＷを接地する搬送接地機構１３４とを備える。パルス電源１２４は、第１の出力端１２６及び第２の出力端１２８がグランドから絶縁されたフローティング電源であり、第１の電極１０４、第２の電極１１４、第１の配線１３０及び第２の配線１３２もグランドから絶縁されている。 （もっと読む）

【課題】加工点で発生した蒸発物やプラズマ、粉塵等の、基板内のデバイスを構成する部分に対する付着をより確実に防止し、デバイスとしての品質を低下させることなく薄膜積層ガラス基板の周辺部の不要な薄膜をレーザにより除去する。
【解決手段】薄膜除去装置(A)は、薄膜(51)を下側にして薄膜積層ガラス基板(5)を保持する受ピン(11)と、薄膜積層ガラス基板(5)のガラス板(50)側からガラス板(50)を通し加工部にレーザを当てて薄膜(51)の不要部分を除去するレーザ走査部(4)と、薄膜積層ガラス基板(5)の下方において非加工領域側から薄膜(51)の膜面と平行に気体を供給する気体供給部(2)と、気体供給部(2)で供給された気体と、加工部で生じた蒸発物やプラズマ、粉塵等を含む雰囲気を薄膜(51)の膜面と平行に各辺方向へ流れるように吸引する気体吸引部(3)を備えている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも塵等の異物を除去する除去機構については電気エネルギーの供給を受ける必要がなく、しかも車室フロアに侵入した塵等を効果的に車室外へ排出することができる車室内フロア清掃装置を得る。
【解決手段】車体フロア１４のフロントシート前側には底面が傾斜した凹部２４が形成されており、この凹部２４の上部側にカーペット本体部３０が配設されている。カーペット本体部３０と凹部２４の底壁部２４Ａとの間には、複数本の吊り紐４６が張設されている。吊り紐４６には、複数の錘部４８が吊られている。錘部４８の下面には、ブラシ５０が植設されている。また、凹部２４の底壁部２４Ａの傾斜方向下流側の最深部には、ダストボックス２８が配設されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置に用いる基板の洗浄処理において、基板表面からより多くの異物を除去し、高い洗浄効果が得られる有機ＥＬ装置の製造装置を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置であって、プロセスガスが供給されるチャンバー１と、チャンバー１内に設けられ、被処理基板Ｘを電気的に浮いた状態で保持する基板保持部２と、チャンバー１内のプロセスガスをプラズマ状態にして、被処理基板Ｘに照射する電極３Ａ，３Ｂと、被処理基板Ｘの被処理面Ｘｓに対向する位置と対向しない位置との間を移動可能に設けられた静電吸着部５と、を備え、静電吸着部５は、電圧を印加する外部電源５ａが接続され、プラズマの電荷に起因して被処理基板Ｘ上の異物Ｆが有する電荷と、自身に印加される電圧により発生するプラズマの電荷と逆の電荷と、によって生じる静電力により、異物Ｆを吸着することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化、複雑化を生ずることなく、高い処理効率を維持したまま紫外線処理を行うことが可能な紫外線処理装置を得ることができる。
【解決手段】搬送される基板１に順次紫外線３を照射する紫外線処理を行い下流側装置に搬送する紫外線処理装置において、紫外線３を照射する紫外線照射ユニット４、紫外線照射ユニット４を回転し、紫外線３が基板１に向かう方向となる第一の定位置と、反対方向となる第二の定位置の何れかに移動する回転機構５、及び発生するエラー信号の有無をモニタする検知機能と前記のエラー信号が出た時点で紫外線照射ユニット４を第二の定位置に移動し、消えた時点で第一の定位置に移動する様に回転機構５を制御する制御機能を有する退避動作制御部６を備えた。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成部で発生するプラズマ光が被処理物に照射されるのを防止し、被処理物の変質等を防止する。
【解決手段】吹出しノズル２０の内部の吹出し路２１のプラズマ導入口２１ａをプラズマ生成部１０の放電空間１２に連ね、吹出し口２１ｅを処理空間８に臨ませる。処理ガスを放電空間１２に導入してプラズマ化し、吹出し路２１を経て、吹出し口２１ｅから吹出し、処理空間８の被処理物９０に接触させる。吹出し路２１内には、ガス流通を許容するようにして遮光部材２３を設ける。遮光部材２３によって、プラズマ導入口２１ａから吹出し口２１ｅへ向かう光を遮る。 （もっと読む）