表面処理用ノズル装置
【課題】表面処理用ノズル装置から処理ガスが漏洩するのを防止する。
【解決手段】ノズル装置３の板状の供給溝形成部材１１の主面１１ｆに処理ガス供給溝４０を形成し、主面１１ｆを被覆部材１２で覆い、処理ガス供給溝４０に処理ガスの供給手段４を接続する。開口溝部４２を供給溝形成部材１１の主面１１ｆと交差する先端面に開口させる。更に主面１１ｆ又は被覆部材１２の被覆面１２ｒの処理ガス供給溝４０より外側の部分に外側溝８０を形成し、外側溝８０をガス吸引手段５に接続する。
【解決手段】ノズル装置３の板状の供給溝形成部材１１の主面１１ｆに処理ガス供給溝４０を形成し、主面１１ｆを被覆部材１２で覆い、処理ガス供給溝４０に処理ガスの供給手段４を接続する。開口溝部４２を供給溝形成部材１１の主面１１ｆと交差する先端面に開口させる。更に主面１１ｆ又は被覆部材１２の被覆面１２ｒの処理ガス供給溝４０より外側の部分に外側溝８０を形成し、外側溝８０をガス吸引手段５に接続する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物に処理ガスを吹き付けて表面処理するためのノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１では、プラズマ表面処理装置の電極を覆う誘電体の板（供給溝形成部材）にツリー状の溝が設けられている。ツリー状溝は、１つの溝部から２つ（複数）の溝部が枝分かれし、枝分かれした各溝部が更に２つ（複数）に枝分かれし、この枝分かれが複数次にわたって繰り返され、全体としてツリー状（トーナメント表状）になっている。上記誘電体板（供給溝形成部材）の上記ツリー状溝が形成された面に他の誘電体板（被覆部材）が重ねられている。これにより、上記ツリー状溝が処理ガスの通路になっている。処理ガスは、上記ツリー状溝の枝に沿って分散された後、ツリー状溝の先端側に連なる開口溝を通って吹き出される。これにより、処理ガスの吹き出し幅を大きくできる。この処理ガスが被処理物に接触し、表面処理がなされる。
【特許文献１】特開２００４−１２７８５３号公報
【特許文献２】特開２００２−７５６９２号公報
【特許文献３】実開平５−８９４５１号公報（図３（ｂ））
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上掲特許文献１等の装置では、供給溝形成部材と被覆部材の密着状態や処理ガスの圧力等によっては、ツリー状溝内を通過中の処理ガスの一部が供給溝形成部材と被覆部材との間を通って外部に漏洩することが考えられる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、互いに重ねた２つの板状の部材の一方の重ね合わせ面に処理ガスの供給溝を形成した表面処理装置において、これら板状の部材間から処理ガスが漏洩するのを防止し、雰囲気ガスの汚染や周辺装置の腐食等を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、被処理物に処理ガスを供給するノズル装置において、
処理ガス供給溝が形成された主面と、前記主面と交差する先端面を有し、前記処理ガス供給溝が前記先端面に達する板状の供給溝形成部材と、
前記主面を覆うように前記主面に重ねられる被覆面を有する被覆部材と、
を備え、前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、前記主面と前記被覆面との何れか一方の前記処理ガス供給溝より外側部分には外側溝が形成され、前記外側溝が、（第１の）ガス吸引手段に接続されていることを特徴とする。
この特徴構成によれば、ガス吸引手段の吸引圧が外側溝に導入される。この吸引圧により、供給溝形成部材と被覆部材を強く密着させることができ、処理ガスが処理ガス供給溝から供給溝形成部材と被覆部材の当接面間に漏れるのを防止できる。たとえそのような漏れが生じたとしても、その漏れガスを外側溝で捕捉し、外側溝からガス吸引手段に吸引させることができる。したがって、ノズル装置から雰囲気中に処理ガスが漏れるのを防止でき、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止できる。
【０００５】
前記外側溝が、前記主面又は前記被覆面の前記外側部分の基端部と先端部との間にわたるように設けられていることが好ましい。
これによって、上記処理ガス供給溝から漏れた処理ガスを外側溝で確実に捕捉でき、処理ガスが雰囲気中に漏れ出るのを確実に防止できる。
【０００６】
前記外側溝が、前記処理ガス供給溝の前記先端面より基端側の部分を部分的に囲むように延びていることが好ましい。
これによって、上記処理ガス供給溝から漏れた処理ガスを外側溝で一層確実に捕捉でき、処理ガスが雰囲気中に漏れ出るのを一層確実に防止できる。
【０００７】
前記外側溝の前記先端面側の端部が、前記先端面より基端側に離れて位置していてもよい。
前記外側溝が、前記先端面の前記処理ガス供給溝より外側の部分に達していてもよい。前記先端面の前記処理ガス供給溝より外側の部分には、前記外側溝に連なり、かつ前記先端面の短手方向（第２方向）に延びる端溝が形成されていてもよい。これにより、被処理箇所から前記長手方向の外側へ流れる処理済みガスを前記端溝に入り込ませ、前記外側溝を経て、前記ガス吸引手段に吸引して排気できる。
【０００８】
前記供給溝形成部材の前記主面とは反対側の裏面を覆う第２の被覆部材を更に備え、
前記裏面には、前記先端面の長手方向（第１方向）に延び、かつ前記先端面に達する裏側吸引溝が形成されていることが好ましい。これにより、被処理箇所から裏側方向へ流れる処理済みガスを前記裏側吸引溝から吸引できる。
前記供給溝形成部材には、前記外側溝と前記裏側吸引溝とを連ねる連通孔が形成されていてもよい。これにより、被処理箇所から裏側方向へ流れる処理済みガスを前記裏側吸引溝に入り込ませ、前記外側溝を経て、前記ガス吸引手段に吸引して排気できる。
【０００９】
前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、かつ前記先端面に近づくにしたがって前記先端面の長手方向に広がるよう枝分かれするツリー状の溝部を含んで前記先端面に達していてもよい。
この構造によれば、処理ガスをツリー状の溝部により前記先端面の長手方向に分散させて噴き出すことができる。
ツリー状溝部の枝分かれの段数は１以上が好ましい。
【００１０】
基端部及び外周部をカバーで覆い、前記カバーに第２のガス吸引手段を接続してもよい。
これにより、ノズル装置からガスが漏れたとしても、該漏れガスを、カバーとノズル装置との間の空間に閉じ込めてカバーから外部へ漏れるのを防止でき、更には前記第２吸引手段で吸引し排出できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を一層確実に防止できる。
前記第１ガス吸引手段と前記第２ガス吸引手段とが、共通の吸引手段で構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ノズル装置から雰囲気中に処理ガスが漏れるのを防止でき、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を説明する。
図１〜図９は、本発明の第１実施形態を示したものである。図９に示すように、表面処理装置１は、被処理物配置部２と、ノズル装置３を備えている。配置部２は、ステージやコンベアで構成されている。配置部２上に被処理物９が配置されている。被処理物９は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体ウェハで構成されているが、これに限定されるものではない。表面処理の内容として、エッチング、成膜、洗浄、撥水化、親水化等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１３】
配置部２上の被処理物９は、図示しない移動機構又は配置部２に組み込まれた移動機構によって、ノズル装置３に対し図９の紙面と直交する方向（後記第２方向）に相対移動されるようになっている。被処理物９が移動するのに限られず、ノズル装置３が移動されるようになっていてもよい。相対移動は、１回のみの片道移動でもよく、往復移動でもよく、往復移動を複数回反復してもよい。
【００１４】
図９に示すように、表面処理装置１には処理ガス源４が備えられている。処理ガス源４は、処理内容に応じた処理ガスをノズル装置３に供給する。例えば、シリコンのエッチングの場合、処理ガスは、フッ素系反応成分及び酸化性反応成分を含む。フッ素系反応成分として、ＨＦ、ＣＯＦ２、Ｆ２等が挙げられる。酸化性反応成分として、Ｏ３、Ｏラジカル等が挙げられる。酸化性反応成分としてのＯ３は、オゾナイザーにより生成できる。Ｏラジカル等の酸化性反応成分は、酸素を含む酸素系原料ガスをプラズマ化することによって生成できる。
【００１５】
ＨＦ、ＣＯＦ２等のフッ素系反応成分は、Ｈ２Ｏを添加したフッ素系原料を一対の電極間でプラズマ化（分解、励起、活性化、イオン化を含む）することにより生成できる。フッ素系原料としては、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２等が挙げられる。ＰＦＣとしては、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、Ｃ３Ｆ８等が挙げられる。ＨＦＣとしては、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｈ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ等が挙げられる。Ｈ２Ｏに代えてＯＨ含有化合物を用いてもよい。ＯＨ基含有化合物としては、過酸化水素水、アルコール等が挙げられる。上記フッ素系原料は、希釈ガスで希釈したうえでプラズマ化してもよい。希釈ガスとしては、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスの他、Ｎ２等が挙げられる。
【００１６】
上記プラズマ化は大気圧近傍下で行なうことが好ましい。大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【００１７】
ノズル装置３は、被処理物配置部２の上方に配置されている。ノズル装置３は、水平な第１方向（図９において左右）に延びている。ノズル装置３の第１方向の長さは、被処理物９の第１方向の長さと略同じか少し大きい。
【００１８】
図９に示すように、ノズル装置３の上側部（基端部）及び外周部は、フード状のカバー８によって覆われている。カバー８とノズル装置３との間の空間８ａから吸引路７ａが延びている。吸引路７ａは、第２ガス吸引手段７に接続されている。
【００１９】
図９に示すように、ノズル装置３の上端部にはヘッダ部３０が設けられている。ヘッダ部３０は、３つのヘッダ路３１，３２，３３を有している。３つのヘッダ路３１〜３３は、ノズル装置３の長手方向（第１方向）に間隔を置いて並べられている。ヘッダ部３０の中央部には供給ヘッダ路３１が配置されている。ヘッダ部３０の供給ヘッダ路３１を挟んで一側（図９において左側）に裏側吸引ヘッダ路３２が配置され、他側（図９において右側）に表側吸引ヘッダ路３３が配置されている。
【００２０】
ヘッダ部３０の表側面（図９において紙面手前）には、供給ヘッダ路３１に連なる供給ポート３４と、裏側吸引ヘッダ路３２に連なる裏側吸引ポート３５と、表側吸引ヘッダ路３３に連なる表側吸引ポート３６とが設けられている。
【００２１】
処理ガス源４から供給路４ａが延び、この供給路４ａが供給ポート３４を介して供給ヘッダ路３１に連なっている。
【００２２】
裏側吸引ポート３５から裏側吸引路５ａが延びている。表側吸引ポート３６から表側吸引路５ｄが延びている。これら吸引路５ａ，５ｄが互いに合流している。合流後の共通吸引路５ｇが吸引ポンプを含む第１ガス吸引手段５に連なっている。図示は省略するが、ガス吸引手段５には排ガスの除害設備が付設されている。
なお、第１ガス吸引手段５と上記第２ガス吸引手段７は、１つの共通の吸引手段で構成されていてもよい。
【００２３】
ノズル装置３の構造を更に詳述する。
図４に示すように、ノズル装置３は、第１、第２の溝形成部材１１，１２と、外壁部材２１，２２を備えている。ノズル構成部材１１，１２，２１，２２は、それぞれ長手方向を第１方向に向け、幅方向を上下に向け、厚さ方向を第１方向と直交する水平な第２方向（図４において左右）に向けた板状になっている。
【００２４】
板状部材１１，１２，２１，２２の材質には特に限定がなく、樹脂やセラミックス等の絶縁体でもよく金属でもよいが、処理ガスに対する耐性を有していることが好ましい。例えば、処理ガスが、フッ化水素等のフッ素系反応成分を含む場合、溝形成部材１１，１２の材質として、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。溝形成部材１１，１２の材質として、アルミナ等のセラミックスを用いてもよい。
外壁部材２１，２２は、例えばアルミニウム等の金属で構成されている。
【００２５】
板状部材１１，１２，２１，２２を第２方向（図９の紙面直交方向）から見た輪郭形状及び大きさは、互いに等しい。これら板状部材１１，１２，２１，２２が、裏側（図４の左側、図９の紙面奥側）から裏側外壁部材２１、第１溝形成部材１１、第２溝形成部材１２、表側外壁部材２２の順に第２方向に重ねられ、軸線を第２方向に向けた複数本のボルト（図示省略）にて連結されている。板状部材１１，１２，２１，２２の下端面（先端面）は、互いに面一になっている。
【００２６】
図４に示すように、上記供給ヘッダ路３１は、第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２を貫いている。表側外壁部材２２の表側面に上記供給ポート３４が設けられている。供給ヘッダ路３１の奥端部（供給ポート３４との接続部とは反対側）が裏側外壁部材２１によって塞がれている。
【００２７】
図示は省略するが、同様にして、上記吸引ヘッダ路３２，３３は、第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２を貫いている。表側外壁部材２２の表側面に上記吸引ポート３５，３６が設けられている。吸引ヘッダ路３２，３３の奥端部が裏側外壁部材２１によって塞がれている。
【００２８】
図１〜図４に示すように、ノズル装置３には、処理ガス供給溝４０と、裏側吸引溝５０と、表側吸引溝６０とが形成されている。供給溝４０は、ノズル装置３の第２方向の中央部に配置されている。この供給溝４０の裏側（図４において左側）に上記裏側吸引溝５０が配置され、表側（図４において右側）に上記表側吸引溝６０が配置されている。これら溝４０，５０，６０は平行に並んでいる。図１及び図４に示すように、供給溝４０の上端部は、供給ヘッダ路３１に連なっている。図２及び図５に示すように、裏側吸引溝５０の上端部は、吸引ヘッダ路３２に連なっている。図３及び図６に示すように、表側吸引溝６０の上端部は、吸引ヘッダ路３３に連なっている。
【００２９】
上記溝構造について更に詳述する。
図１に示すように、第１溝形成部材１１の表側の主面１１ｆに上記処理ガス供給溝４０が形成されている。供給溝４０は、ツリー溝部４１と、開口溝部４２とを含む。第１溝形成部材１１は、供給溝形成部材を構成する。
【００３０】
ツリー溝部４１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状（トーナメント表状）になっている。詳述すると、ツリー溝部４１は、供給ヘッダ路３１から１条の状態で下方へ延び、２つ（複数）の一次分岐溝４１ａに分岐している。これら分岐溝４１ａは、互いの分岐部から離間するよう第１方向に延び、先端が下方に折曲している。各一次分岐溝４１ａの先端から２つ（複数）の二次分岐溝４１ｂが第１方向の両側に分岐している。各二次分岐溝４１ｂの先端は下方に折曲し、この二次分岐溝４１ｂの先端から２つの三次分岐溝４１ｃが第１方向の両側に分岐している。各三次分岐溝４１ｃの先端は、下方に折曲し、この三次分岐溝４１ｃの先端から２つ（複数）の最終次分岐溝４１ｅが第１方向の両側に分岐している。最終次分岐溝４１ｅの先端は、下方に折曲している。
【００３１】
最終次分岐溝４１ｅの下側に開口溝部４２が設けられている。開口溝部４２は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部４２の第１方向の長さは、被処理物９の同方向の寸法と略等しいか若干大きい。開口溝部４２に各最終次分岐溝４１ｅの先端部（ツリー溝部４１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部４２は、第１溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。
【００３２】
第１溝形成部材１１の表側の主面１１ｆに第２溝形成部材１２の裏側の主面１２ｒが重ねられ、第１溝形成部材１１に第２溝形成部材１２が被さっている。これにより、供給溝４０の面１１ｆ側の開口が塞がれ、供給溝４０が供給ヘッダ路３１に連なるガス路になっている。第１溝形成部材１１は、特許請求の範囲の供給溝形成部材を構成する。
第２溝形成部材１２は、供給溝形成部材１１の表側の主面１１ｆを覆う被覆部材を構成し、裏側の主面１２ｒは、被覆面を構成する。
【００３３】
図１及び図４に示すように、開口溝部４２の上下方向（溝形成部材の先端面と直交する方向）の中間部の内面には、凸条４７が形成されている。凸条４７は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。凸条４７の長手方向の両端部は、開口溝部４２の長手方向の端縁に達している。凸条４７の突出高さ（第２方向の寸法）は、開口溝部４２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条４７と溝形成部材１２との間には、狭い隙間からなる絞り部４８が形成されている。絞り部４８は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。
【００３４】
図２に示すように、第１溝形成部材１１の裏側の主面１１ｒに上記裏側吸引溝５０が形成されている。裏側吸引溝５０は、ツリー溝部５１と、開口溝部５２とを含む。
【００３５】
ツリー溝部５１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状になっている。詳述すると、ツリー溝部５１は、裏側吸引ヘッダ路３２から１条の状態で下方へ延び、複数（ここでは８つ）の分岐溝５１ｅに分岐している。これら分岐溝５１ｅは、互いに第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に間隔を置いて配置され、それぞれ下方へ延びている。
【００３６】
分岐溝５１ｅの下側に開口溝部５２が設けられている。開口溝部５２は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部５２の長さは、上記開口溝部４２の長さと略等しい。開口溝部５２に各分岐溝５１ｅの先端部（ツリー溝部５１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部５２は、第１溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。
【００３７】
図４に示すように、第１溝形成部材１１の裏側面１１ｒに裏側外壁部材２１が被さることにより、裏側吸引溝５０の面１１ｒ側の開口が塞がれている。これにより、裏側吸引溝５０が、裏側吸引ヘッダ路３２に連なるガス路になっている。
裏側外壁部材２１は、第１溝形成部材１１の裏側の主面１１ｒを覆う第２の被覆部材を構成する。
【００３８】
図２及び図４に示すように、開口溝部５２の上下方向の中間部の内面には、凸条５７が形成されている。凸条５７は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。凸条５７の延び方向の両端部は、開口溝部５２の端縁に達している。凸条５７の突出高さ（第２方向の寸法）は、裏側吸引溝５０の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条５７と外壁部材２１との間には、狭い隙間からなる絞り部５８が形成されている。絞り部５８は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。
【００３９】
図３に示すように、第２溝形成部材１２の表側の主面１２ｆに上記表側吸引溝６０が形成されている。表側吸引溝６０は、上記裏側吸引溝５０と同様の構造を有し、ツリー溝部６１と、開口溝部６２とを含む。
【００４０】
ツリー溝部６１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状になっている。詳述すると、ツリー溝部６１は、表側吸引ヘッダ路３３から１条の状態で下方へ延び、複数（ここでは８つ）の分岐溝６１ｅに分岐している。これら分岐溝６１ｅは、互いに第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に間隔を置いて配置され、それぞれ下方へ延びている。
【００４１】
分岐溝６１ｅの下側に開口溝部６２が設けられている。開口溝部６２は、第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部６２の長さは、上記開口溝部４２の長さと略等しい。開口溝部６２に各分岐溝６１ｅの先端部（ツリー溝部６１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部６２は、第２溝形成部材１２の下端面（先端面）に達している。
【００４２】
図４に示すように、第２溝形成部材１２の表側面１２ｆに表側外壁部材２２が被さることにより、第２溝形成部材１２の表側吸引溝６０の面１２ｆ側の開口が塞がれている。これにより、表側吸引溝６０が、表側吸引ヘッダ路３３に連なるガス路になっている。
表側外壁部材２１は、第２溝形成部材１２の表側の主面１２ｆを覆う被覆部材を構成する。
【００４３】
図３及び図４に示すように、開口溝部６２の上下方向の中間部の内面には、凸条６７が形成されている。凸条６７は、第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に延びている。凸条６７の長手方向の両端部は、開口溝部６２の長手方向の端縁に達している。凸条６７の突出高さ（第２方向の寸法）は、表側吸引溝６０の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条６７と表側外壁部材２２との間には、狭い隙間からなる絞り部６８が形成されている。絞り部６８は、第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に延びている。
【００４４】
溝形成部材１１，１２に溝４０，５０，６０，８２，８３を形成する方法としては、切削加工による方法の他、溝４０，５０，６０，８２，８３の型を用いた真空成形法又は射出成形法を適用してもよい。真空成形法や射出成形法によれば、部材重量を低減でき、製造コストを削減できる。
【００４５】
図８に示すように、ノズル装置３は、先端板７０を更に備えている。図４及び図６に示すように、先端板７０は、長手方向を第１方向に向け、幅方向を第２方向に向けた平板状になっている。先端板７０の材質には特に限定がなく、樹脂やセラミックス等の絶縁体でもよく金属でもよいが、処理ガスに対する耐性を有していることが好ましい。ここでは、先端板７０は、アルミナのセラミックスで構成されている。先端板７０は、全体が一体物になっている。
【００４６】
図４に示すように、先端板７０は、板状積層部材１１，１２，２１，２２の面一をなす下端面（先端面）に被せられている。図示は省略するが、先端板７０は、複数本のボルトで各部材１１，１２，２１，２２に固定されている。上記図示省略のボルトは、頭部を上に向けて部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部が先端板７０にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔が先端板７０の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、先端板７０の下面には達していない。
【００４７】
図８に示すように、先端板７０には、３つのスリット７１〜７３が形成されている。スリット７１〜７３は、それぞれ先端板７０の長手方向（第１方向）に直線状に延び、互いに先端板７０の幅方向（第２方向）に間隔を置いて平行に配置されている。先端板７０の幅方向（第２方向）の中央部に供給スリット７１が配置されている。この供給スリット７１の裏側（図６において左側）に裏側吸引スリット７２が配置され、表側（図６において右側）に表側吸引スリット７３が配置されている。
【００４８】
図４に示すように、中央の供給スリット７１は、供給溝４０の開口溝部４２の下端の開口に連なっている。裏側吸引スリット７２は、裏側吸引溝５０の開口溝部５２の下端の開口に連なっている。表側吸引スリット７３は、表側吸引溝６０の開口溝部６２の下端の開口に連なっている。各スリット７１〜７３の長さは、上記開口溝部４２，５２，６２の長さとほぼ等しい。各スリット７１〜７３の幅（第２方向の寸法）は、上記開口溝部４２，５２，６２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。
【００４９】
本発明の最も特徴的な構造を説明する。
図１に示すように、第１溝形成部材すなわち供給溝形成部材１１の表側面１１ｆには、外側溝８０が形成されている。外側溝８０は、第１溝形成部材１１の表側の主面１１ｆの処理ガス供給溝４０より外側部分に配置されている。外側溝８０が、供給溝４０の下端（先端）の開口より上側（基端側）の部分を部分的に囲んでいる。
【００５０】
外側溝８０は、一対の外側溝部８２，８３を含んでいる。外側溝部８２，８３は、供給溝４１の上端部を挟んで溝形成部材１１の長手方向の両側に分かれて配置されている。図１において、供給溝形成部材１１の長手方向の中央部より左側に配置された外側溝部８２は、左側に分岐した分岐溝４１ａ及び該左側分岐溝４１ａの先端に連なる分岐溝４１ｂ〜４１ｅより表側面１１ｆの外側部分（上側及び左側）に配置され、これら分岐溝４１ａ〜４１ｅの外縁に沿うように表側面１１ｆの左外側部分の上端部（基端部）から下端部（先端部）にわたって階段状に延びている。図１及び図５に示すように、外側溝部８２の上端部は、裏側吸引ヘッダ路３２と上記左側分岐溝４１ａとの間に配置され、裏側吸引ヘッダ路３２に連なっている。図１に示すように、外側溝部８２の下端部は、供給溝形成部材１１の左側の外端面と開口溝部４２の左端縁の間に配置され、供給溝形成部材１１の下端面（先端面）の少し上（基端側）に離れて位置している。図５及び図７に示すように、供給溝形成部材１１に被覆部材としての第２溝形成部材１２が被さることにより、外側溝部８２の面１１ｆ側の開口が塞がれている。これにより、外側溝部８２が裏側吸引ヘッダ路３２に連なるガス路になっている。
【００５１】
図１において、供給溝形成部材１１の長手方向の中央部より右側に配置された外側溝部８３は、右側に分岐した分岐溝４１ａ及び該右側分岐溝４１ａの先端に連なる分岐溝４１ｂ〜４１ｅより表側面１１ｆの外側部分（上側及び右側）に配置され、これら分岐溝４１ａ〜４１ｅの外縁に沿うように表側面１１ｆの右外側部分の上端部（基端部）から下端部（先端部）にわたって階段状に延びている。図１及び図６に示すように、外側溝部８３の上端部は、表側吸引ヘッダ路３３と上記右側分岐溝４１ａとの間に配置され、表側吸引ヘッダ路３３に連なっている。図１に示すように、外側溝部８３の下端部は、供給溝形成部材１１の右側の外端面と開口溝部４２の右端縁の間に配置され、供給溝形成部材１１の下端面（先端面）の少し上（基端側）に位置している。図６に示すように、同様にして、外側溝部８３の面１１ｆ側の開口が被覆部材１２にて塞がれ、外側溝部８３が表側吸引ヘッダ路３３に連なるガス路になっている。
【００５２】
上記構成の表面処理装置１によって被処理物９を表面処理する方法を説明する。
処理ガス源４から処理ガスが供給路４ａによってノズル装置３の供給ポート３４に導入される。処理ガスは、供給ヘッダ路３１を通り、ツリー溝部４１内に入り込む。この処理ガスが、一次分岐溝４１ａ、二次分岐溝４１ｂ、三次分岐溝４１ｃ、最終次分岐溝４１ｅの順に流れて行くことにより、第１方向に拡散される。更に、処理ガスは、各最終次分岐溝４１ｅの下端（ツリー溝部４１の末端）から開口溝部４２に送出される。この開口溝部４２の凸条４７より上側部分において、各分岐溝４１ｅからの処理ガスが互いに混合される。続いて、処理ガスは、絞り部４８を通過しながら絞られ、その後、凸条４７より下側の開口溝部４２に流出して膨張する。更に、処理ガスは、供給スリット７１を通過しながら絞られる。これにより、処理ガスを第１方向に十分に均質化できる。そして、処理ガスが供給スリット７１から下方へ噴き出される。
【００５３】
併行して、配置部２上に配置された被処理物９が、ノズル装置３の下方を横切るように第２方向に移動される。この被処理物９に処理ガスが吹き付けられ、被処理物９が表面処理される。処理ガスが第１方向に均質になっているため、被処理物９を均一に表面処理できる。
【００５４】
処理ガスの供給と併行して、吸引手段５を駆動する。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みのガスや雰囲気ガスが、吸引スリット７２，７３に吸い込まれる。
裏側吸引スリット７２及び開口溝部５２が開口溝部４２及び供給スリット７１と同様の構造になっているため、上記噴出時と同様の作用により、裏側吸引スリット７２から吸い込まれるガスの流通状態を第１方向に均一化できる。同じく、表側吸引スリット７３及び開口溝部６２が開口溝部４２及び供給スリット７１と同様の構造になっているため、表側吸引スリット７３から吸い込まれるガスの流通状態を第１方向に均一化できる。これにより、表面処理の均一性を一層高めることができる。
【００５５】
開口溝部５２に入り込んだガスは、その後、複数の分岐溝５１ｅを経てツリー溝部５１で合流し、裏側吸引ヘッダ路３２、裏側吸引ポート３５を経て、裏側吸引路５ａに送出される。同様に、開口溝部６２に入り込んだガスは、分岐溝６１ｅ、表側吸引ヘッダ路３３、表側吸引ポート３６を経て、表側吸引路５ｄに送出される。これら吸引路５ａ，５ｄからのガスが共通吸引路５ｇで合流し吸引手段５に吸引される。吸引ガスは、吸引手段５に付設された除害設備で除害処理を施されたうえで排気される。
【００５６】
ここで、供給溝４０内を通過中の処理ガスの一部が溝形成部材１１，１２の間を伝って外部に漏れようとすることも想定される。このような漏れガス流は、途中で何れかの外側溝部８２又は８３に捕捉される。外側溝部８２には、裏側吸引ヘッダ路３２、裏側吸引ポート３５、及び吸引路５ａ，５ｇを介して吸引手段５の吸引圧が導入されている。したがって、外側溝部８２に入り込んだ漏れガスは、上記吸引圧導入路３２，３５，５ａ，５ｇを順次経て、吸引手段５に送られ、除害処理を施されたうえで排気される。同様に、外側溝部８３には、表側吸引ヘッダ路３３、表側吸引ポート３６、及び吸引路５ｄ，５ｇを介して吸引手段５の吸引圧が導入されている。したがって、外側溝部８３に入り込んだ漏れガスは、上記吸引圧導入路３３，３６，５ｄ，５ｇを順次経て、吸引手段５に送られ、除害処理を施されたうえで排気される。
【００５７】
したがって、供給溝４０から処理ガスの一部が漏れたとしても、この処理ガスがノズル装置３の上側部や外周部から雰囲気ガス中に漏れるのを防止できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止でき、安全性を高めることができる。しかも、外側溝部８２に吸引圧を導入することにより、供給溝形成部材１１と被覆部材１２を強く密着させることができる。したがって、処理ガスが処理ガス供給溝４０から漏れること自体を十分に抑制することができる。
【００５８】
万が一、処理ガスがノズル装置３の外部に漏れたとしても、ノズル装置３がカバー８で囲まれているため、上記の漏れガスをカバー８とノズル装置３との間の空間８に閉じ込め、カバー８から外部へ漏れるのを防止できる。空間８内のガスは、吸引路７ａを介して吸引手段７で吸引し排出できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を一層確実に防止でき、安全性を一層高めることができる。
【００５９】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において、既述の実施形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
【００６０】
図１０は、本発明の第２実施形態を示したものである。この実施形態では、２つの外側溝部８２，８３が、連通外側溝部８１によって連ねられ、全体で１本の外側溝８０になっている。
【００６１】
詳述すると、供給溝形成部材１１の主面１１ｆの上側の中央部に連通外側溝部８１が設けられている。連通外側溝部８１は、供給ヘッダ路３１の上側部分を囲むように逆Ｕ字状になっている。連通外側溝部８１の一方（図１０において左側）の下端部が、外側溝部８２に連なり、他方（図１０において右側）の下端部が外側溝部８３に連なっている。これら溝部８１〜８３により、１本の外側溝８０が構成されている。
【００６２】
第２実施形態によれば、処理ガス供給溝４０の先端（下端）より基端側（上側）の部分が１本の外側溝８０で途切れなく囲まれるため、処理ガスの漏れを一層確実に防止できる。特に、供給ヘッダ路３１や溝４１の上端部付近から漏れた処理ガスを中央の外側溝部８１で捕捉でき、ノズル装置３の外部に漏れるのを確実に防止できる。
【００６３】
図１１及び図１２は、本発明の第３実施形態を示したものである。この実施形態では、外側溝８０が、供給溝形成部材１１の表側の主面１１ｆに代えて、被覆部材１２の裏側の被覆面１２ｒに形成されている。外側溝８０が、図１１において仮想線で示す処理ガス供給溝４０より外側に配置されている点は、第１、第２実施形態と同じである。なお、第３実施形態の外側溝８０は、第２実施形態と同様に２つの外側溝部８２，８３を連ねる連通外側溝部８１を有しているが、第１実施形態と同様に２つの外側溝部８２，８３が分離されていてもよい。
【００６４】
図１２に示すように、供給溝形成部材１１と被覆部材１２とが重ねられることにより、被覆部材１２に形成された外側溝８０の面１２ｒ側の開口が、供給溝形成部材１１の主面１１ｆによって塞がれている。これにより、外側溝８０の内部が吸引通路になっている。
【００６５】
図１３は、本発明の第４実施形態を示したものである。第４実施形態は、ノズル装置３を被処理物９の大型化に対応させたものであり、第１溝形成部材１１が、長手方向（第１方向）に２つ（複数）の分割板１３，１３に分割されている。言い換えると、第１溝形成部材１１が、２つ（複数）の分割板１３，１３で構成されている。隣接する２つの分割板１３，１３の側端面（分割端面）１３ｅ，１３ｅどうしが互いに突き合わされている。２つの分割板１３，１３の第1方向の合計長さが、被処理物９の同方向の寸法に対応している。
以下、２つの分割板１３，１３を互いに区別するときは、図１において左側の分割板１３には符号にＡを付し、右側の分割板１３には符号にＢを付す。
【００６６】
図１３において、左側の分割板１３Ａは、右側の分割板１３Ｂの近傍の部分を除き、第１実施形態（図１）の溝形成部材１１と同じ形状になっている。右側の分割板１３Ｂは、左側の分割板１３Ａの近傍の部分を除き、第１実施形態（図１）の溝形成部材１１を左右に反転させた形状になっている。したがって、分割板１３Ｂの裏側吸引ヘッダ路３２及び外側溝部８２は、該分割板１３Ｂの右側部分に配置されている。分割板１３Ｂの表側吸引ヘッダ路３３及び外側溝部８３は、該分割板１３Ｂの左側部分に配置されている。供給溝形成部材１１の外側溝８０は、全体として４つの外側溝部８２，８３を有している。
【００６７】
分割板１３の形状を更に詳述する。
左側の分割板１３Ａは、開口溝部４２の凸条４７より下側の部分が右側の分割板１３Ｂへの突き合わせ端面１３ｅに達している。右側の分割板１３Ｂは、開口溝部４２の凸条４７より下側の部分が左側の分割板１３Ａへの突き合わせ端面１３ｅに達している。これにより、隣接する２つの分割板１３Ａ，１３Ｂの開口溝部４２，４２どうしが連なっている。これら開口溝部４２，４２の連通部４９は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。
【００６８】
各分割板１３の外側溝部８３の下端部は、端面１３ｅの近傍かつ開口溝部４２より上側に位置している。
【００６９】
図示は省略するが、２つの分割板１３，１３の裏側吸引溝５０，５０の開口溝部５２，５２どうしも同様にして互いに連通している。
【００７０】
さらに、図示は省略するが、第４実施形態では、第２溝形成部材１２についても、同様に２つ（複数）の分割板で構成され、これら分割板の開口溝部６２どうしが連なっている。外壁部材２１，２２は、２つ（複数）の分割板を一体に連ねた形状になっている。先端板７０のスリット７１，７２，７３は、それぞれ２つの開口溝部４２，４２；５２，５２；６２，６２に対応する長さを有し、２つの開口溝部４２，４２；５２，５２；６２，６２に連なっている。供給路４ａは、２つ（複数）に分岐し、各分割板の供給ヘッダ路３１に接続されている。各分割板からの表側吸引路５ａが、互いに合流し、ガス吸引手段５に接続されている。同様に、各分割板からの裏側吸引路５ｄが、互いに合流し、ガス吸引手段５に接続されている。
【００７１】
第４実施形態によれば、処理ガスが、２つの供給ヘッダ路３１，３１にそれぞれ導入され、各分割板１３のツリー溝部４０に通されて第１方向に拡散され、各開口溝部４２に流入する。分割板１３Ａの開口溝部４２に入った処理ガスの分割板１３Ｂ寄りの部分と、分割板１３Ｂの開口溝部４２に入った処理ガスの分割板１３Ａ寄りの部分とは、それぞれ連通部４９に流入して互いに合流する。その後、処理ガスは、供給スリット７１の長手方向の全域から吹き出される。これにより、被処理物９が大型であっても、該被処理物９の第１方向の全体に処理ガスを一度に吹き付け、表面処理することができる。しかも、処理ガスが第１方向に均質化されているため、均一に表面処理できる。特に、処理ガスを連通部４９で合流させたうえで吹き出すため、被処理物９の表面の分割板１３，１３の継ぎ目に対応する箇所の処理抜けを防止でき、処理の均一性を十分に確保できる。
【００７２】
第４実施形態のノズル装置３は、被処理物９の大型化に対応し、ツリー溝部４１，５１，６１をそれぞれ２つ（複数）に分割して第１方向に並べたものである。これによって、ノズル装置全体で各ツリー溝部４１，５１，６１を１つだけ設けて大型の被処理物に対応させるよりもツリー溝部４１，５１，６１の分岐の段数を少なくできる。したがって、溝形成部材１１，１２の高さ（上下方向の寸法）を小さくできる。この結果、ノズル装置３の重量が過大になるのを回避できる。
【００７３】
図１４〜図１６は、本発明の第５実施形態を示したものである。
図１４に示すように、この実施形態では、外側溝部８２の下端部が、第１実施形態より下方へ延び、溝形成部材１１の下端面に達している。図１５（ａ）に示すように、溝形成部材１１の下端面（先端面）の左端部の開口溝部４２，５２より外側部分には、端溝８４が形成されている。端溝８４は、溝形成部材１１の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８４の表側（面１１ｆ側）の端部は、外側溝部８２の下端部に連なっている。端溝８４の裏側（面１１ｒ側）の端部は、面１１ｒに達して開口し、この開口が裏側外壁部材２１で塞がれている。
【００７４】
溝形成部材１２の下端面の左端部の開口溝部６２より外側部分には、端溝８６が形成されている。端溝８６は、溝形成部材１２の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８６の表側（面１２ｆ側）の端部は、面１２ｆに達して開口し、この開口が表側外壁部材２２で塞がれている。端溝８６の裏側の端部は、溝形成部材１２の裏面（溝形成部材１１との当接面）に達し、外側溝部８２及び端溝８４に連なっている。端溝８６と端溝８４は、第２方向に一直線に連なっている。
【００７５】
同様にして、図１４に示すように、外側溝部８３の下端部が、第１実施形態より下方へ延び、溝形成部材１１の下端面に達している。図１５（ｂ）に示すように、溝形成部材１１の下端面の右端部の開口溝部４２，５２より外側部分には、端溝８５が形成されている。端溝８５は、溝形成部材１１の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８５の表側（面１１ｆ側）の端部は、外側溝部８３の下端部に連なっている。端溝８５の裏側（面１１ｒ側）の端部は、面１１ｒに達して開口し、この開口が裏側外壁部材２１で塞がれている。
【００７６】
溝形成部材１２の下端面の右端部の開口溝部６２より外側部分には、端溝８７が形成されている。端溝８７は、溝形成部材１２の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８７の表側（面１２ｆ側）の端部は、面１２ｆに達して開口し、この開口が表側外壁部材２２で塞がれている。端溝８７の裏側の端部は、溝形成部材１２の裏面（溝形成部材１１との当接面）に達し、外側溝部８３及び端溝８５に連なっている。端溝８７と端溝８５は、第２方向に一直線に連なっている。
【００７７】
図１６に示すように、第５実施形態の先端板７０は、４つ（複数）のスリット画成板７４と、一対の端板７５とを備えている。これら板７４，７５は、例えばアルミナ等のセラミックスで構成されている。６つの板７４，７５は、各々別体になっており、互いに分離可能になっている。
【００７８】
各スリット画成板７４は、第１方向に延び、かつ幅方向を第２方向に向けた長尺の平板状になっている。４つのスリット画成板７４が、第２方向に間隔を置いて平行に並べられている。
【００７９】
４つのスリット画成板７４は、板状積層部材１１，１２，２１，２２にそれぞれ一対一に対応し、対応する部材１１，１２，２１，２２の下面（先端面）に被さり、ボルト（図示省略）にて連結されている。上記ボルトは、頭部を上（図１６の紙面奥側）に向けて各部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部がスリット画成板７４にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔がスリット画成板７４の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、スリット画成板７４の下面には達していない。
【００８０】
４つのスリット画成板７４のうち、表側外壁部材２２に対応するものを除く３つのスリット画成板７４の長手方向の両端部には、それぞれ隣りのスリット画成板７４に突出する凸部７６が設けられている。各凸部７６は、隣りのスリット画成板７４に突き当てられている。第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に供給スリット７１が形成されている。裏側外壁部材２１と第１溝形成部材１１に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に裏側吸引スリット７２が形成されている。第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に表側吸引スリット７３が形成されている。凸部７６によってスリット７１，７２，７３の延び方向の端部が画成されている。凸部７６の突き当てによってスリット画成板７４どうしを第２方向に正確かつ容易に位置決めできる。凸部７６の突出量によって、スリット７１〜７３の開口幅を設定することができる。
【００８１】
図１５（ａ）及び図１６に示すように、４つのスリット画成板７４の左側の端縁は、互いに面一をなし、しかも端溝８４，８６の内側（開口溝部４２，５２，６２の側）の縁とちょうど一致している。図１５（ｂ）及び図１６に示すように、４つのスリット画成板７４の右側の端縁は、互いに面一をなし、しかも端溝８５，８７の内側（開口溝部４２，５２，６２の側）の縁とちょうど一致している。
【００８２】
図１６に示すように、先端板７０の一対の端板７５は、ノズル装置３の底面（先端面）の第１方向の両端部に配置され、それぞれ第２方向に延びる平板状になっている。各端板７５は、板状積層部材１１，１２，２１，２２に跨るようにして、これら部材１１，１２，２１，２２の長手方向の端部に被さっている。図示は省略するが、端板７５は、部材１１，１２，２１，２２にボルトで固定されている。端板７５の固定用ボルトは、頭部を上（図９の紙面奥側）に向けて各部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部が端板７５にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔が端板７５の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、端板７５の下面には達していない。
【００８３】
各端板７５の両端部は、裏側外壁部材２１に対応するスリット画成板７４の端面と、表側外壁部材２２に対応するスリット画成板７４の端面とにそれぞれ突き当てられている。端板７５の内側（板７４を向く側）の縁には、細長凹部７５ａが形成されている。細長凹部７５ａは、第２方向に延びている。細長凹部７５ａの延び方向の一端部は、底面視で裏側外壁部材２１と溝形成部材１１の境と一致している。細長凹部７５ａの延び方向の他端部は、底面視で溝形成部材１２と表側外壁部材２２の境と一致している。
【００８４】
図１６において左側の端板７５の細長凹部７５ａの内縁とスリット画成板７４の端面との間に、第２方向に延びる外端吸引スリット７８が画成されている。外端吸引スリット７８は、端溝８４，８６と底面視でちょうど重なり、これら端溝８４，８６に連なっている。外端吸引スリット７８の長手方向（第２方向）の中央部は、外側溝部８２に直接的に連なっている。
【００８５】
図１６において右側の端板７５の細長凹部７５ａの内縁とスリット画成板７４の端面との間に、第２方向に延びる外端吸引スリット７９が画成されている。外端吸引スリット７９は、端溝８５，８７と底面視でちょうど重なり、これら端溝８５，８７に連なっている。外端吸引スリット７９の長手方向（第２方向）の中央部は、外側溝部８３に直接的に連なっている。
【００８６】
第５実施形態によれば、外側溝８０の各溝部８２，８３に吸引圧が導入されることにより、供給溝４０から漏れた処理ガスを外側溝部８２，８３で捕捉できるだけでなく、一方の外側溝部８２への吸引圧が端溝８４，８６にも導入され、他方の外側溝部８３への吸引圧が端溝８５，８７にも導入される。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みガスが、ノズル装置３の左外側へ流れようとすると、外端吸引スリット７８に吸い込まれる。該処理済みのガスは、端溝８４，８６を経て外側溝部８２に吸い込まれ、更にヘッダ路３２、吸引路５ａ，５ｇを経て吸引手段５に吸引される。同様に、ノズル装置３と被処理物９との間から右外側へ流れようとした処理済みガスは、外端吸引スリット７９に吸い込まれ、端溝８５，８７を経て外側溝部８３に入り、更にヘッダ路３３、吸引路５ｄ，５ｇを経て吸引手段５に吸引される。これにより、処理済みガスがノズル装置３の長手方向（第１方向）の両端から外側へ漏れるのを防止できる。
【００８７】
図１７〜図１９は、本発明の第６実施形態を示したものである。図１７に示すように、この実施形態では、溝形成部材１１の裏側の面１１ｒに、第１実施形態（図２）の裏側吸引溝５０に代えて裏側吸引溝５３が形成されている。裏側吸引溝５３は、溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に真っ直ぐ延び、かつ溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。図１９に示すように、裏側外壁部材２１が溝形成部材１１の裏面１１ｒに被さることにより、裏側吸引溝５３の面１１ｒ側の開口が塞がれている。
【００８８】
図１７〜図１９に示すように、溝形成部材１１には、外側溝部８２と裏側吸引溝５３を連ねる連通孔５４が形成されている。連通孔５４は、外側溝部８２から溝形成部材１１の厚さ方向（第２方向）に延び、裏側吸引溝５３の内面に貫通している。図１７及び図１８に示すように、同様にして、溝形成部材１１には、外側溝部８３と裏側吸引溝５３を連ねる連通孔５５が形成されている。連通孔５５は、外側溝部８３から溝形成部材１１の厚さ方向（第２方向）に延び、裏側吸引溝５３の内面に貫通している。
【００８９】
第６実施形態では、外側溝８０の各溝部８２，８３に吸引圧が導入されることにより、供給溝４０から漏れた処理ガスを外側溝部８２，８３で捕捉できるだけでなく、外側溝部８２への吸引圧を連通孔５４を介して裏側吸引溝５３に導入でき、かつ外側溝部８３への吸引圧を連通孔５５を介して裏側吸引溝５３に導入できる。これにより、供給スリット７１の直下から第２方向の外側へ流出しようとする処理済みガスを、裏側吸引溝５３から吸引することができ、連通孔５４，５５、外側溝部８２，８３を経て、吸引手段５にて吸引排気することができる。
【００９０】
図２０〜図２３は、本発明の第７実施形態を示したものである。この実施形態では、ノズル装置３に一対の電極９０，９０が組み込まれ、処理ガスがノズル装置３内でプラズマ化されるようになっている。
詳述すると、図２０及び図２２に示すように、ノズル装置３は、フレーム９４を有している。フレーム９４は、例えばアルミニウム等の金属で構成されている。フレーム９４は、第１方向に延び、底部が開放された容器状になっている。図２１及び図２２に示すように、フレーム９４の内部に供給溝形成部材９１と被覆部材９２が収容されている。２つの部材９１，９２は、例えばアルミナ等のセラミックで構成されている。これら部材９１，９２は、それぞれ第１方向に延びる容器状をなし、互いに第２方向に突き合わされている。
【００９１】
供給溝形成部材９１及び被覆部材９２は、電極９０の収容部材としての役目を担っている。すなわち、供給溝形成部材９１には、被覆部材９２の対向方向とは反対側に開口された収容凹部９１ａが形成されている。被覆部材９２には、供給溝形成部材９１の対向方向とは反対側に開口された収容凹部９２ａが形成されている。これら収容凹部９１ａ，９２ａに電極９０がそれぞれ収容されている。収容凹部９１ａ，９２ａの開口は、それぞれ蓋９３で塞がれている。
【００９２】
図２１に示すように、各電極９０は、第１方向に延びている。図２２に示すように、一方の電極９０は、電源ＰＷに接続されて電界印加電極になっている。他方の電極９０は、電気的に接地され、接地電極になっている。ここでは、供給溝形成部材９１に収容された電極９０が電界印加電極になり、被覆部材９２に収容された電極９０が接地電極になっているが、その逆になっていてもよい。
【００９３】
図２１〜図２３に示すように、供給溝形成部材９１の被覆部材９２側の主面９１ｆに処理ガス供給溝４０が形成されている。処理ガス供給溝４０は、電極９０より少し短い程度に第１方向に延びている。処理ガス供給溝４０の上端部は、供給溝形成部材９１の上面に達し、処理ガス供給溝４０の下端部は、供給溝形成部材９１の下面に達している。処理ガス供給溝４０の平面断面は、上下方向に一定になっている。第７実施形態の処理ガス供給溝４０にはツリー溝部４１が設けられていない。供給溝形成部材９１の主面９１ｆに被覆部材９２の被覆面９２ｒが被さることにより、処理ガス供給溝４０の主面９１ｆ側の開口が塞がれている。
【００９４】
図２０及び図２２に示すように、フレーム９４の上面には、導入スリット９４ａが第１方向に延びるように形成されている。導入スリット９４ａが処理ガス供給溝４０の上端部に連なっている。フレーム９４の上に整流部９５が配置されている。整流部９５は、第１方向に延びる容器状になっている。整流部９５の内部に整流室９５ａが形成されている。図２０に示すように、整流室９５ａは、整流板９６によって上下２室に仕切られている。図２２に示すように、整流板９６の第２方向の両端部と整流部９５の内壁との間には整流室９５ａの上下の室を連ねる隙間が形成されている。
【００９５】
図２０及び図２２に示すように、整流部９５の上部に供給ポート３４を介して処理ガス供給路４ａが接続されている。
【００９６】
処理ガスが供給路４ａから整流室９５ａに導入されて整流される。整流後の処理ガスが、導入スリット９４ａを経て処理ガス供給溝４０に導入される。併行して、電源ＰＷからの電圧供給によって電極９０，９０間に電界が印加され、大気圧グロー放電が生成される。これにより、処理ガスが、供給溝４０内を下方へ流れる過程でプラズマ化され、反応成分が生成される。このプラズマ化された処理ガスが供給溝４０の下端から噴き出され、被処理物９に吹き付けられる。この処理ガスの反応成分が被処理物９に接触することにより、被処理物９を表面処理できる。セラミック（誘電体）からなる部材９１，９２は、電極９０の放電面に配置されて放電を安定させる固体誘電体層として機能する。
【００９７】
更に、第７実施形態では、図２０及び図２１に示すように、供給溝形成部材９１の主面９１ｆの処理ガス供給溝４０より第１方向の両外側部分にそれぞれ外側溝部８２，８３が形成されている。外側溝部８２と外側溝部８３により外側溝８０が構成されている。外側溝部８２，８３は、上下方向に延びている。外側溝部８２，８３の上端部は、供給溝形成部材９１の上面に達し、外側溝部８２，８３の下端部は、供給溝形成部材９１の下面に達している。供給溝形成部材９１の主面９１ｆに被覆部材９２の被覆面９２ｒが被さることにより、外側溝部８２，８３の主面９１ｆ側の開口が塞がれている。
【００９８】
図２０に示すように、フレーム９４の上面の第１方向の両側部には、それぞれ吸引連通孔９４ｂ，９４ｃが形成されている。一方の連通孔９４ｂが外側溝部８２の上端部に連なっている。他方の連通孔９４ｃが外側溝部８３の上端部に連なっている。
【００９９】
整流部９５の内部の第１方向の両側部には、それぞれ隔壁９７が設けられている。隔壁９７によって整流部９５の内部が整流室９５ａと、該整流室９５ａの第１方向の両側の吸引室９５ｂ，９５ｃとに仕切られている。一方の吸引室９５ｂに連通孔９４ｂひいては外側溝部８２が連なっている。他方の吸引室９５ｃに連通孔９４ｃひいては外側溝部８３が連なっている。
【０１００】
吸引室９５ｂは、吸引ポート３５を介し、吸引路５ａに連なっている。吸引室９５ｃは、吸引ポート３６を介し、吸引路５ｄに連なっている。
【０１０１】
更に、図２０、及び図２１の破線に示すように、供給溝形成部材９１の下面の処理ガス供給溝４０より第１方向の両外側には、端溝８４，８５がそれぞれ第２方向に延びるように形成されている。被覆部材９２の下面の処理ガス供給溝４０より第１方向の両外側には、端溝８６，８７がそれぞれ第２方向に延びるように形成されている。図２３に示すように、端溝８４と端溝８６が第２方向に一直線に連なり、かつ外側溝部８２の下端と連なっている。同様に、端溝８５と端溝８７が第２方向に一直線に連なり、かつ外側溝部８３の下端と連なっている。
【０１０２】
吸引手段５（図示せず）の吸引圧が、経路５ａ，９５ｂ，９４ｂを順次経て、外側溝部８２に導入される。これにより、処理ガスが供給溝４０から溝部８２側に漏れた場合、この処理ガスを外側溝部８２で捕捉し、吸引手段５で吸引することができる。また、吸引手段５の吸引圧は、経路５ｄ，９５ｃ，９４ｃを順次経て、外側溝部８３にも導入される。これにより、処理ガスが供給溝４０から溝部８３側に漏れた場合、この処理ガスを外側溝部８３で捕捉し、吸引手段５で吸引することができる。
【０１０３】
更に、上記吸引圧は、外側溝部８２の下端部を経て端溝８４，８６にも導入され、かつ外側溝部８３の下端部を経て端溝８５，８７にも導入される。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みガスが、ノズル装置３の長手方向の外側へ流れようとすると、これらを端溝８４〜８７に吸込み、吸引手段５で吸引することができる。
【０１０４】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、外側溝８０は、上記主面１１ｆと被覆面１２ｒの両方に形成してもよい。外側溝部８２，８３の何れか一方を主面１１ｆに形成し、他方を被覆面１２ｒに形成してもよい。
外側溝８０は、上記主面１１ｆ又は被覆面１２ｒの処理ガス供給溝４０より外側部分に配置されていればよく、面１１ｆ，１２ｒの必ずしも基端部（上端部）から先端部（下端部）にわたって延びている必要はなく、中間部が途切れていてもよく、面１１ｆ，１２ｒの基端部（上端部）のみ若しくは先端部（下端部）のみに設けられていてもよい。外側溝８０は、供給溝４０から処理ガスが漏れて来やすい部分に配置されるのが好ましい。
外側溝８０は、一条に限られず、複数条並べて設けてもよい。
被覆部材１２，９２にも処理ガス供給溝４０を設けてもよい。
【０１０５】
ツリー溝部４１は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に近づくにしたがって第１方向に広がるよう枝分かれしていればよく、１つの幹路から分かれる枝路の数は２つに限られず、３つ以上でもよい。また、枝分かれの段数は適宜、設定できる。ツリー溝部５１，６１についても同様である。
第１〜第５実施形態において、噴出路（４０，７１）と該噴出路を挟む一対の吸引路（５０，７２；６０，７３）との組が、第２方向に並んで複数設けられていてもよい。
第４実施形態（図１３）において、溝形成部材１１が３つ以上の分割板１３で構成されていてもよい。
第４実施形態（図１３）において、各分割板１３の外側溝部８３を端面１３ｅに開口させ、隣接する分割板１３，１３の外側溝部８３，８３どうしを上記端面１３ｅへの開口を介して互いに連通させてもよい。
第４実施形態（図１３）において、溝形成部材１１を構成する２つ（複数）の板１３が一体に連なり、この一体物の溝形成部材１１の表側面に２つ（複数）のツリー溝部４１が第１方向に並んで形成されていてもよい。
【０１０６】
複数の実施形態を互いに組み合わせてもよい。例えば、第２〜第７実施形態においても第１実施形態（図９）と同様に、ノズル装置３を覆うカバー８を設けてもよい。第４実施形態（図１３）においても第５実施形態（図１４）と同様に第１方向の両端の外側溝部８２，８３を溝形成部材１１の先端面まで延ばし、溝形成部材１１の先端面の第１方向の外端部分に端溝８４〜８７を設けてもよい。
第４実施形態（図１３）や第５実施形態（図１４）においても、第２実施形態（図１０）と同様に、外側溝部８２，８３どうしを連通溝８１で連ねてもよい。
第７実施形態（図２０）のツリー溝部を有しない処理ガス供給溝４０を、第１〜第６実施形態の電極９０を有しないノズル装置３に適用してもよい。
第７実施形態において、第２実施形態と同様に、外側溝８０（８２，８３）を供給溝形成部材９１に代えて被覆部材９２に設けてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や半導体ウェハの製造に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を、図４のI-I線に沿って矢視した正面図である。
【図２】上記ノズル装置の主に第１溝形成部材を、図４のII-II線に沿って矢視した背面図である。
【図３】上記ノズル装置の主に第２溝形成部材を、図４のIII-III線に沿って矢視した正面図である。
【図４】図１のIV-IV線に沿う、上記ノズル装置の側面断面図である。
【図５】図１のV-V線に沿う、上記ノズル装置の上側部分の側面断面図である。
【図６】図１のVI-VI線に沿う、上記ノズル装置の上側部分の側面断面図である。
【図７】図１のVII-VII線に沿って上記ノズル装置の一部を拡大して示す平面断面図である。
【図８】上記ノズル装置の底面図である。
【図９】上記表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材（供給溝形成部材）を示す正面図である。
【図１１】本発明の第３実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の第２溝形成部材（被覆部材）の背面図である。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の、図７に対応する平面断面図である。
【図１３】本発明の第４実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を示す正面図である。
【図１４】本発明の第５実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を示す正面図である。
【図１５】（ａ）は、図１４のXVa- XVa線に沿う上記第５実施形態のノズル装置の先端板を省略した底面図である。（ｂ）は、図１４のXVb- XVb線に沿う上記第５実施形態のノズル装置の先端板を省略した底面図である。
【図１６】図１４のXVI- XVI線に沿う上記第５実施形態のノズル装置の底面図である。
【図１７】本発明の第６実施形態を示し、図１９のXVII- XVII線に沿う第１溝形成部材の背面図である。
【図１８】図１９のXVIII- XVIII線に沿う上記第６実施形態のノズル装置の先端板を省略した底面図である。
【図１９】図１７のXIX- XIX線に沿う上記第６実施形態のノズル装置の下側部分の側面断面図である。
【図２０】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２１のXX-XX線に沿う正面断面図である。
【図２１】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２０のXXI-XXI線に沿う平面断面図である。
【図２２】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２０のXXII-XXII線に沿う側面断面図である。
【図２３】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２０のXXIII-XXIII線に沿う側面断面図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１ 表面処理装置
２ 被処理物配置部
３ ノズル装置
４ 処理ガス源
５ ガス吸引手段
７ 第２ガス吸引手段
８ カバー
９ 被処理物
１１ 第１溝形成部材（供給溝形成部材）
１１ｆ 主面
１２ 第２溝形成部材（被覆部材）
１２ｒ 被覆面
２１ 裏側外壁部材（第２の被覆部材）
３０ ヘッダ部
３１ 供給ヘッダ路
３２ 裏側吸引ヘッダ路
３３ 表側吸引ヘッダ路
４０ 処理ガス供給溝
４１ ツリー溝部
４２ 開口溝部
５３ 裏側吸引溝
５４ 連通孔
５５ 連通孔
７０ 先端板
７１ 供給スリット
７２ 裏側吸引スリット
７３ 表側吸引スリット
７５ａ 凹部
７８ 外端吸引スリット
７９ 外端吸引スリット
８０ 外側溝
８１ 連通外側溝部
８２ 外側溝部
８３ 外側溝部
８４ 端溝
８５ 端溝
９０ 電極
９１ 供給溝形成部材
９２ 被覆部材
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物に処理ガスを吹き付けて表面処理するためのノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１では、プラズマ表面処理装置の電極を覆う誘電体の板（供給溝形成部材）にツリー状の溝が設けられている。ツリー状溝は、１つの溝部から２つ（複数）の溝部が枝分かれし、枝分かれした各溝部が更に２つ（複数）に枝分かれし、この枝分かれが複数次にわたって繰り返され、全体としてツリー状（トーナメント表状）になっている。上記誘電体板（供給溝形成部材）の上記ツリー状溝が形成された面に他の誘電体板（被覆部材）が重ねられている。これにより、上記ツリー状溝が処理ガスの通路になっている。処理ガスは、上記ツリー状溝の枝に沿って分散された後、ツリー状溝の先端側に連なる開口溝を通って吹き出される。これにより、処理ガスの吹き出し幅を大きくできる。この処理ガスが被処理物に接触し、表面処理がなされる。
【特許文献１】特開２００４−１２７８５３号公報
【特許文献２】特開２００２−７５６９２号公報
【特許文献３】実開平５−８９４５１号公報（図３（ｂ））
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上掲特許文献１等の装置では、供給溝形成部材と被覆部材の密着状態や処理ガスの圧力等によっては、ツリー状溝内を通過中の処理ガスの一部が供給溝形成部材と被覆部材との間を通って外部に漏洩することが考えられる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、互いに重ねた２つの板状の部材の一方の重ね合わせ面に処理ガスの供給溝を形成した表面処理装置において、これら板状の部材間から処理ガスが漏洩するのを防止し、雰囲気ガスの汚染や周辺装置の腐食等を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、被処理物に処理ガスを供給するノズル装置において、
処理ガス供給溝が形成された主面と、前記主面と交差する先端面を有し、前記処理ガス供給溝が前記先端面に達する板状の供給溝形成部材と、
前記主面を覆うように前記主面に重ねられる被覆面を有する被覆部材と、
を備え、前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、前記主面と前記被覆面との何れか一方の前記処理ガス供給溝より外側部分には外側溝が形成され、前記外側溝が、（第１の）ガス吸引手段に接続されていることを特徴とする。
この特徴構成によれば、ガス吸引手段の吸引圧が外側溝に導入される。この吸引圧により、供給溝形成部材と被覆部材を強く密着させることができ、処理ガスが処理ガス供給溝から供給溝形成部材と被覆部材の当接面間に漏れるのを防止できる。たとえそのような漏れが生じたとしても、その漏れガスを外側溝で捕捉し、外側溝からガス吸引手段に吸引させることができる。したがって、ノズル装置から雰囲気中に処理ガスが漏れるのを防止でき、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止できる。
【０００５】
前記外側溝が、前記主面又は前記被覆面の前記外側部分の基端部と先端部との間にわたるように設けられていることが好ましい。
これによって、上記処理ガス供給溝から漏れた処理ガスを外側溝で確実に捕捉でき、処理ガスが雰囲気中に漏れ出るのを確実に防止できる。
【０００６】
前記外側溝が、前記処理ガス供給溝の前記先端面より基端側の部分を部分的に囲むように延びていることが好ましい。
これによって、上記処理ガス供給溝から漏れた処理ガスを外側溝で一層確実に捕捉でき、処理ガスが雰囲気中に漏れ出るのを一層確実に防止できる。
【０００７】
前記外側溝の前記先端面側の端部が、前記先端面より基端側に離れて位置していてもよい。
前記外側溝が、前記先端面の前記処理ガス供給溝より外側の部分に達していてもよい。前記先端面の前記処理ガス供給溝より外側の部分には、前記外側溝に連なり、かつ前記先端面の短手方向（第２方向）に延びる端溝が形成されていてもよい。これにより、被処理箇所から前記長手方向の外側へ流れる処理済みガスを前記端溝に入り込ませ、前記外側溝を経て、前記ガス吸引手段に吸引して排気できる。
【０００８】
前記供給溝形成部材の前記主面とは反対側の裏面を覆う第２の被覆部材を更に備え、
前記裏面には、前記先端面の長手方向（第１方向）に延び、かつ前記先端面に達する裏側吸引溝が形成されていることが好ましい。これにより、被処理箇所から裏側方向へ流れる処理済みガスを前記裏側吸引溝から吸引できる。
前記供給溝形成部材には、前記外側溝と前記裏側吸引溝とを連ねる連通孔が形成されていてもよい。これにより、被処理箇所から裏側方向へ流れる処理済みガスを前記裏側吸引溝に入り込ませ、前記外側溝を経て、前記ガス吸引手段に吸引して排気できる。
【０００９】
前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、かつ前記先端面に近づくにしたがって前記先端面の長手方向に広がるよう枝分かれするツリー状の溝部を含んで前記先端面に達していてもよい。
この構造によれば、処理ガスをツリー状の溝部により前記先端面の長手方向に分散させて噴き出すことができる。
ツリー状溝部の枝分かれの段数は１以上が好ましい。
【００１０】
基端部及び外周部をカバーで覆い、前記カバーに第２のガス吸引手段を接続してもよい。
これにより、ノズル装置からガスが漏れたとしても、該漏れガスを、カバーとノズル装置との間の空間に閉じ込めてカバーから外部へ漏れるのを防止でき、更には前記第２吸引手段で吸引し排出できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を一層確実に防止できる。
前記第１ガス吸引手段と前記第２ガス吸引手段とが、共通の吸引手段で構成されていてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ノズル装置から雰囲気中に処理ガスが漏れるのを防止でき、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を説明する。
図１〜図９は、本発明の第１実施形態を示したものである。図９に示すように、表面処理装置１は、被処理物配置部２と、ノズル装置３を備えている。配置部２は、ステージやコンベアで構成されている。配置部２上に被処理物９が配置されている。被処理物９は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体ウェハで構成されているが、これに限定されるものではない。表面処理の内容として、エッチング、成膜、洗浄、撥水化、親水化等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１３】
配置部２上の被処理物９は、図示しない移動機構又は配置部２に組み込まれた移動機構によって、ノズル装置３に対し図９の紙面と直交する方向（後記第２方向）に相対移動されるようになっている。被処理物９が移動するのに限られず、ノズル装置３が移動されるようになっていてもよい。相対移動は、１回のみの片道移動でもよく、往復移動でもよく、往復移動を複数回反復してもよい。
【００１４】
図９に示すように、表面処理装置１には処理ガス源４が備えられている。処理ガス源４は、処理内容に応じた処理ガスをノズル装置３に供給する。例えば、シリコンのエッチングの場合、処理ガスは、フッ素系反応成分及び酸化性反応成分を含む。フッ素系反応成分として、ＨＦ、ＣＯＦ２、Ｆ２等が挙げられる。酸化性反応成分として、Ｏ３、Ｏラジカル等が挙げられる。酸化性反応成分としてのＯ３は、オゾナイザーにより生成できる。Ｏラジカル等の酸化性反応成分は、酸素を含む酸素系原料ガスをプラズマ化することによって生成できる。
【００１５】
ＨＦ、ＣＯＦ２等のフッ素系反応成分は、Ｈ２Ｏを添加したフッ素系原料を一対の電極間でプラズマ化（分解、励起、活性化、イオン化を含む）することにより生成できる。フッ素系原料としては、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）、ＳＦ６、ＮＦ３、ＸｅＦ２等が挙げられる。ＰＦＣとしては、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、Ｃ３Ｆ８等が挙げられる。ＨＦＣとしては、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｈ２Ｆ２、ＣＨ３Ｆ等が挙げられる。Ｈ２Ｏに代えてＯＨ含有化合物を用いてもよい。ＯＨ基含有化合物としては、過酸化水素水、アルコール等が挙げられる。上記フッ素系原料は、希釈ガスで希釈したうえでプラズマ化してもよい。希釈ガスとしては、Ａｒ、Ｈｅ等の希ガスの他、Ｎ２等が挙げられる。
【００１６】
上記プラズマ化は大気圧近傍下で行なうことが好ましい。大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【００１７】
ノズル装置３は、被処理物配置部２の上方に配置されている。ノズル装置３は、水平な第１方向（図９において左右）に延びている。ノズル装置３の第１方向の長さは、被処理物９の第１方向の長さと略同じか少し大きい。
【００１８】
図９に示すように、ノズル装置３の上側部（基端部）及び外周部は、フード状のカバー８によって覆われている。カバー８とノズル装置３との間の空間８ａから吸引路７ａが延びている。吸引路７ａは、第２ガス吸引手段７に接続されている。
【００１９】
図９に示すように、ノズル装置３の上端部にはヘッダ部３０が設けられている。ヘッダ部３０は、３つのヘッダ路３１，３２，３３を有している。３つのヘッダ路３１〜３３は、ノズル装置３の長手方向（第１方向）に間隔を置いて並べられている。ヘッダ部３０の中央部には供給ヘッダ路３１が配置されている。ヘッダ部３０の供給ヘッダ路３１を挟んで一側（図９において左側）に裏側吸引ヘッダ路３２が配置され、他側（図９において右側）に表側吸引ヘッダ路３３が配置されている。
【００２０】
ヘッダ部３０の表側面（図９において紙面手前）には、供給ヘッダ路３１に連なる供給ポート３４と、裏側吸引ヘッダ路３２に連なる裏側吸引ポート３５と、表側吸引ヘッダ路３３に連なる表側吸引ポート３６とが設けられている。
【００２１】
処理ガス源４から供給路４ａが延び、この供給路４ａが供給ポート３４を介して供給ヘッダ路３１に連なっている。
【００２２】
裏側吸引ポート３５から裏側吸引路５ａが延びている。表側吸引ポート３６から表側吸引路５ｄが延びている。これら吸引路５ａ，５ｄが互いに合流している。合流後の共通吸引路５ｇが吸引ポンプを含む第１ガス吸引手段５に連なっている。図示は省略するが、ガス吸引手段５には排ガスの除害設備が付設されている。
なお、第１ガス吸引手段５と上記第２ガス吸引手段７は、１つの共通の吸引手段で構成されていてもよい。
【００２３】
ノズル装置３の構造を更に詳述する。
図４に示すように、ノズル装置３は、第１、第２の溝形成部材１１，１２と、外壁部材２１，２２を備えている。ノズル構成部材１１，１２，２１，２２は、それぞれ長手方向を第１方向に向け、幅方向を上下に向け、厚さ方向を第１方向と直交する水平な第２方向（図４において左右）に向けた板状になっている。
【００２４】
板状部材１１，１２，２１，２２の材質には特に限定がなく、樹脂やセラミックス等の絶縁体でもよく金属でもよいが、処理ガスに対する耐性を有していることが好ましい。例えば、処理ガスが、フッ化水素等のフッ素系反応成分を含む場合、溝形成部材１１，１２の材質として、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。溝形成部材１１，１２の材質として、アルミナ等のセラミックスを用いてもよい。
外壁部材２１，２２は、例えばアルミニウム等の金属で構成されている。
【００２５】
板状部材１１，１２，２１，２２を第２方向（図９の紙面直交方向）から見た輪郭形状及び大きさは、互いに等しい。これら板状部材１１，１２，２１，２２が、裏側（図４の左側、図９の紙面奥側）から裏側外壁部材２１、第１溝形成部材１１、第２溝形成部材１２、表側外壁部材２２の順に第２方向に重ねられ、軸線を第２方向に向けた複数本のボルト（図示省略）にて連結されている。板状部材１１，１２，２１，２２の下端面（先端面）は、互いに面一になっている。
【００２６】
図４に示すように、上記供給ヘッダ路３１は、第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２を貫いている。表側外壁部材２２の表側面に上記供給ポート３４が設けられている。供給ヘッダ路３１の奥端部（供給ポート３４との接続部とは反対側）が裏側外壁部材２１によって塞がれている。
【００２７】
図示は省略するが、同様にして、上記吸引ヘッダ路３２，３３は、第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２を貫いている。表側外壁部材２２の表側面に上記吸引ポート３５，３６が設けられている。吸引ヘッダ路３２，３３の奥端部が裏側外壁部材２１によって塞がれている。
【００２８】
図１〜図４に示すように、ノズル装置３には、処理ガス供給溝４０と、裏側吸引溝５０と、表側吸引溝６０とが形成されている。供給溝４０は、ノズル装置３の第２方向の中央部に配置されている。この供給溝４０の裏側（図４において左側）に上記裏側吸引溝５０が配置され、表側（図４において右側）に上記表側吸引溝６０が配置されている。これら溝４０，５０，６０は平行に並んでいる。図１及び図４に示すように、供給溝４０の上端部は、供給ヘッダ路３１に連なっている。図２及び図５に示すように、裏側吸引溝５０の上端部は、吸引ヘッダ路３２に連なっている。図３及び図６に示すように、表側吸引溝６０の上端部は、吸引ヘッダ路３３に連なっている。
【００２９】
上記溝構造について更に詳述する。
図１に示すように、第１溝形成部材１１の表側の主面１１ｆに上記処理ガス供給溝４０が形成されている。供給溝４０は、ツリー溝部４１と、開口溝部４２とを含む。第１溝形成部材１１は、供給溝形成部材を構成する。
【００３０】
ツリー溝部４１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状（トーナメント表状）になっている。詳述すると、ツリー溝部４１は、供給ヘッダ路３１から１条の状態で下方へ延び、２つ（複数）の一次分岐溝４１ａに分岐している。これら分岐溝４１ａは、互いの分岐部から離間するよう第１方向に延び、先端が下方に折曲している。各一次分岐溝４１ａの先端から２つ（複数）の二次分岐溝４１ｂが第１方向の両側に分岐している。各二次分岐溝４１ｂの先端は下方に折曲し、この二次分岐溝４１ｂの先端から２つの三次分岐溝４１ｃが第１方向の両側に分岐している。各三次分岐溝４１ｃの先端は、下方に折曲し、この三次分岐溝４１ｃの先端から２つ（複数）の最終次分岐溝４１ｅが第１方向の両側に分岐している。最終次分岐溝４１ｅの先端は、下方に折曲している。
【００３１】
最終次分岐溝４１ｅの下側に開口溝部４２が設けられている。開口溝部４２は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部４２の第１方向の長さは、被処理物９の同方向の寸法と略等しいか若干大きい。開口溝部４２に各最終次分岐溝４１ｅの先端部（ツリー溝部４１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部４２は、第１溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。
【００３２】
第１溝形成部材１１の表側の主面１１ｆに第２溝形成部材１２の裏側の主面１２ｒが重ねられ、第１溝形成部材１１に第２溝形成部材１２が被さっている。これにより、供給溝４０の面１１ｆ側の開口が塞がれ、供給溝４０が供給ヘッダ路３１に連なるガス路になっている。第１溝形成部材１１は、特許請求の範囲の供給溝形成部材を構成する。
第２溝形成部材１２は、供給溝形成部材１１の表側の主面１１ｆを覆う被覆部材を構成し、裏側の主面１２ｒは、被覆面を構成する。
【００３３】
図１及び図４に示すように、開口溝部４２の上下方向（溝形成部材の先端面と直交する方向）の中間部の内面には、凸条４７が形成されている。凸条４７は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。凸条４７の長手方向の両端部は、開口溝部４２の長手方向の端縁に達している。凸条４７の突出高さ（第２方向の寸法）は、開口溝部４２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条４７と溝形成部材１２との間には、狭い隙間からなる絞り部４８が形成されている。絞り部４８は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。
【００３４】
図２に示すように、第１溝形成部材１１の裏側の主面１１ｒに上記裏側吸引溝５０が形成されている。裏側吸引溝５０は、ツリー溝部５１と、開口溝部５２とを含む。
【００３５】
ツリー溝部５１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状になっている。詳述すると、ツリー溝部５１は、裏側吸引ヘッダ路３２から１条の状態で下方へ延び、複数（ここでは８つ）の分岐溝５１ｅに分岐している。これら分岐溝５１ｅは、互いに第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に間隔を置いて配置され、それぞれ下方へ延びている。
【００３６】
分岐溝５１ｅの下側に開口溝部５２が設けられている。開口溝部５２は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部５２の長さは、上記開口溝部４２の長さと略等しい。開口溝部５２に各分岐溝５１ｅの先端部（ツリー溝部５１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部５２は、第１溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。
【００３７】
図４に示すように、第１溝形成部材１１の裏側面１１ｒに裏側外壁部材２１が被さることにより、裏側吸引溝５０の面１１ｒ側の開口が塞がれている。これにより、裏側吸引溝５０が、裏側吸引ヘッダ路３２に連なるガス路になっている。
裏側外壁部材２１は、第１溝形成部材１１の裏側の主面１１ｒを覆う第２の被覆部材を構成する。
【００３８】
図２及び図４に示すように、開口溝部５２の上下方向の中間部の内面には、凸条５７が形成されている。凸条５７は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。凸条５７の延び方向の両端部は、開口溝部５２の端縁に達している。凸条５７の突出高さ（第２方向の寸法）は、裏側吸引溝５０の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条５７と外壁部材２１との間には、狭い隙間からなる絞り部５８が形成されている。絞り部５８は、第１溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に延びている。
【００３９】
図３に示すように、第２溝形成部材１２の表側の主面１２ｆに上記表側吸引溝６０が形成されている。表側吸引溝６０は、上記裏側吸引溝５０と同様の構造を有し、ツリー溝部６１と、開口溝部６２とを含む。
【００４０】
ツリー溝部６１は、下方（先端）に向かいながら第１方向に広がるよう枝分かれし、ツリー状になっている。詳述すると、ツリー溝部６１は、表側吸引ヘッダ路３３から１条の状態で下方へ延び、複数（ここでは８つ）の分岐溝６１ｅに分岐している。これら分岐溝６１ｅは、互いに第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に間隔を置いて配置され、それぞれ下方へ延びている。
【００４１】
分岐溝６１ｅの下側に開口溝部６２が設けられている。開口溝部６２は、第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に延びている。開口溝部６２の長さは、上記開口溝部４２の長さと略等しい。開口溝部６２に各分岐溝６１ｅの先端部（ツリー溝部６１の末端）が連なっている。図４に示すように、開口溝部６２は、第２溝形成部材１２の下端面（先端面）に達している。
【００４２】
図４に示すように、第２溝形成部材１２の表側面１２ｆに表側外壁部材２２が被さることにより、第２溝形成部材１２の表側吸引溝６０の面１２ｆ側の開口が塞がれている。これにより、表側吸引溝６０が、表側吸引ヘッダ路３３に連なるガス路になっている。
表側外壁部材２１は、第２溝形成部材１２の表側の主面１２ｆを覆う被覆部材を構成する。
【００４３】
図３及び図４に示すように、開口溝部６２の上下方向の中間部の内面には、凸条６７が形成されている。凸条６７は、第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に延びている。凸条６７の長手方向の両端部は、開口溝部６２の長手方向の端縁に達している。凸条６７の突出高さ（第２方向の寸法）は、表側吸引溝６０の深さ（第２方向の寸法）より小さい。凸条６７と表側外壁部材２２との間には、狭い隙間からなる絞り部６８が形成されている。絞り部６８は、第２溝形成部材１２の長手方向（第１方向）に延びている。
【００４４】
溝形成部材１１，１２に溝４０，５０，６０，８２，８３を形成する方法としては、切削加工による方法の他、溝４０，５０，６０，８２，８３の型を用いた真空成形法又は射出成形法を適用してもよい。真空成形法や射出成形法によれば、部材重量を低減でき、製造コストを削減できる。
【００４５】
図８に示すように、ノズル装置３は、先端板７０を更に備えている。図４及び図６に示すように、先端板７０は、長手方向を第１方向に向け、幅方向を第２方向に向けた平板状になっている。先端板７０の材質には特に限定がなく、樹脂やセラミックス等の絶縁体でもよく金属でもよいが、処理ガスに対する耐性を有していることが好ましい。ここでは、先端板７０は、アルミナのセラミックスで構成されている。先端板７０は、全体が一体物になっている。
【００４６】
図４に示すように、先端板７０は、板状積層部材１１，１２，２１，２２の面一をなす下端面（先端面）に被せられている。図示は省略するが、先端板７０は、複数本のボルトで各部材１１，１２，２１，２２に固定されている。上記図示省略のボルトは、頭部を上に向けて部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部が先端板７０にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔が先端板７０の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、先端板７０の下面には達していない。
【００４７】
図８に示すように、先端板７０には、３つのスリット７１〜７３が形成されている。スリット７１〜７３は、それぞれ先端板７０の長手方向（第１方向）に直線状に延び、互いに先端板７０の幅方向（第２方向）に間隔を置いて平行に配置されている。先端板７０の幅方向（第２方向）の中央部に供給スリット７１が配置されている。この供給スリット７１の裏側（図６において左側）に裏側吸引スリット７２が配置され、表側（図６において右側）に表側吸引スリット７３が配置されている。
【００４８】
図４に示すように、中央の供給スリット７１は、供給溝４０の開口溝部４２の下端の開口に連なっている。裏側吸引スリット７２は、裏側吸引溝５０の開口溝部５２の下端の開口に連なっている。表側吸引スリット７３は、表側吸引溝６０の開口溝部６２の下端の開口に連なっている。各スリット７１〜７３の長さは、上記開口溝部４２，５２，６２の長さとほぼ等しい。各スリット７１〜７３の幅（第２方向の寸法）は、上記開口溝部４２，５２，６２の深さ（第２方向の寸法）より小さい。
【００４９】
本発明の最も特徴的な構造を説明する。
図１に示すように、第１溝形成部材すなわち供給溝形成部材１１の表側面１１ｆには、外側溝８０が形成されている。外側溝８０は、第１溝形成部材１１の表側の主面１１ｆの処理ガス供給溝４０より外側部分に配置されている。外側溝８０が、供給溝４０の下端（先端）の開口より上側（基端側）の部分を部分的に囲んでいる。
【００５０】
外側溝８０は、一対の外側溝部８２，８３を含んでいる。外側溝部８２，８３は、供給溝４１の上端部を挟んで溝形成部材１１の長手方向の両側に分かれて配置されている。図１において、供給溝形成部材１１の長手方向の中央部より左側に配置された外側溝部８２は、左側に分岐した分岐溝４１ａ及び該左側分岐溝４１ａの先端に連なる分岐溝４１ｂ〜４１ｅより表側面１１ｆの外側部分（上側及び左側）に配置され、これら分岐溝４１ａ〜４１ｅの外縁に沿うように表側面１１ｆの左外側部分の上端部（基端部）から下端部（先端部）にわたって階段状に延びている。図１及び図５に示すように、外側溝部８２の上端部は、裏側吸引ヘッダ路３２と上記左側分岐溝４１ａとの間に配置され、裏側吸引ヘッダ路３２に連なっている。図１に示すように、外側溝部８２の下端部は、供給溝形成部材１１の左側の外端面と開口溝部４２の左端縁の間に配置され、供給溝形成部材１１の下端面（先端面）の少し上（基端側）に離れて位置している。図５及び図７に示すように、供給溝形成部材１１に被覆部材としての第２溝形成部材１２が被さることにより、外側溝部８２の面１１ｆ側の開口が塞がれている。これにより、外側溝部８２が裏側吸引ヘッダ路３２に連なるガス路になっている。
【００５１】
図１において、供給溝形成部材１１の長手方向の中央部より右側に配置された外側溝部８３は、右側に分岐した分岐溝４１ａ及び該右側分岐溝４１ａの先端に連なる分岐溝４１ｂ〜４１ｅより表側面１１ｆの外側部分（上側及び右側）に配置され、これら分岐溝４１ａ〜４１ｅの外縁に沿うように表側面１１ｆの右外側部分の上端部（基端部）から下端部（先端部）にわたって階段状に延びている。図１及び図６に示すように、外側溝部８３の上端部は、表側吸引ヘッダ路３３と上記右側分岐溝４１ａとの間に配置され、表側吸引ヘッダ路３３に連なっている。図１に示すように、外側溝部８３の下端部は、供給溝形成部材１１の右側の外端面と開口溝部４２の右端縁の間に配置され、供給溝形成部材１１の下端面（先端面）の少し上（基端側）に位置している。図６に示すように、同様にして、外側溝部８３の面１１ｆ側の開口が被覆部材１２にて塞がれ、外側溝部８３が表側吸引ヘッダ路３３に連なるガス路になっている。
【００５２】
上記構成の表面処理装置１によって被処理物９を表面処理する方法を説明する。
処理ガス源４から処理ガスが供給路４ａによってノズル装置３の供給ポート３４に導入される。処理ガスは、供給ヘッダ路３１を通り、ツリー溝部４１内に入り込む。この処理ガスが、一次分岐溝４１ａ、二次分岐溝４１ｂ、三次分岐溝４１ｃ、最終次分岐溝４１ｅの順に流れて行くことにより、第１方向に拡散される。更に、処理ガスは、各最終次分岐溝４１ｅの下端（ツリー溝部４１の末端）から開口溝部４２に送出される。この開口溝部４２の凸条４７より上側部分において、各分岐溝４１ｅからの処理ガスが互いに混合される。続いて、処理ガスは、絞り部４８を通過しながら絞られ、その後、凸条４７より下側の開口溝部４２に流出して膨張する。更に、処理ガスは、供給スリット７１を通過しながら絞られる。これにより、処理ガスを第１方向に十分に均質化できる。そして、処理ガスが供給スリット７１から下方へ噴き出される。
【００５３】
併行して、配置部２上に配置された被処理物９が、ノズル装置３の下方を横切るように第２方向に移動される。この被処理物９に処理ガスが吹き付けられ、被処理物９が表面処理される。処理ガスが第１方向に均質になっているため、被処理物９を均一に表面処理できる。
【００５４】
処理ガスの供給と併行して、吸引手段５を駆動する。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みのガスや雰囲気ガスが、吸引スリット７２，７３に吸い込まれる。
裏側吸引スリット７２及び開口溝部５２が開口溝部４２及び供給スリット７１と同様の構造になっているため、上記噴出時と同様の作用により、裏側吸引スリット７２から吸い込まれるガスの流通状態を第１方向に均一化できる。同じく、表側吸引スリット７３及び開口溝部６２が開口溝部４２及び供給スリット７１と同様の構造になっているため、表側吸引スリット７３から吸い込まれるガスの流通状態を第１方向に均一化できる。これにより、表面処理の均一性を一層高めることができる。
【００５５】
開口溝部５２に入り込んだガスは、その後、複数の分岐溝５１ｅを経てツリー溝部５１で合流し、裏側吸引ヘッダ路３２、裏側吸引ポート３５を経て、裏側吸引路５ａに送出される。同様に、開口溝部６２に入り込んだガスは、分岐溝６１ｅ、表側吸引ヘッダ路３３、表側吸引ポート３６を経て、表側吸引路５ｄに送出される。これら吸引路５ａ，５ｄからのガスが共通吸引路５ｇで合流し吸引手段５に吸引される。吸引ガスは、吸引手段５に付設された除害設備で除害処理を施されたうえで排気される。
【００５６】
ここで、供給溝４０内を通過中の処理ガスの一部が溝形成部材１１，１２の間を伝って外部に漏れようとすることも想定される。このような漏れガス流は、途中で何れかの外側溝部８２又は８３に捕捉される。外側溝部８２には、裏側吸引ヘッダ路３２、裏側吸引ポート３５、及び吸引路５ａ，５ｇを介して吸引手段５の吸引圧が導入されている。したがって、外側溝部８２に入り込んだ漏れガスは、上記吸引圧導入路３２，３５，５ａ，５ｇを順次経て、吸引手段５に送られ、除害処理を施されたうえで排気される。同様に、外側溝部８３には、表側吸引ヘッダ路３３、表側吸引ポート３６、及び吸引路５ｄ，５ｇを介して吸引手段５の吸引圧が導入されている。したがって、外側溝部８３に入り込んだ漏れガスは、上記吸引圧導入路３３，３６，５ｄ，５ｇを順次経て、吸引手段５に送られ、除害処理を施されたうえで排気される。
【００５７】
したがって、供給溝４０から処理ガスの一部が漏れたとしても、この処理ガスがノズル装置３の上側部や外周部から雰囲気ガス中に漏れるのを防止できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を防止でき、安全性を高めることができる。しかも、外側溝部８２に吸引圧を導入することにより、供給溝形成部材１１と被覆部材１２を強く密着させることができる。したがって、処理ガスが処理ガス供給溝４０から漏れること自体を十分に抑制することができる。
【００５８】
万が一、処理ガスがノズル装置３の外部に漏れたとしても、ノズル装置３がカバー８で囲まれているため、上記の漏れガスをカバー８とノズル装置３との間の空間８に閉じ込め、カバー８から外部へ漏れるのを防止できる。空間８内のガスは、吸引路７ａを介して吸引手段７で吸引し排出できる。これにより、雰囲気ガスの汚染や周辺の装置の腐食を一層確実に防止でき、安全性を一層高めることができる。
【００５９】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において、既述の実施形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
【００６０】
図１０は、本発明の第２実施形態を示したものである。この実施形態では、２つの外側溝部８２，８３が、連通外側溝部８１によって連ねられ、全体で１本の外側溝８０になっている。
【００６１】
詳述すると、供給溝形成部材１１の主面１１ｆの上側の中央部に連通外側溝部８１が設けられている。連通外側溝部８１は、供給ヘッダ路３１の上側部分を囲むように逆Ｕ字状になっている。連通外側溝部８１の一方（図１０において左側）の下端部が、外側溝部８２に連なり、他方（図１０において右側）の下端部が外側溝部８３に連なっている。これら溝部８１〜８３により、１本の外側溝８０が構成されている。
【００６２】
第２実施形態によれば、処理ガス供給溝４０の先端（下端）より基端側（上側）の部分が１本の外側溝８０で途切れなく囲まれるため、処理ガスの漏れを一層確実に防止できる。特に、供給ヘッダ路３１や溝４１の上端部付近から漏れた処理ガスを中央の外側溝部８１で捕捉でき、ノズル装置３の外部に漏れるのを確実に防止できる。
【００６３】
図１１及び図１２は、本発明の第３実施形態を示したものである。この実施形態では、外側溝８０が、供給溝形成部材１１の表側の主面１１ｆに代えて、被覆部材１２の裏側の被覆面１２ｒに形成されている。外側溝８０が、図１１において仮想線で示す処理ガス供給溝４０より外側に配置されている点は、第１、第２実施形態と同じである。なお、第３実施形態の外側溝８０は、第２実施形態と同様に２つの外側溝部８２，８３を連ねる連通外側溝部８１を有しているが、第１実施形態と同様に２つの外側溝部８２，８３が分離されていてもよい。
【００６４】
図１２に示すように、供給溝形成部材１１と被覆部材１２とが重ねられることにより、被覆部材１２に形成された外側溝８０の面１２ｒ側の開口が、供給溝形成部材１１の主面１１ｆによって塞がれている。これにより、外側溝８０の内部が吸引通路になっている。
【００６５】
図１３は、本発明の第４実施形態を示したものである。第４実施形態は、ノズル装置３を被処理物９の大型化に対応させたものであり、第１溝形成部材１１が、長手方向（第１方向）に２つ（複数）の分割板１３，１３に分割されている。言い換えると、第１溝形成部材１１が、２つ（複数）の分割板１３，１３で構成されている。隣接する２つの分割板１３，１３の側端面（分割端面）１３ｅ，１３ｅどうしが互いに突き合わされている。２つの分割板１３，１３の第1方向の合計長さが、被処理物９の同方向の寸法に対応している。
以下、２つの分割板１３，１３を互いに区別するときは、図１において左側の分割板１３には符号にＡを付し、右側の分割板１３には符号にＢを付す。
【００６６】
図１３において、左側の分割板１３Ａは、右側の分割板１３Ｂの近傍の部分を除き、第１実施形態（図１）の溝形成部材１１と同じ形状になっている。右側の分割板１３Ｂは、左側の分割板１３Ａの近傍の部分を除き、第１実施形態（図１）の溝形成部材１１を左右に反転させた形状になっている。したがって、分割板１３Ｂの裏側吸引ヘッダ路３２及び外側溝部８２は、該分割板１３Ｂの右側部分に配置されている。分割板１３Ｂの表側吸引ヘッダ路３３及び外側溝部８３は、該分割板１３Ｂの左側部分に配置されている。供給溝形成部材１１の外側溝８０は、全体として４つの外側溝部８２，８３を有している。
【００６７】
分割板１３の形状を更に詳述する。
左側の分割板１３Ａは、開口溝部４２の凸条４７より下側の部分が右側の分割板１３Ｂへの突き合わせ端面１３ｅに達している。右側の分割板１３Ｂは、開口溝部４２の凸条４７より下側の部分が左側の分割板１３Ａへの突き合わせ端面１３ｅに達している。これにより、隣接する２つの分割板１３Ａ，１３Ｂの開口溝部４２，４２どうしが連なっている。これら開口溝部４２，４２の連通部４９は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。
【００６８】
各分割板１３の外側溝部８３の下端部は、端面１３ｅの近傍かつ開口溝部４２より上側に位置している。
【００６９】
図示は省略するが、２つの分割板１３，１３の裏側吸引溝５０，５０の開口溝部５２，５２どうしも同様にして互いに連通している。
【００７０】
さらに、図示は省略するが、第４実施形態では、第２溝形成部材１２についても、同様に２つ（複数）の分割板で構成され、これら分割板の開口溝部６２どうしが連なっている。外壁部材２１，２２は、２つ（複数）の分割板を一体に連ねた形状になっている。先端板７０のスリット７１，７２，７３は、それぞれ２つの開口溝部４２，４２；５２，５２；６２，６２に対応する長さを有し、２つの開口溝部４２，４２；５２，５２；６２，６２に連なっている。供給路４ａは、２つ（複数）に分岐し、各分割板の供給ヘッダ路３１に接続されている。各分割板からの表側吸引路５ａが、互いに合流し、ガス吸引手段５に接続されている。同様に、各分割板からの裏側吸引路５ｄが、互いに合流し、ガス吸引手段５に接続されている。
【００７１】
第４実施形態によれば、処理ガスが、２つの供給ヘッダ路３１，３１にそれぞれ導入され、各分割板１３のツリー溝部４０に通されて第１方向に拡散され、各開口溝部４２に流入する。分割板１３Ａの開口溝部４２に入った処理ガスの分割板１３Ｂ寄りの部分と、分割板１３Ｂの開口溝部４２に入った処理ガスの分割板１３Ａ寄りの部分とは、それぞれ連通部４９に流入して互いに合流する。その後、処理ガスは、供給スリット７１の長手方向の全域から吹き出される。これにより、被処理物９が大型であっても、該被処理物９の第１方向の全体に処理ガスを一度に吹き付け、表面処理することができる。しかも、処理ガスが第１方向に均質化されているため、均一に表面処理できる。特に、処理ガスを連通部４９で合流させたうえで吹き出すため、被処理物９の表面の分割板１３，１３の継ぎ目に対応する箇所の処理抜けを防止でき、処理の均一性を十分に確保できる。
【００７２】
第４実施形態のノズル装置３は、被処理物９の大型化に対応し、ツリー溝部４１，５１，６１をそれぞれ２つ（複数）に分割して第１方向に並べたものである。これによって、ノズル装置全体で各ツリー溝部４１，５１，６１を１つだけ設けて大型の被処理物に対応させるよりもツリー溝部４１，５１，６１の分岐の段数を少なくできる。したがって、溝形成部材１１，１２の高さ（上下方向の寸法）を小さくできる。この結果、ノズル装置３の重量が過大になるのを回避できる。
【００７３】
図１４〜図１６は、本発明の第５実施形態を示したものである。
図１４に示すように、この実施形態では、外側溝部８２の下端部が、第１実施形態より下方へ延び、溝形成部材１１の下端面に達している。図１５（ａ）に示すように、溝形成部材１１の下端面（先端面）の左端部の開口溝部４２，５２より外側部分には、端溝８４が形成されている。端溝８４は、溝形成部材１１の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８４の表側（面１１ｆ側）の端部は、外側溝部８２の下端部に連なっている。端溝８４の裏側（面１１ｒ側）の端部は、面１１ｒに達して開口し、この開口が裏側外壁部材２１で塞がれている。
【００７４】
溝形成部材１２の下端面の左端部の開口溝部６２より外側部分には、端溝８６が形成されている。端溝８６は、溝形成部材１２の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８６の表側（面１２ｆ側）の端部は、面１２ｆに達して開口し、この開口が表側外壁部材２２で塞がれている。端溝８６の裏側の端部は、溝形成部材１２の裏面（溝形成部材１１との当接面）に達し、外側溝部８２及び端溝８４に連なっている。端溝８６と端溝８４は、第２方向に一直線に連なっている。
【００７５】
同様にして、図１４に示すように、外側溝部８３の下端部が、第１実施形態より下方へ延び、溝形成部材１１の下端面に達している。図１５（ｂ）に示すように、溝形成部材１１の下端面の右端部の開口溝部４２，５２より外側部分には、端溝８５が形成されている。端溝８５は、溝形成部材１１の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８５の表側（面１１ｆ側）の端部は、外側溝部８３の下端部に連なっている。端溝８５の裏側（面１１ｒ側）の端部は、面１１ｒに達して開口し、この開口が裏側外壁部材２１で塞がれている。
【００７６】
溝形成部材１２の下端面の右端部の開口溝部６２より外側部分には、端溝８７が形成されている。端溝８７は、溝形成部材１２の下端面（先端面）の短手方向（第２方向、同図において上下）に延びている。端溝８７の表側（面１２ｆ側）の端部は、面１２ｆに達して開口し、この開口が表側外壁部材２２で塞がれている。端溝８７の裏側の端部は、溝形成部材１２の裏面（溝形成部材１１との当接面）に達し、外側溝部８３及び端溝８５に連なっている。端溝８７と端溝８５は、第２方向に一直線に連なっている。
【００７７】
図１６に示すように、第５実施形態の先端板７０は、４つ（複数）のスリット画成板７４と、一対の端板７５とを備えている。これら板７４，７５は、例えばアルミナ等のセラミックスで構成されている。６つの板７４，７５は、各々別体になっており、互いに分離可能になっている。
【００７８】
各スリット画成板７４は、第１方向に延び、かつ幅方向を第２方向に向けた長尺の平板状になっている。４つのスリット画成板７４が、第２方向に間隔を置いて平行に並べられている。
【００７９】
４つのスリット画成板７４は、板状積層部材１１，１２，２１，２２にそれぞれ一対一に対応し、対応する部材１１，１２，２１，２２の下面（先端面）に被さり、ボルト（図示省略）にて連結されている。上記ボルトは、頭部を上（図１６の紙面奥側）に向けて各部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部がスリット画成板７４にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔がスリット画成板７４の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、スリット画成板７４の下面には達していない。
【００８０】
４つのスリット画成板７４のうち、表側外壁部材２２に対応するものを除く３つのスリット画成板７４の長手方向の両端部には、それぞれ隣りのスリット画成板７４に突出する凸部７６が設けられている。各凸部７６は、隣りのスリット画成板７４に突き当てられている。第１溝形成部材１１と第２溝形成部材１２に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に供給スリット７１が形成されている。裏側外壁部材２１と第１溝形成部材１１に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に裏側吸引スリット７２が形成されている。第２溝形成部材１２と表側外壁部材２２に対応する２つ（一対）のスリット画成板７４，７４どうしの間に表側吸引スリット７３が形成されている。凸部７６によってスリット７１，７２，７３の延び方向の端部が画成されている。凸部７６の突き当てによってスリット画成板７４どうしを第２方向に正確かつ容易に位置決めできる。凸部７６の突出量によって、スリット７１〜７３の開口幅を設定することができる。
【００８１】
図１５（ａ）及び図１６に示すように、４つのスリット画成板７４の左側の端縁は、互いに面一をなし、しかも端溝８４，８６の内側（開口溝部４２，５２，６２の側）の縁とちょうど一致している。図１５（ｂ）及び図１６に示すように、４つのスリット画成板７４の右側の端縁は、互いに面一をなし、しかも端溝８５，８７の内側（開口溝部４２，５２，６２の側）の縁とちょうど一致している。
【００８２】
図１６に示すように、先端板７０の一対の端板７５は、ノズル装置３の底面（先端面）の第１方向の両端部に配置され、それぞれ第２方向に延びる平板状になっている。各端板７５は、板状積層部材１１，１２，２１，２２に跨るようにして、これら部材１１，１２，２１，２２の長手方向の端部に被さっている。図示は省略するが、端板７５は、部材１１，１２，２１，２２にボルトで固定されている。端板７５の固定用ボルトは、頭部を上（図９の紙面奥側）に向けて各部材１１，１２，２１，２２に通され、脚部が端板７５にねじ込まれている。上記ボルト用の雌ネジ孔が端板７５の上面から厚さ方向の途中まで形成されている。雌ネジ孔は、端板７５の下面には達していない。
【００８３】
各端板７５の両端部は、裏側外壁部材２１に対応するスリット画成板７４の端面と、表側外壁部材２２に対応するスリット画成板７４の端面とにそれぞれ突き当てられている。端板７５の内側（板７４を向く側）の縁には、細長凹部７５ａが形成されている。細長凹部７５ａは、第２方向に延びている。細長凹部７５ａの延び方向の一端部は、底面視で裏側外壁部材２１と溝形成部材１１の境と一致している。細長凹部７５ａの延び方向の他端部は、底面視で溝形成部材１２と表側外壁部材２２の境と一致している。
【００８４】
図１６において左側の端板７５の細長凹部７５ａの内縁とスリット画成板７４の端面との間に、第２方向に延びる外端吸引スリット７８が画成されている。外端吸引スリット７８は、端溝８４，８６と底面視でちょうど重なり、これら端溝８４，８６に連なっている。外端吸引スリット７８の長手方向（第２方向）の中央部は、外側溝部８２に直接的に連なっている。
【００８５】
図１６において右側の端板７５の細長凹部７５ａの内縁とスリット画成板７４の端面との間に、第２方向に延びる外端吸引スリット７９が画成されている。外端吸引スリット７９は、端溝８５，８７と底面視でちょうど重なり、これら端溝８５，８７に連なっている。外端吸引スリット７９の長手方向（第２方向）の中央部は、外側溝部８３に直接的に連なっている。
【００８６】
第５実施形態によれば、外側溝８０の各溝部８２，８３に吸引圧が導入されることにより、供給溝４０から漏れた処理ガスを外側溝部８２，８３で捕捉できるだけでなく、一方の外側溝部８２への吸引圧が端溝８４，８６にも導入され、他方の外側溝部８３への吸引圧が端溝８５，８７にも導入される。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みガスが、ノズル装置３の左外側へ流れようとすると、外端吸引スリット７８に吸い込まれる。該処理済みのガスは、端溝８４，８６を経て外側溝部８２に吸い込まれ、更にヘッダ路３２、吸引路５ａ，５ｇを経て吸引手段５に吸引される。同様に、ノズル装置３と被処理物９との間から右外側へ流れようとした処理済みガスは、外端吸引スリット７９に吸い込まれ、端溝８５，８７を経て外側溝部８３に入り、更にヘッダ路３３、吸引路５ｄ，５ｇを経て吸引手段５に吸引される。これにより、処理済みガスがノズル装置３の長手方向（第１方向）の両端から外側へ漏れるのを防止できる。
【００８７】
図１７〜図１９は、本発明の第６実施形態を示したものである。図１７に示すように、この実施形態では、溝形成部材１１の裏側の面１１ｒに、第１実施形態（図２）の裏側吸引溝５０に代えて裏側吸引溝５３が形成されている。裏側吸引溝５３は、溝形成部材１１の長手方向（第１方向）に真っ直ぐ延び、かつ溝形成部材１１の下端面（先端面）に達している。図１９に示すように、裏側外壁部材２１が溝形成部材１１の裏面１１ｒに被さることにより、裏側吸引溝５３の面１１ｒ側の開口が塞がれている。
【００８８】
図１７〜図１９に示すように、溝形成部材１１には、外側溝部８２と裏側吸引溝５３を連ねる連通孔５４が形成されている。連通孔５４は、外側溝部８２から溝形成部材１１の厚さ方向（第２方向）に延び、裏側吸引溝５３の内面に貫通している。図１７及び図１８に示すように、同様にして、溝形成部材１１には、外側溝部８３と裏側吸引溝５３を連ねる連通孔５５が形成されている。連通孔５５は、外側溝部８３から溝形成部材１１の厚さ方向（第２方向）に延び、裏側吸引溝５３の内面に貫通している。
【００８９】
第６実施形態では、外側溝８０の各溝部８２，８３に吸引圧が導入されることにより、供給溝４０から漏れた処理ガスを外側溝部８２，８３で捕捉できるだけでなく、外側溝部８２への吸引圧を連通孔５４を介して裏側吸引溝５３に導入でき、かつ外側溝部８３への吸引圧を連通孔５５を介して裏側吸引溝５３に導入できる。これにより、供給スリット７１の直下から第２方向の外側へ流出しようとする処理済みガスを、裏側吸引溝５３から吸引することができ、連通孔５４，５５、外側溝部８２，８３を経て、吸引手段５にて吸引排気することができる。
【００９０】
図２０〜図２３は、本発明の第７実施形態を示したものである。この実施形態では、ノズル装置３に一対の電極９０，９０が組み込まれ、処理ガスがノズル装置３内でプラズマ化されるようになっている。
詳述すると、図２０及び図２２に示すように、ノズル装置３は、フレーム９４を有している。フレーム９４は、例えばアルミニウム等の金属で構成されている。フレーム９４は、第１方向に延び、底部が開放された容器状になっている。図２１及び図２２に示すように、フレーム９４の内部に供給溝形成部材９１と被覆部材９２が収容されている。２つの部材９１，９２は、例えばアルミナ等のセラミックで構成されている。これら部材９１，９２は、それぞれ第１方向に延びる容器状をなし、互いに第２方向に突き合わされている。
【００９１】
供給溝形成部材９１及び被覆部材９２は、電極９０の収容部材としての役目を担っている。すなわち、供給溝形成部材９１には、被覆部材９２の対向方向とは反対側に開口された収容凹部９１ａが形成されている。被覆部材９２には、供給溝形成部材９１の対向方向とは反対側に開口された収容凹部９２ａが形成されている。これら収容凹部９１ａ，９２ａに電極９０がそれぞれ収容されている。収容凹部９１ａ，９２ａの開口は、それぞれ蓋９３で塞がれている。
【００９２】
図２１に示すように、各電極９０は、第１方向に延びている。図２２に示すように、一方の電極９０は、電源ＰＷに接続されて電界印加電極になっている。他方の電極９０は、電気的に接地され、接地電極になっている。ここでは、供給溝形成部材９１に収容された電極９０が電界印加電極になり、被覆部材９２に収容された電極９０が接地電極になっているが、その逆になっていてもよい。
【００９３】
図２１〜図２３に示すように、供給溝形成部材９１の被覆部材９２側の主面９１ｆに処理ガス供給溝４０が形成されている。処理ガス供給溝４０は、電極９０より少し短い程度に第１方向に延びている。処理ガス供給溝４０の上端部は、供給溝形成部材９１の上面に達し、処理ガス供給溝４０の下端部は、供給溝形成部材９１の下面に達している。処理ガス供給溝４０の平面断面は、上下方向に一定になっている。第７実施形態の処理ガス供給溝４０にはツリー溝部４１が設けられていない。供給溝形成部材９１の主面９１ｆに被覆部材９２の被覆面９２ｒが被さることにより、処理ガス供給溝４０の主面９１ｆ側の開口が塞がれている。
【００９４】
図２０及び図２２に示すように、フレーム９４の上面には、導入スリット９４ａが第１方向に延びるように形成されている。導入スリット９４ａが処理ガス供給溝４０の上端部に連なっている。フレーム９４の上に整流部９５が配置されている。整流部９５は、第１方向に延びる容器状になっている。整流部９５の内部に整流室９５ａが形成されている。図２０に示すように、整流室９５ａは、整流板９６によって上下２室に仕切られている。図２２に示すように、整流板９６の第２方向の両端部と整流部９５の内壁との間には整流室９５ａの上下の室を連ねる隙間が形成されている。
【００９５】
図２０及び図２２に示すように、整流部９５の上部に供給ポート３４を介して処理ガス供給路４ａが接続されている。
【００９６】
処理ガスが供給路４ａから整流室９５ａに導入されて整流される。整流後の処理ガスが、導入スリット９４ａを経て処理ガス供給溝４０に導入される。併行して、電源ＰＷからの電圧供給によって電極９０，９０間に電界が印加され、大気圧グロー放電が生成される。これにより、処理ガスが、供給溝４０内を下方へ流れる過程でプラズマ化され、反応成分が生成される。このプラズマ化された処理ガスが供給溝４０の下端から噴き出され、被処理物９に吹き付けられる。この処理ガスの反応成分が被処理物９に接触することにより、被処理物９を表面処理できる。セラミック（誘電体）からなる部材９１，９２は、電極９０の放電面に配置されて放電を安定させる固体誘電体層として機能する。
【００９７】
更に、第７実施形態では、図２０及び図２１に示すように、供給溝形成部材９１の主面９１ｆの処理ガス供給溝４０より第１方向の両外側部分にそれぞれ外側溝部８２，８３が形成されている。外側溝部８２と外側溝部８３により外側溝８０が構成されている。外側溝部８２，８３は、上下方向に延びている。外側溝部８２，８３の上端部は、供給溝形成部材９１の上面に達し、外側溝部８２，８３の下端部は、供給溝形成部材９１の下面に達している。供給溝形成部材９１の主面９１ｆに被覆部材９２の被覆面９２ｒが被さることにより、外側溝部８２，８３の主面９１ｆ側の開口が塞がれている。
【００９８】
図２０に示すように、フレーム９４の上面の第１方向の両側部には、それぞれ吸引連通孔９４ｂ，９４ｃが形成されている。一方の連通孔９４ｂが外側溝部８２の上端部に連なっている。他方の連通孔９４ｃが外側溝部８３の上端部に連なっている。
【００９９】
整流部９５の内部の第１方向の両側部には、それぞれ隔壁９７が設けられている。隔壁９７によって整流部９５の内部が整流室９５ａと、該整流室９５ａの第１方向の両側の吸引室９５ｂ，９５ｃとに仕切られている。一方の吸引室９５ｂに連通孔９４ｂひいては外側溝部８２が連なっている。他方の吸引室９５ｃに連通孔９４ｃひいては外側溝部８３が連なっている。
【０１００】
吸引室９５ｂは、吸引ポート３５を介し、吸引路５ａに連なっている。吸引室９５ｃは、吸引ポート３６を介し、吸引路５ｄに連なっている。
【０１０１】
更に、図２０、及び図２１の破線に示すように、供給溝形成部材９１の下面の処理ガス供給溝４０より第１方向の両外側には、端溝８４，８５がそれぞれ第２方向に延びるように形成されている。被覆部材９２の下面の処理ガス供給溝４０より第１方向の両外側には、端溝８６，８７がそれぞれ第２方向に延びるように形成されている。図２３に示すように、端溝８４と端溝８６が第２方向に一直線に連なり、かつ外側溝部８２の下端と連なっている。同様に、端溝８５と端溝８７が第２方向に一直線に連なり、かつ外側溝部８３の下端と連なっている。
【０１０２】
吸引手段５（図示せず）の吸引圧が、経路５ａ，９５ｂ，９４ｂを順次経て、外側溝部８２に導入される。これにより、処理ガスが供給溝４０から溝部８２側に漏れた場合、この処理ガスを外側溝部８２で捕捉し、吸引手段５で吸引することができる。また、吸引手段５の吸引圧は、経路５ｄ，９５ｃ，９４ｃを順次経て、外側溝部８３にも導入される。これにより、処理ガスが供給溝４０から溝部８３側に漏れた場合、この処理ガスを外側溝部８３で捕捉し、吸引手段５で吸引することができる。
【０１０３】
更に、上記吸引圧は、外側溝部８２の下端部を経て端溝８４，８６にも導入され、かつ外側溝部８３の下端部を経て端溝８５，８７にも導入される。これにより、ノズル装置３と被処理物９との間の処理済みガスが、ノズル装置３の長手方向の外側へ流れようとすると、これらを端溝８４〜８７に吸込み、吸引手段５で吸引することができる。
【０１０４】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で種々の改変をなすことができる。
例えば、外側溝８０は、上記主面１１ｆと被覆面１２ｒの両方に形成してもよい。外側溝部８２，８３の何れか一方を主面１１ｆに形成し、他方を被覆面１２ｒに形成してもよい。
外側溝８０は、上記主面１１ｆ又は被覆面１２ｒの処理ガス供給溝４０より外側部分に配置されていればよく、面１１ｆ，１２ｒの必ずしも基端部（上端部）から先端部（下端部）にわたって延びている必要はなく、中間部が途切れていてもよく、面１１ｆ，１２ｒの基端部（上端部）のみ若しくは先端部（下端部）のみに設けられていてもよい。外側溝８０は、供給溝４０から処理ガスが漏れて来やすい部分に配置されるのが好ましい。
外側溝８０は、一条に限られず、複数条並べて設けてもよい。
被覆部材１２，９２にも処理ガス供給溝４０を設けてもよい。
【０１０５】
ツリー溝部４１は、溝形成部材１１の下端面（先端面）に近づくにしたがって第１方向に広がるよう枝分かれしていればよく、１つの幹路から分かれる枝路の数は２つに限られず、３つ以上でもよい。また、枝分かれの段数は適宜、設定できる。ツリー溝部５１，６１についても同様である。
第１〜第５実施形態において、噴出路（４０，７１）と該噴出路を挟む一対の吸引路（５０，７２；６０，７３）との組が、第２方向に並んで複数設けられていてもよい。
第４実施形態（図１３）において、溝形成部材１１が３つ以上の分割板１３で構成されていてもよい。
第４実施形態（図１３）において、各分割板１３の外側溝部８３を端面１３ｅに開口させ、隣接する分割板１３，１３の外側溝部８３，８３どうしを上記端面１３ｅへの開口を介して互いに連通させてもよい。
第４実施形態（図１３）において、溝形成部材１１を構成する２つ（複数）の板１３が一体に連なり、この一体物の溝形成部材１１の表側面に２つ（複数）のツリー溝部４１が第１方向に並んで形成されていてもよい。
【０１０６】
複数の実施形態を互いに組み合わせてもよい。例えば、第２〜第７実施形態においても第１実施形態（図９）と同様に、ノズル装置３を覆うカバー８を設けてもよい。第４実施形態（図１３）においても第５実施形態（図１４）と同様に第１方向の両端の外側溝部８２，８３を溝形成部材１１の先端面まで延ばし、溝形成部材１１の先端面の第１方向の外端部分に端溝８４〜８７を設けてもよい。
第４実施形態（図１３）や第５実施形態（図１４）においても、第２実施形態（図１０）と同様に、外側溝部８２，８３どうしを連通溝８１で連ねてもよい。
第７実施形態（図２０）のツリー溝部を有しない処理ガス供給溝４０を、第１〜第６実施形態の電極９０を有しないノズル装置３に適用してもよい。
第７実施形態において、第２実施形態と同様に、外側溝８０（８２，８３）を供給溝形成部材９１に代えて被覆部材９２に設けてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や半導体ウェハの製造に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を、図４のI-I線に沿って矢視した正面図である。
【図２】上記ノズル装置の主に第１溝形成部材を、図４のII-II線に沿って矢視した背面図である。
【図３】上記ノズル装置の主に第２溝形成部材を、図４のIII-III線に沿って矢視した正面図である。
【図４】図１のIV-IV線に沿う、上記ノズル装置の側面断面図である。
【図５】図１のV-V線に沿う、上記ノズル装置の上側部分の側面断面図である。
【図６】図１のVI-VI線に沿う、上記ノズル装置の上側部分の側面断面図である。
【図７】図１のVII-VII線に沿って上記ノズル装置の一部を拡大して示す平面断面図である。
【図８】上記ノズル装置の底面図である。
【図９】上記表面処理装置の概略構成を示す解説正面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材（供給溝形成部材）を示す正面図である。
【図１１】本発明の第３実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の第２溝形成部材（被覆部材）の背面図である。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の、図７に対応する平面断面図である。
【図１３】本発明の第４実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を示す正面図である。
【図１４】本発明の第５実施形態に係る表面処理装置のノズル装置の主に第１溝形成部材を示す正面図である。
【図１５】（ａ）は、図１４のXVa- XVa線に沿う上記第５実施形態のノズル装置の先端板を省略した底面図である。（ｂ）は、図１４のXVb- XVb線に沿う上記第５実施形態のノズル装置の先端板を省略した底面図である。
【図１６】図１４のXVI- XVI線に沿う上記第５実施形態のノズル装置の底面図である。
【図１７】本発明の第６実施形態を示し、図１９のXVII- XVII線に沿う第１溝形成部材の背面図である。
【図１８】図１９のXVIII- XVIII線に沿う上記第６実施形態のノズル装置の先端板を省略した底面図である。
【図１９】図１７のXIX- XIX線に沿う上記第６実施形態のノズル装置の下側部分の側面断面図である。
【図２０】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２１のXX-XX線に沿う正面断面図である。
【図２１】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２０のXXI-XXI線に沿う平面断面図である。
【図２２】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２０のXXII-XXII線に沿う側面断面図である。
【図２３】本発明の第７実施形態のノズル装置を示し、図２０のXXIII-XXIII線に沿う側面断面図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１ 表面処理装置
２ 被処理物配置部
３ ノズル装置
４ 処理ガス源
５ ガス吸引手段
７ 第２ガス吸引手段
８ カバー
９ 被処理物
１１ 第１溝形成部材（供給溝形成部材）
１１ｆ 主面
１２ 第２溝形成部材（被覆部材）
１２ｒ 被覆面
２１ 裏側外壁部材（第２の被覆部材）
３０ ヘッダ部
３１ 供給ヘッダ路
３２ 裏側吸引ヘッダ路
３３ 表側吸引ヘッダ路
４０ 処理ガス供給溝
４１ ツリー溝部
４２ 開口溝部
５３ 裏側吸引溝
５４ 連通孔
５５ 連通孔
７０ 先端板
７１ 供給スリット
７２ 裏側吸引スリット
７３ 表側吸引スリット
７５ａ 凹部
７８ 外端吸引スリット
７９ 外端吸引スリット
８０ 外側溝
８１ 連通外側溝部
８２ 外側溝部
８３ 外側溝部
８４ 端溝
８５ 端溝
９０ 電極
９１ 供給溝形成部材
９２ 被覆部材
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物に処理ガスを供給するノズル装置において、
処理ガス供給溝が形成された主面と、前記主面と交差する先端面を有し、前記処理ガス供給溝が前記先端面に達する板状の供給溝形成部材と、
前記主面を覆うように前記主面に重ねられる被覆面を有する被覆部材と、
を備え、前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、前記主面と前記被覆面との何れか一方の前記処理ガス供給溝より外側部分には外側溝が形成され、前記外側溝が、ガス吸引手段に接続されていることを特徴とする表面処理用ノズル装置。
【請求項２】
前記外側溝が、前記主面又は前記被覆面の前記外側部分の基端部と先端部との間にわたるように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項３】
前記外側溝が、前記処理ガス供給溝の前記先端面より基端側の部分を部分的に囲むように延びていることを特徴とする請求項１又は２に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項４】
前記先端面の前記処理ガス供給溝より外側の部分には、前記外側溝に連なり、かつ前記先端面の短手方向に延びる端溝が形成されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項５】
前記供給溝形成部材の前記主面とは反対側の裏面を覆う第２の被覆部材を更に備え、
前記裏面には、前記先端面の長手方向に延び、かつ前記先端面に達する裏側吸引溝が形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項６】
前記供給溝形成部材には、前記外側溝と前記裏側吸引溝とを連ねる連通孔が形成されていることを特徴とする請求項５に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項７】
前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、かつ前記先端面に近づくにしたがって前記先端面の長手方向に広がるよう枝分かれするツリー状の溝部を含んで前記先端面に達していることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項８】
基端部及び外周部をカバーで覆い、前記カバーに第２のガス吸引手段を接続したことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項１】
被処理物に処理ガスを供給するノズル装置において、
処理ガス供給溝が形成された主面と、前記主面と交差する先端面を有し、前記処理ガス供給溝が前記先端面に達する板状の供給溝形成部材と、
前記主面を覆うように前記主面に重ねられる被覆面を有する被覆部材と、
を備え、前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、前記主面と前記被覆面との何れか一方の前記処理ガス供給溝より外側部分には外側溝が形成され、前記外側溝が、ガス吸引手段に接続されていることを特徴とする表面処理用ノズル装置。
【請求項２】
前記外側溝が、前記主面又は前記被覆面の前記外側部分の基端部と先端部との間にわたるように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項３】
前記外側溝が、前記処理ガス供給溝の前記先端面より基端側の部分を部分的に囲むように延びていることを特徴とする請求項１又は２に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項４】
前記先端面の前記処理ガス供給溝より外側の部分には、前記外側溝に連なり、かつ前記先端面の短手方向に延びる端溝が形成されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項５】
前記供給溝形成部材の前記主面とは反対側の裏面を覆う第２の被覆部材を更に備え、
前記裏面には、前記先端面の長手方向に延び、かつ前記先端面に達する裏側吸引溝が形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項６】
前記供給溝形成部材には、前記外側溝と前記裏側吸引溝とを連ねる連通孔が形成されていることを特徴とする請求項５に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項７】
前記処理ガス供給溝が、処理ガスの供給手段に接続され、かつ前記先端面に近づくにしたがって前記先端面の長手方向に広がるよう枝分かれするツリー状の溝部を含んで前記先端面に達していることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【請求項８】
基端部及び外周部をカバーで覆い、前記カバーに第２のガス吸引手段を接続したことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の表面処理用ノズル装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【公開番号】特開２０１０−８４１６１（Ｐ２０１０−８４１６１Ａ）
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５１２１１（Ｐ２００８−２５１２１１）
【出願日】平成２０年９月２９日（２００８．９．２９）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月２９日（２００８．９．２９）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
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