【課題】不純物で汚染された搬送アームを支障の無い状態で使用可能に再生することができる搬送アームの清浄化方法を提供する。
【解決手段】複数の処理室が連結された搬送室を備え、処理が行われる基板を前記搬送室に設けられた搬送アームにより各処理室間で搬送して順次基板に処理を行う有機ＥＬ素子製造装置の搬送アームの清浄化方法である。そして、搬送アームの前記基板を保持する保持部の前記基板と対向する面を研磨する研磨工程と、前記研磨した搬送アームを前記有機ＥＬ素子製造装置に取り付けた後に、減圧条件下で搬送アームをベークするベーク工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】外気圧より低い気圧に維持される低圧室内において低コストで被洗浄面に付着した付着物を除去すること。
【解決手段】被洗浄面に付着した付着物を次のような方法で除去する。この除去方法は、外気圧より低い気圧の低圧の室内６に設置された空気の送り出し装置（例えばコンプレッサー８）であって、低圧の室内６において取り込んだ空気を送り出す送り出し装置から送られる空気により、前述の低圧の室内６における被洗浄面にドライアイス粒５を噴射し、この噴射による衝突エネルギにより被洗浄面に付着した付着物７を除去する。低圧の室内６に設置されたコンプレッサー８による圧縮空気でドライアイス粒５を噴射するので、室外に設置されたコンプレッサーからの高圧空気のように室内の圧力を上昇させることがない。よって、室内６を負圧に維持するための装置を少なくすることができ、低コストで被洗浄面の付着物を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】紫外線照度及びオゾン濃度を安定化し被洗浄物に対して面内均一な洗浄を実施できるドライ洗浄装置及びドライ洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄槽２内において、気体３の上流側から順に整流板５、紫外線ランプ６及び被洗浄物７を配置する。紫外線ランプ６は、２５４ｎｍ及び１８４ｎｍの波長を有する紫外線を照射する。気体３中の酸素と１８４ｎｍの紫外線により発生したオゾン及び２５４ｎｍの紫外線により被洗浄物７を洗浄する。オゾン濃度及び２５４ｎｍの紫外線照度は、オゾン濃度計９及びＵＶ照度計１０により夫々測定され、この測定結果に基づき流量制御１９により気体３の流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】洗浄部近傍の吸引状態を確実に検出することが可能でかつ吸引気流に含まれる揮発性ガスと接触せずに安価な流量検出手段にて検出する。
【解決手段】揮発性洗浄剤が供給される洗浄部１０と、洗浄部１０を基板１の洗浄箇所に沿って相対移動させる移動手段３と、洗浄部１０の近傍の雰囲気を吸引して排出する排気手段２０とを備え、排気手段２０は、洗浄部１０の近傍に開口する吸込口２１と排気ファン２２を接続する吸引経路２３と、吸引経路２３に分岐接続された外気吸入経路２４と、外気吸入経路２４に吸入される吸入流量を検出する流量検出手段２５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面と下面とを同時に、しかも確実に洗浄することができる基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】一側面に出し入れ口２が形成された処理槽１と、この処理槽内の上記出し入れ口と対向する位置に設けられ処理槽内に搬入された半導体ウエハ１０の搬入方向と交差する径方向の両端部を保持してこの半導体ウエハを回転駆動する保持駆動手段８と、保持駆動手段に保持された半導体ウエハに処理液を供給する洗浄ノズル１２４，１２５と、処理槽内の上記保持駆動手段よりも内方に設けられ先端部に上記半導体ウエハの板面を洗浄する洗浄ブラシ７１，１２２を有するアーム６３，１２１およびこのアームを上下方向に駆動するとともに洗浄ブラシが半導体ウエハの径方向に沿って移動するよう上記アームを揺動駆動する駆動手段を有するツールユニット６１，６２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エキシマ真空紫外光ランプから射光されたエキシマ真空紫外光を効率よくウエハに照射することができ、真空紫外光を利用してウエハの薄膜を良好に改質することができるエキシマ真空紫外光照射処理装置を提供する。
【解決手段】エキシマ真空紫外光照射処理装置１０は、ウエハ１６を収容するチャンバー１２と、チャンバー１２内を真空に保持する真空ポンプ１３と、チャンバー１２内に窒素を供給するガス供給装置１４と、チャンバー１２内に収容されたウエハ１６を所定温度に加熱するヒータ１５と、チャンバー１２内に収容されたウエハ１６の薄膜にエキシマ真空紫外光を照射するエキシマ真空紫外光ランプ２１とを備えている。装置１０では、ランプ２１がチャンバー１２内に露出しつつ、真空状態にあるチャンバー１２内に収容されたウエハ１６の薄膜に真空紫外光を直接照射する。 （もっと読む）

本発明は、歯科治療装置の吸引ライン１の洗浄、又は歯科治療装置とは物理的に別個のものとして実施される吸引ラインの洗浄に関し、この吸引ライン１は、負圧を発生させる手段と少なくとも１つの吸引ホース２とを備える。本発明では、吸引ライン１に、所望の点を通過して洗浄剤を流すことを可能にする手段及び／又は所望の点までラインを充填することを可能にする手段が配置されることが重要である。本発明は、吸引ライン１の少なくとも一部に洗浄剤が充填されて吸引ライン１又はその一部に所望の時間にわたって残り続けることができるように、液体状の洗浄剤を吸引ライン１に送り込むことを可能にする。 （もっと読む）

【課題】機械加工物（ワーク）の水切り装置であって、ワークの表面に付着された水滴を完全に除去する技術を提供する。
【解決手段】水切りすべきワーク１を保持するエアブローボックス２と、エアブローボックス２内に取りつけられ、ワーク１をクランプするワーククランプ冶具３と、ワーククランプ冶具３を回転してクランプされたワーク１を回転し、ワーク１に付着された水滴を滴下する冶具回転機構４と、ワーク１から滴下された水滴１１の落下方向と同方向の気流を発生させるエアブロー５とから構成される。 （もっと読む）

【課題】繊維紡糸用ノズルに付着した有機物、特に孔径が５０μｍ以下の細孔を有するノズルに付着した有機物を、ノズルに損傷を与えることなく、効率よく除去できる繊維紡糸用ノズルの洗浄方法の提供。
【解決手段】対向する電極１２間の放電空間を通過するガスをプラズマ化し、得られたプラズマガスを繊維紡糸用ノズル１４に接触させる工程を有することを特徴とする繊維紡糸用ノズル１４の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】誘電体バリア放電ランプにおけるランプ軸方向を均等な温度分布に冷却して良好なランプ軸均斉度を実現する。
【解決手段】ペルチェ素子１と、外部電極２と、誘電体バリア放電ランプ３と、誘電体バリア放電ランプ３を構成する石英ガラス管４と内部電極５およびエキシマ生成ガス６と、を備える。ペルチェ素子１を外部電極２に密着して配置し、ペルチェ素子１の吸熱側の面を外部電極２に密着させる。一方、放熱側のペルチェ素子１の面は外部に開放されて大気と触れており、送風手段にて送風された冷却用の風（Ｆ）が放熱分を奪いペルチェ素子１を冷却する。 （もっと読む）

【課題】プラズマを利用した基板処理において、プラズマの不均一性をコントロールして基板面内での加工制御を実現すること。
【解決手段】本発明は、内部に処理対象となるウェハＷを配置するチャンバ１０と、チャンバ１０内でウェハＷを載置するステージ１１と、チャンバ１０内にプラズマを発生させるため、チャンバ１０とステージ１１との間に高周波電圧を印加する高周波電源１４とを備える基板処理装置１であって、ステージ１１のウェハＷの面方向における電気抵抗値が不均一となっているものである。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生、部品の故障等を抑制することができるガス供給装置、ガス供給方法、薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置１の制御部１００は、熱処理装置１の内部に付着した付着物を除去するために、ガス供給部２０の少なくとも、フッ化水素の流量を制御するＭＦＣより上流側の温度及び圧力を、フッ化水素における準単分子領域内の温度及び圧力に設定し、フッ化水素を含むクリーニングガスを反応管２内に供給する。 （もっと読む）

【課題】超臨界流体の急激な流量変化による温度変化に対応して、素早く超臨界流体の温度を一定に保てるようにした洗浄方法、及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】それぞれ異なる設定温度の超臨界流体を流す複数系統の超臨界流体ライン１２、１３を合流させ、それぞれの系統の超臨界流体ラインからの超臨界流体の流量及び混合比を制御して、合流後の所要温度の超臨界流体により被洗浄物を洗浄する被洗浄物の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】真空装置に設置されて有機膜を紫外線硬化させるための紫外線照射窓の汚染を簡単かつ確実に洗浄できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】真空又は減圧下で有機膜を紫外線硬化するための紫外線照射窓８ａの洗浄装置であって、紫外線照射窓の周縁の上側に配置される管状の吹付け部材３０と、吹付け部材に開口して紫外線照射窓の表面に酸素含有ガス又はオゾン含有ガスを吹付ける吹出し口３２とを有し、前記吹出し口は前記吹付け部材から前記紫外線照射窓の表面に向かって前記ガスが集中するように位置する。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の表面に形成されている酸化膜を、従来よりも効率的に除去する。
【解決手段】 この発明に係るクリーニング装置１０によれば、チャンバ１２内のプラズマ発光室３８で、水素プラズマが生成される。そして、この水素プラズマに含まれる水素ラジカルのみが、遮蔽板３６をすり抜けて、処理室４０に導かれる。処理室４０においては、支持台１４上に設置された被処理物１８，１８，…が、抵抗加熱ヒータ２０によって加熱されおり、この被処理物１８，１８，…の表面に形成されている酸化膜と、水素ラジカルと、が互いに反応し合うことによって、当該酸化膜が還元され、除去される。さらに、被処理物１８，１８，…には、支持台１４および連結棒２２を介して、超音波振動子２４から振動が付与される。これによって、被処理物１８，１８，…の隅々にまで水素ラジカルが行き届き易くなると共に、当該水素ラジカルと酸化膜との反応が活性化される。 （もっと読む）

本発明は、コーティングシステムにおいて洗浄工程を実行する方法に係る。該コーティングシステムは、コーティングされるべき製品を受容するよう水平方向に回転するよう取り付けられるドラムコンテナ（１４）、及び、多角形であり、エアダクト（５）によって個々に密封して覆われる穴あき側面積を有する。本発明はまた、かかる方法を実行する装置に係る。本発明は、軸方向に移動され得る洗浄ランス（１６）が、エアダクト（５）の内壁を洗浄及び／又は乾燥するようドラムコンテナの外壁上に配置されるエアダクト（５）を自動的に通過する、ことを特徴とする。

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【課題】蛍光塗料が付着したウエスを洗浄することで該ウエスを再利用可能にし、且つ金属蛍光体を回収することが可能なウエス洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部に空間を有する洗浄機本体Ａ１内に、蛍光塗料が付着したウエスから蛍光塗料を除去するための洗浄液剤又は濯ぎ液剤を貯留するための洗浄タンクＡ２を備え、該洗浄タンクＡ２の上方に前記洗浄タンクＡ２内に貯留された洗浄液剤又は濯ぎ液剤に浸漬させながらウエスを巻き取るための、第１のリールａ１と第２のリールａ２とを備える。また、洗浄液剤中に溶解する蛍光塗料を除去し、且つ蛍光塗料除去後の洗浄液剤を貯蔵するための洗浄液剤供給回収部Ｂと、濯ぎ液剤中に溶解する蛍光塗料を除去し、且つ蛍光塗料除去後の濯ぎ液剤を貯蔵するための濯ぎ液剤供給回収部Ｃと、洗浄機本体Ａ１内に供給されるガスから気化した洗浄液剤又は濯ぎ液剤を液化させて回収するための排ガス分離部Ｄとを備える。 （もっと読む）

【課題】部品から除去した塵埃が、再び部品に付着することを確実に防止することができ
る除塵装置及び除塵方法を提供すること。
【解決手段】処理対象５０を保持する保持台３０を有する除塵室１２と、処理対象５０に
対して空気を吹き付ける空気噴射装置２２と、除塵室１２から塵埃を吸引する負圧発生装
置１８を有する除塵装置１０であって、負圧発生装置１８は、除塵終了後において、予め
規定した規定時間の間、作動を継続するように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生ノズルから処理対象とされるワークにプラズマ化されたガスであるプルームを照射して所定の処理を施与するワーク処理装置において、プルーム照射による分解残渣などの塵埃を吹き飛ばすための送風設備をワークの周辺に設ける必要がない簡素で安価な集塵設備を備えたワーク処理装置を実現する。
【解決手段】プラズマ発生ノズル３１は、プラズマ化されたガスを放出してワークＷの上の塵埃を吹き飛ばすものであり、プラズマ発生ノズル３１から放出されるプラズマ化されたガスが吹き飛ばした塵埃を収集する集塵装置１２０をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】金属蛍光体を含むセルロース系樹脂が付着した繊維布材を洗浄することにより、付着物を効率よく除去できる洗浄液組成物、及びその洗浄液組成物を用いた繊維布材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、金属蛍光体を含むセルロース系樹脂が付着した繊維布材３を洗浄するための洗浄液組成物であって、洗浄液組成物がメタノール、エタノール及びアセトンからなる群より選ばれる少なくとも１つの溶剤を含有し、かつ洗浄液組成物中の溶剤の含有率が７０体積％以上である洗浄液組成物である。 （もっと読む）