【課題】食肉塩漬タンクの洗浄装置において、洗浄水が塩漬タンクから洩れず、洗浄水によって床面が濡れないようにし、蒸気が塩漬タンクから放出されず、室内に充満しないようにする。
【解決手段】パイプ３が遮蔽板２を貫通し、ノズル５がパイプ３の先端に設けられ、塩漬タンク１内に挿入され、第１弾性体８がパイプ３のまわりに配置され、遮蔽板２に支持され、塩漬タンク１の開口端に押し付けられる。さらに、第２弾性体１０が第１弾性体８の外側に配置され、遮蔽板２に支持され、塩漬タンク１の周面に押し付けられ、第１および第２弾性体８，１０によって塩漬タンク１と遮蔽板２間が二重シールされる。 （もっと読む）

【課題】 スルーホール挿入型である個別半導体（ＬＥＤ等）のリードフレーム部材のチップ実装部を効率よく洗浄処理する。
【解決手段】 処理室１７内に配置されたプラズマ生成用の下部電極１９に、略平板状のリードフレーム部材を多数、起立保持するための櫛歯形状の溝１９ａを形成し、その溝１９ａの両側部は開口とする。複数の未処理のリードフレーム部材は、処理対象であるチップ実装部が上向きになるように下部電極１９の各溝１９ａ内に起立状態で収容される。処理室１７が閉鎖された状態で、上部電極１８と下部電極１９との間に発生されるプラズマの作用により、多数のリードフレーム部材の実装部は一度に処理される。このため、処理効率が良く装置も小型化できる。 （もっと読む）

【課題】 金型の成形面に傷を発生させるおそれがなく、確実な密閉空間を形成して除去した異物を周囲に再付着させることなく確実に収集又は外部に排出することができ、大掛かりな装置を必要とせず簡単な構造で迅速に清掃でき、比較的小型の金型清掃に適した光学ガラス素子の金型清掃方法及び金型清掃装置を提供する。
【解決手段】 金型（下型７）の成形面１２を覆って密閉空間Ｓを形成し、該密閉空間Ｓに清掃ガスを吹込んで前記成形面Ｓを清掃するとともに、該密閉空間Ｓ内の清掃ガスを周囲に拡散させることなく排出する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は空気中に含まれた微細ゴミを収集でき、且つ吸入ブラシがわにおける流速を向上させることのできるマルチサイクロン集塵装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るマルチサイクロン集塵装置は、大ゴミが収集される第１サイクロンユニットと、微細ゴミが収集される第２サイクロンユニットとを含む第１および第２マルチサイクロンユニットと、内部に分岐板を備え、第１および第２マルチサイクロンユニットそれぞれにゴミの含まれた空気を分配して供給する空気吸入流路と、第１および第２マルチサイクロンユニットそれぞれの第２サイクロン部から排出された空気を集めて外部に排気する排気流路とを含む。 （もっと読む）

基板洗浄装置は、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種との第一比率を有する活性ガスを形成するために水素含有ガスを遠隔励起するリモートソースを有する。本装置は、基板支持体と、遠隔励起ガスをろ過して、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種の第二比率を有し、第二比率が第一比率と異なる、ろ過された励起ガスを形成するイオンフィルタと、チャンバにろ過された励起ガスを導入するガス分配器とを備えたプロセスチャンバを有する。
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【課題】 処理品質を向上させながら、小型化に有利な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 送引均衡型水洗ノズルヘッド１０に装備された排液チューブウォール２，４によってリンス処理後の純水（処理済リンス液）を吸引して基板上から直ちに除去するとともに、送引均衡型エアーナイフヘッド２０に装備された排気チューブウォール６，８によって処理済リンス液を含んだ乾燥処理後のガス（処理済乾燥ガス）を吸引して基板上から直ちに除去している。このため、処理済リンス液が飛散してヘッド２０によって乾燥処理される基板表面に付着することがない一方で、液切りされた処理済リンス液が飛散してヘッド１０によってリンス処理される基板表面に付着することがない。したがって、両ヘッド１０，２０を互いに近接配置して装置を小型化することができるとともに、汚染物の基板Ｗへの再付着を確実に防止して基板Ｗの処理品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】安全かつ高速に高真空排気を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】試料にプラズマ処理を施すプロセスユニット１０５と、処理の終了した前記試料をプロセスユニット外に搬出する搬送ユニット１０４と、搬送ユニット１０４と各プロセスユニット１０５を接続する通路を開閉するゲートバルブ１０７と、搬送ユニット１０４内を搬送処理時の圧力に真空排気する高真空用排気ポンプと、少なくとも前記高真空用排気ポンプ内を粗引き排気する低真空用排気ポンプと、前記高真空用排気ポンプを接続した搬送ユニット１０４内に配置した溜め込み式の真空排気手段１０６を備え、溜め込み式の真空排気手段１０６とプロセスユニット１０５の間を接続するゲートバルブ１０７を全て閉じた状態でのみ処理ガスをプロセスユニット１０５に供給する。 （もっと読む）

【課題】 ダスト混在物に内在するダストを、容易かつ短時間で取り去る。
【解決手段】 ダスト混在物（布団４）を内部に収納して密封可能な袋１と、前記ダスト混在物（布団４）と共に前記袋１の内部に収納され、前記袋１外部に延びる管を有し、前記管の延びた前記袋１外部から前記袋１内部の空気を吸引圧着プレスして前記ダスト混在物（布団４）に内在するダストを吸引する吸引具５を備えた、布団類および衣類毛皮のダスト除去し清潔維持する事で、アトピー性皮膚炎・花粉・埃・ダニアレルギーを軽減した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、焼却炉に付着した飛灰等の灰を、飛散させることなく効率よく確実に除去することができる焼却炉の灰除去装置及びその方法を提供する。
【解決手段】ガス化炉７０の外壁面上に作業車７２を移動自在に載置する。そして、ワイヤロープ９４によって作業車７２を、ガス化炉７０の中心軸７１に沿って移動自在にガイドする。次に、エアチューブ８４を膨張させてガス化炉７０の外壁面に密着させる。次いで、作業車７２の床に形成された作業用開放部８２を介してスポンジブラスト媒体を外壁面の所定のエリアに投射し、このエリアに付着した灰を除去する。このときに生じた粉塵は、作業車７２の室内がエアチューブ８４により完全に密閉されているため、作業車７２の外部に漏れることはない。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェハの有機物汚染を軽減する有機物除去装置および除去方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機物除去方法は、減圧された処理室５内に配置される半導体ウェハＷに付着した有機物の除去を行う。半導体ウェハＷに波長２００ｎｍ以下の紫外線を照射し、半導体ウェハに付着した有機物を分解する。そして、処理室５内に、酸素マイナスイオンラジカルまたは酸化物イオンと酸素マイナスイオンラジカルを含む単原子イオンから成るマイナスイオンを供給して、マイナスイオンを紫外線により分解された有機物と反応させる。この酸化反応によって、有機物が半導体ウェハＷから、気体として放出され除去される。 （もっと読む）

【課題】 超臨界流体を洗浄媒体として用いたときに、パーティクルの除去効率が向上する洗浄方法を提供するものである。
【解決手段】 被洗浄物を配置したチャンバー内に洗浄媒体を供給し、洗浄媒体に対して、１相状態の超臨界状態（ｃ点）と気液２相状態（ｄ点）を行き来させて、被洗浄物の表面に付着したパーティクルを除去する。 （もっと読む）

【課題】 半導体レーザ素子の製造方法に関し、特に共振器の両端面に保護膜を有する半導体レーザ素子において、保護膜の膜質によらず、ＣＯＤによる素子劣化が少なく、高出力かつ高信頼性が得られることにある。
【解決手段】 共振器端面１ａ，１ｂを所定の条件下、例えば低イオンエネルギーかつ高イオン電流密度でプラズマ処理することによって、劈開時に発生した共振器端面１ａ，１ｂ部の汚染物質や自然酸化層を除去すると共に、酸化が抑制されるように共振器端面１ａ，１ｂを改質させる。 （もっと読む）

【課題】 基板を非接触で水平姿勢に保持する場合において、簡易な構成により、基板を浮上させるために基板下面に向けて噴出される気体の流量を均一化することができる装置を提供する。
【解決手段】 空気通路となる微細孔が全体にわたって均一に形成された円環状の多孔質部材２０と、多孔質部材２０が一体的に固設されて上面に多孔質部材の平坦な表面が露呈し多孔質部材の一部に連通する気体供給路２６が内部に形設されたステージ１８と、ステージ１８の気体供給路２６を通して多孔質部材２０へ気体を供給する気体供給手段とを備え、多孔質部材２０へ気体を供給して多孔質部材の表面から上向きに気体を噴出させ、ステージ１８の直上に基板Ｗを浮上させて非接触で保持する。 （もっと読む）

【課題】 処理槽の上部空間の雰囲気を排気したときに、排気管内に塩が蓄積することを防止してパーティクル発生の原因を取り除くことができる装置を提供する。
【解決手段】 上部に開口を有し処理液を貯留する処理槽１０、処理槽１０内で基板Ｗを保持するリフタ１８、処理槽１０内へ処理液を供給する手段、処理槽１０の上部開口の上方に設けられた排気口３０に連通接続された排気管３２を通して処理槽１０の上部開口上の雰囲気を排気する排気手段、および、排気管３２の途中に連通接続された純水供給管３４を通して排気管３２内へ洗浄用純水を供給する純水供給手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】 ランプハウスと被照射領域を区画していた光取り出し窓を排除して装置構成を簡素化し、低コスト化を実現できるとともに、ランプ端部近傍に配置された給電部材が活性酸素にさらされることを回避して酸化を防ぎ、当該部材の劣化や破損の発生を低減することができるエキシマランプ装置を提供すること。
【解決手段】 誘電体を介した放電により紫外光を放射するエキシマランプと、エキシマランプを収容するランプハウスと、を具備し、前記ランプからの放射光を取り出す開口がランプハウスに形成され、ランプハウス内部空間が被処理物が処理される処理室内部空間と該開口を介して連通してなるエキシマランプ装置であって、エキシマランプの少なくとも一方の端部に給電部材が接続されて給電結合部が形成されてなり、ランプハウスの内部に、給電結合部が形成されたランプ端部領域とランプハウス内部空間とを仕切る仕切部材が配設されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 医療器具に対して付着したミクロの汚れを効率的に除去するとともに強い洗浄消毒処理が可能な医療器具洗浄消毒装置を提供する。
【解決手段】 医療器具を洗浄するための洗浄消毒槽１０と、洗浄時に洗浄消毒槽１０に収納された内視鏡１７に対して洗浄液を噴射するための噴射バルブ切替器５と、洗浄時に噴射バルブ切替器５に対して供給する洗浄液に対して、微細気泡化した気体を過飽和状態となるまで溶解させるためのバブル発生器２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】組み立てが簡単な処理システムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを収納する基板処理室３３と，基板Ｗを保持する保持部材５１Ａ〜５１Ｄ，及び，基板処理室３３の開口７２を閉塞する蓋５２を有する基板保持体４１と，保持部材５１Ａ〜５１Ｄに対する基板Ｗの受け渡し時には基板Ｗが略水平になるようにし，基板処理室３３内では基板Ｗが略垂直になるように基板保持体４１を姿勢変換させる保持体姿勢変換機構４３と，保持部材５１Ａ〜５１Ｄを基板処理室４１の内部と外部とに移動させる保持体移動機構４５と，保持部材５１Ａ〜５１Ｄに対して基板Ｗの受け渡しを行う基板搬送装置２０とを備える。基板処理室３３，基板保持体４１，保持体姿勢変換機構４３及び保持体移動機構４５は，処理システム１本体から一体的に取り外し可能なユニット５を構成する。 （もっと読む）

【課題】 段差のある被処理材を部分的に表面処理する場合であっても、処理ガスを漏洩させることなく、被処理部材の処理領域のみを均一に表面処理を行うことができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】 処理ガスが吹き出す処理ヘッド１の処理ノズル４１の処理表面４１ｄに、被処理材Ｗ１の処理領域Ｆ２を対向配置し、前記処理表面４１ｄと前記処理領域Ｆ２との間に処理ガスを流して、被処理材の表面処理を行う装置であって、処理ヘッド１の処理ノズル４１は、前記被処理材Ｗ１の処理領域Ｆ２に隣接した非処理領域Ｆ１に密着する密着部４１ｃを備え、さらに処理ノズル４１は、キャリアガスが供給される給気流路５４と、前記処理後のガス及び前記供給されたキャリアガスを排気する排気流路５３と、を備えてなる。 （もっと読む）

本発明は、紙匹（１２）の両側に動作的に配置される一対の動作的に回転する洗浄ローラ（１４）と、各ローラの表面の主要部を取り囲む筐体（２０）と、各ローラ（１４）と実質的に同一の広がりを有する真空室（２２）と、各ローラ（１４）と平行に延在し、且つ、それと実質的に同一の広がりを有する長手のスロットとを含み、スロットは、ローラ表面の近傍の入口（２４）と、真空室と連絡し、且つ、ローラ（１４）の近隣から真空室（２２）内への空気流の経路を動作的にもたらす出口（２６）とを有し、各入口（２４）での空気流速度は、ローラの前記表面速度未満ではない紙匹洗浄装置（１０）、並びに、そのような装置（１０）を使用する方法に関する。本発明の他の装置は、ローラ（１４）を取り囲み、約０．５ｍｍ〜約５ｍｍの間隙でそこから離間する筐体（２０）を含む。本発明のさらなる実施態様は、洗浄ステップにおいてローラ（１４）の周りの空気流を制御するためのシャッタ（２０６）を提供する。本発明のさらなる実施態様は、バイパスライン（１２０Ａ）によって制御される弁（１２２Ａ）を提供することによって、紙匹洗浄装置（１０）の所与部分は、それが真空下にないよう大気と連絡する。

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【課題】 ミスト状となった洗浄液の外部への漏れを防止でき、しかも、外部からのパーティクルの浸入を招くことがない基板処理装置を提供する。
【解決手段】 回転軸４と一体的に回転するファン９を回転軸４に取り付け、カバー５の外側であって貫通孔５ａ近傍における気流を、回転軸４の延びる方向に直交する方向であって、回転軸４の周囲方向に向かう方向に発生させる。これにより、カバー５の外側の貫通孔５ａ近傍に存在するミスト状の洗浄液を、ケーシング６内壁に沿わせて案内し、ミスト状の洗浄液がケーシング６の貫通孔６ａから外部に漏れることを防止する。また、外部からカバー５の貫通孔５ａに向かって浸入しようとする空気も、回転軸４の周囲方向に向けて案内して、カバー５内へのパーティクル浸入を防止する。 （もっと読む）