【課題】 清掃する床面又は壁面に散布した洗剤が清掃範囲外に流出することを防止できる床面又は壁面の清掃方法を提供すること。
【解決手段】 床面又は壁面の清掃方法は、床面又は壁面の清掃範囲外に洗剤が流出することを防止する防護フェンスを設置する第一工程と、清掃する床面又は壁面に洗剤を散布する第二工程と、洗剤を払拭し床面又は壁面の汚れを除去する第三工程と、床面又は壁面の清掃範囲内に残留する洗剤を中和するための中和剤を散布する第四工程と、防護フェンスを撤収する第五工程と、床面又は壁面を水ですすぎ洗う第六工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】超音波を用いた枚葉式の洗浄装置において、洗浄速度に優れ、かつ、被洗浄物（ウエハ）の全面を均一に洗浄できる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置１０に、超音波振動子２１から伝搬する超音波を照射する照射面２０ａを両側に備え、かつ、それら２つの照射面２０ａ内に洗浄液を噴出する噴出口２０ｂをそれぞれ備えた振動体２０と、照射面２０ａのそれぞれと対向するウエハ５０を平行に並べて保持するガイドローラ１１ｃとを設ける。照射面２０ａ内に配置された噴出孔２０ｂから洗浄液を噴出させつつ、超音波を照射面２０ａからウエハ５０に照射して洗浄を行うことで２つの被洗浄面を同時に洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄速度が速く、障害物や断面変化がある場所でも洗浄可能であり、作業に伴う危険性が少なく、さらには環境に対する負荷の低減された移動式洗浄装置を提供すること。
【課題を解決するための手段】
移動しながら、移動路に沿って配置されている対象物を洗浄する移動式洗浄装置であって、移動手段（１０）と、該移動手段（１０）に搭載され、ナノバブル水を該対象物に向けて噴霧するナノバブル水噴霧装置（２０）と、該移動手段（１０）に搭載された高圧水噴射装置（３０）であって、該移動手段（１０）の移動方向を基準にして、該ナノバブル水噴霧装置（２０）の後方位置に配置され、移動手段（１０）の移動に伴って、該ナノバブル水噴霧装置（２０）が先にナノバブル水を噴霧した対象物に高圧水を噴射する高圧水噴射装置（３０）と、を有する移動式洗浄装置（１）。 （もっと読む）

【課題】洗浄殺菌の工程を行った後、殺菌効果を得るためのホールド時間に、他のコンテナに前記洗浄殺菌等の工程を行うことにより、時間を無駄にせず、効率的な殺菌洗浄処理を行う。
【解決手段】各コンテナの処理を行う中央の処理部Ａと、この処理部Ａに設置され液体を噴射するノズル１２を有する処理ヘッド８と、処理ヘッド８に洗浄液、殺菌剤等を切り換えて供給する液体供給手段１６と、前記処理部Ａの周囲に配置された４箇所のコンテナ載置部Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅを有している。第１載置部Ｂのコンテナ２Ｂに第１工程の洗浄液の噴射と第２工程の殺菌剤の噴射を行った後、そのまま放置する第３工程を行う。この第３工程の間に他の３個のコンテナ２Ｃ、２Ｄ、２Ｅの第１工程および第２工程を順次行う。その後、第１載置部Ｂから第４載置部Ｅの各コンテナ２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ、２Ｅに順次第４工程を行う。 （もっと読む）

【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程３、物品を、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程４、エーテル置換工程４から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、１〜１０倍の量の水を接触させる水抽出工程６、含フッ素エーテルと水とを分離させる水分離工程７、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程４に戻す工程を有する物品の水切り方法。 （もっと読む）

【課題】食品又は飲料の製造装置に付着したフレーバー臭を効率よく除去することのできる脱臭洗浄方法を提供すること。
【解決手段】マイクロバブルを含む液体に１〜３．５ＭＨｚの超音波振動を付与してナノバブルを生成させ、ナノバブルを含む液体を製造装置内に循環させて脱臭洗浄する、食品又は飲料の製造装置の脱臭洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】この発明は処理される基板を侍従による撓みが生じないように搬送することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理する処理装置において、
固定ステーション８と、この固定ステーションの側面に設けられ上記基板を立位状態で搬送する搬送手段１０と、上記固定ステーションの側面を上記搬送手段によって立位状態で搬送される上記基板に所定の処理を行う処理手段１７，１８，１９とを具備する。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂフリーハンダフラックスのフラックス残渣に対する洗浄性が向上したハンダフラックス用洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物からなる成分（Ａ）を６５〜９０重量％、環式炭化水素基を有するモノアミン又はジアミンのアルキレンオキサイド付加物からなる成分（Ｂ）を５〜１５重量％、及び水を５〜２０重量％含有し、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、及び水の総含有量が９９〜１００重量％である、ハンダフラックス用洗浄剤組成物。


［上記式（Ｉ）において、Ｒ¹は炭素数１〜８の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、ＥＯ及びＰＯはそれぞれオキシエチレン基及びオキシプロピレン基を示し、ｎ及びｍはそれぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数を示し、ｎは１〜８の数であり、ｍは０〜７の数であり、ｎ≧ｍである。］ （もっと読む）

【課題】可溶性結晶スラリー洗浄剤で洗浄対象定置配管系を洗浄し、洗浄後可溶性結晶スラリー洗浄剤を再生し、洗浄対象定置配管系から除去するＣＩＰ洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】スラリー洗浄剤で洗浄対象定置配管系の固着物を剥離除去し、固形物を前記スラリー洗浄剤から分離し、前記スラリー洗浄剤を再生し前記洗浄対象定置配管系に循環供給して前記洗浄対象定置配管系を洗浄するＣＩＰ洗浄において、可溶性スラリー材料を一部結晶化させた結晶化スラリー洗浄剤を用いるとともに、前記洗浄対象定値配管系に残留したスラリー結晶を溶解する温度にしたリンス液を用いて前記洗浄対象定置配管系から結晶スラリーを排出することからなる。 （もっと読む）

【課題】宗教用有体物の表面層を形成した化粧層の表面を浄化する場合に、この化粧層が浄化時に用いられる水の浸入により損傷させられる、ということを防止すると共に、この浄化に要する時間が無用に長くならないようにする。
【解決手段】宗教用有体物１の表面層を形成した化粧層３の表面を浄化する宗教用有体物の表面浄化方法である。化粧層３の表面に生じた汚損層６に含有水分が１５〜４０ｗｔ％である溶剤９を注ぎ、次に、アルコールを注いで、化粧層３の表面の濯ぎを行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクに付着する異物は現像残りであるフォトレジストである。この残留した異物は薬液や純水と空気を混合した２流体気液のいずれか単独では容易に除去できない。また、２流体気液を用いる場合はミスト飛沫が生じやすく、これがフォトマスクに再付着すると容易に除去できなかった。
【解決手段】低速で回転するテーブル３にフォトマスク１を載置し、薬液を噴射する工程を行い、次に２流体気液を噴射する工程を実施することでフォトマスク１を洗浄する。その後、回転テーブル３を高速で回転させながら乾燥工程を行う。 （もっと読む）

【課題】前後の処理の組み合わせに基づき動的処理の配置を柔軟に行うことによって、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。
【解決手段】制御部は、処理工程のうち動的処理を行うことがある特定処理工程ｂを配置する際に、先の特定処理工程ｂの搬送元にあたる処理工程と、当該特定処理工程ｂの搬送元にあたる処理工程と、表（搬送元の処理工程の組み合わせ）に基づき、当該特定処理工程ｂの前に動的処理である水洗乾燥処理を配置するか否かを決定する。したがって、一律に動的処理が配置されることがなく、各ロットの処理工程の配置状況に応じて動的処理である水洗乾燥処理の配置を柔軟に行うことができるので、無駄な動的処理の配置がなくなって基板処理装置のスループットを向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用途に使用することもできる、水晶のような基材表面の前処理ステップにおいて使用する、様々なｐＨ領域と伝導度を持つアルカリ性ベースの組成物を用いる方法を提供する。
【解決手段】ＮＨ_４ＯＨ：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２Ｏが、容積比で１：２：２００〜１：１：１００となる希釈比で、水酸化アンモニウム、過酸化水素及び脱イオン水を含有する、ｐＨが８〜１２の_ｕｄＳＣ１組成物を用いて基材表面を処理し、次いで、ノニオン系洗浄剤と脱イオン水を容積比で１〜１００となる希釈比で含有し、ｐＨが８〜１１のノニオン系洗浄剤組成物を用いて前記基材の表面を処理する基材表面の洗浄方法。前記_ｕｄＳＣ１のｐＨが、前記ノニオン系洗浄剤組成物のｐＨより高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特別な動力を要することなく、また、より少ない液量で効率的に素早く大量の洗浄対象物を洗浄することができる洗浄装置にも適用することができる気液噴射装置を提供する。
【解決手段】液体供給源に接続されて液体を噴射する噴射ノズル２８と、該噴射ノズルの噴射口２９の近傍に気体を供給する気体供給機構とを備えたことを特徴とし、また、気液噴射装置Ｆ９は、少なくとも上記噴射ノズルをその長手軸Ｌｎに沿うようにして収納する筒状のノズル収納部Ｆｂ９を備え、上記噴射口は上記噴射ノズルの長手軸と略直交する方向に開口しており、上記ノズル収納部は、その長手軸に略直交する方向に折り曲げられたガイド筒部２７ｄを備えている、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
有機質および無機質汚れの洗浄性、低泡性、ゴム腐食防止性、低温および高温における貯蔵安定性に優れ、特に−５℃以下の低温から４０℃以上の高温においても貯蔵安定性に優れた酸性ＣＩＰ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】
（ａ）硝酸５〜５０質量％、（ｂ）非イオン性界面活性剤０．５〜５質量％、（ｃ）尿素０．０５〜１質量％、（ｄ）ジ短鎖アルキル尿素０．０１〜６質量％、（ｅ）水を残質量％、さらに（ｆ）リン酸１〜３０質量％を含有することを特徴とする酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物およびそれを用いたＣＩＰ洗浄方法。 （もっと読む）

本発明の主題は、容器（１）の処理、特に、瓶（１）の内部洗浄のための方法及び装置である。その際、少なくとも、スプレー装置（２）は、容器内部を、殺菌剤/洗浄剤（３、３′）を噴出させる。本発明によれば、スプレー装置（２）は、主として、容器内部で、容器底（１a）の近傍にまで進入する。
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【課題】大型の基板を高い洗浄力で均一に洗浄する。
【解決手段】上ブラシ２０は、回転軸２１を有し、モータ２２の駆動により回転する。軸受ブロック２３ａ，２３ｂは、上ブラシ２０の回転軸２１を回転可能に支持する。ガイド２４ａ，２４ｂは、軸受ブロック２３ａ，２３ｂを回転軸２１の軸方向へ案内する。上ブラシ２０を回転軸２１の軸方向へ移動可能に保持しながら回転するので、回転前に上ブラシ２０にたわみが発生していても、回転中に上ブラシ２０が回転軸２１の軸方向へ変位して、上ブラシ２０のたわみが解消される。従って、回転軸２１の軸振れが防止され、上ブラシ２０が基板１に接触する圧力が一定になる。 （もっと読む）

【課題】十分なフィルタ寿命を得ることができる浸漬型の洗浄装置およびそれを用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに形成されたレジスト膜等を除去する洗浄装置は、レジスト膜等の剥離処理を行うための洗浄液を貯留し、その中にウエハＷを浸漬させて洗浄処理を行う洗浄槽１０１と、フィルタ１１４，１１５が介在され洗浄槽１０１内の洗浄液を循環させる循環ライン１０４と、洗浄槽１０１で洗浄処理を行ったウエハＷに残存しているレジスト膜等を除去液としてのリンス液により除去する除去処理を行う除去処理槽としてのリンス槽１２１とを具備する。 （もっと読む）

本発明は、キレート剤を含有する液体でガラス容器を洗浄するステップ、および比色検出によって液体中の遊離キレート剤の濃度を制御するステップを含む、ガラス容器を洗浄するための方法に関する。本発明はさらに、そのような方法を実施するための装置、およびそのような装置の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】処理終了から時間が経っても、基板の表面にパーティクルカウンタの計数対象となるパーティクルが発生するおそれのない基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】まず、基板の表面にＳＰＭが供給されることにより、基板の表面の不要なレジストが除去される。その後、基板の表面に純水が供給されることにより、基板の表面からＳＰＭが洗い流される。そして、基板に付着している純水が一旦除去された後、基板の表面に純水が再び供給される。たとえ純水によるＳＰＭ除去後の基板の表面に硫酸成分が残留していても、その純水が一旦除去されたときに、基板の表面に残留している硫酸成分が乾燥する。乾燥した硫酸成分は、水分を急速に吸い込むことにより、粒径が一気に成長し、基板の表面から剥がれやすくなる。そのため、基板の表面に純水が再び供給されると、基板の表面に残留する硫酸成分が容易に排除される。 （もっと読む）