【課題】スライダとなる部分が多数配列されたバーを、生産効率の悪化や装置の複雑化を伴うことなく、バーの長手方向に平坦に研磨する。
【解決手段】研磨用治具５０は、研磨対象物の被研磨面を研磨装置の研磨面に対向させて保持する保持部５２と、研磨用治具５０を研磨装置に取り付けるための本体部５１と、本体部５１と分離されて長手方向に沿って配列し、少なくとも、被研磨面を研磨面に垂直に押し付ける押圧方向の荷重を研磨装置から受ける複数の荷重付加部５４ａ等と、保持部５２と本体部５１とを、長手方向に沿った互いに離れた位置で連結する複数の連結部５３ａ，５３ｂと、各々の荷重付加部５４ａ等と保持部５２とを連結する複数の腕部５５ａ等とを有している。隣接する連結部の間には、少なくとも１つの腕部が設けられ、両端の連結部の長手方向の外側には、各々少なくとも１つの腕部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 バレル槽のがたつきを抑制する。
【解決手段】 遠心バレル研磨装置２０には、バレル槽１０が脱着可能とされるバレル槽保持フレーム３２が設けられている。バレル槽保持フレーム３２とバレル槽１０との間には、バレル槽１０の脱着方向について弾縮可能なゴム製の座板３６が設けられている。バレル槽１０には、被係止ピン１６が設けられている。バレル槽保持フレーム３２には、ラッチプレート４１が設けられ、このラッチプレート４１には、座板３６が弾縮された位置にて被係止ピン１６に係止することでバレル槽１０を保持可能な係止溝４４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】開口部内壁の平滑度を高めてハンダペーストの塗布量を安定させるメタルマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】金属板１０にレーザ光を照射して印刷用のパターン開口部を形成し、前記開口部内に微細な砥粒を含む研磨剤溶液を封入し金属板１０に振動を加えて該開口部の内壁を研磨するとともに、次いで、開口部内壁１２に前記研磨剤溶液３０と極細繊維５０よりなる研磨材を接触させて内壁１２を研磨する。前記研磨剤溶液３０は、アルミナの微細な砥粒３１を含む硝酸塩と水との混合液である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、研磨用キャリアを用いてガラス基板の研磨を行う際に、研磨用キャリアの形状、材質、硬度を問わず適用し得、ガラス基板の外端面への傷の発生を防止しうる磁気ディスク用基板の製造方法、そのような方法によって得られる優れた特性の磁気ディスク用ガラス基板、その基板を用いた磁気ディスクの製造方法および磁気ディスクを提供するものである。ガラス基板のガラスがアルカリ金属を含有する場合には、ナトリウムイオンやリチウムイオンの移動に起因すると考えられる磁性膜、保護膜などへの突起物の発生を防止し得る。
【解決手段】 ガラス基板を研磨用キャリアにより保持して研磨するに際して、ガラス基板の外端面と接触しうる内側面を樹脂コーティングした研磨用キャリアを用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】複数の３次元自由曲面を有する部材を電解砥粒研磨とその他の研磨方法を組み合わせる事により研磨時間の短縮を図ることができる研磨工程を提供する。
【解決手段】複数の３次元自由曲面を有する部材の研磨工程において、電解砥粒研磨手段と、バレル研磨手段、バフ研磨手段、電子ビーム加工手段、およびショットブラスト手段の１種類以上とを組み合わせて研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】 研磨砥粒の配合を必要としないのにも拘わらず高い研磨速度を達成するとともに、前記防食剤の悪影響を除外しながらもディッシングなどの不具合を低減できる研磨用組成物、特にＣＭＰ用研磨組成物を提供すること。これらのＣＭＰ用研磨組成物を、特に銅または銅合金配線基板のＣＭＰに適用して、銅または銅合金配線基板を研磨する方法を提供すること。
【解決手段】 水性媒体、酸化剤、研磨促進性と防食機能を併せ持つ研磨促進剤および所望により摩擦低減剤を含有する一方、研磨砥粒を配合せず、更に必ずしも防食剤を配合しないことを特徴とする研磨用組成物。および、上記研磨用組成物を用いる金属（銅）表面の研磨方法。 （もっと読む）

本発明は、医学、工学、農学等のあらゆる分野で利用される真空用部材の表面処理技術に関する。
本発明は、水素原子を含まない液体媒体の存在下において、真空用部材の内表面を機械研磨することを特徴とする。
本発明は、さらに酸化性物質を含有させた前記液体媒体の存在下において、真空用部材の内表面を機械研磨することを特徴とする。
本発明によれば、真空用部材内表面への水素の吸蔵・固溶化を抑制でき、真空用部材の性能を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】研磨圧力を一定かつ安定して維持させ、研磨加工の精度を向上する研磨ツールを提供する。
【解決手段】筒軸１１の上端にＮＣマシーンの出力軸１４の先端部に装着される取付軸部１３を有する第１の軸１と、この軸１に挿嵌し、軸線方向に移動自在、かつ、軸１と一体的に回転させると共にストッパー手段３で脱拔を防止して設けた第２に軸２とを備え、第２の軸の下端に研磨部材２４を取付ける。第２の軸に重錘５を着脱自在に取付け、この重錘の重力で研磨部材をワーク７２に圧接させる。 （もっと読む）

【課題】 ワーク回転のほか、ツール回転によるコーナＲ面加工を可能にしたローラバニシングツールを提供する。
【解決手段】 ローラ５と、シャンク３と、ローラを回転自在、かつ、予め設定された傾斜方向に移動可能に収容するリテーナ６と、リテーナ６を回転自在に、かつ、軸方向に摺動自在に保持し、ローラ５を収容する略「くの字」状の凹部１２ａを形成したマンドレル１２，１４と、リテーナ６をツールの前方に付勢する第１の付勢手段１０とを有するローラバニシングツールであって、被加工部にローラ５押圧することにより、リテーナが後退して、ローラ５がマンドレル１２に形成された凹部１２ａの形状に沿って移動することでツール加工径を調整する機構を備えたことを特徴とするローラバニシングツール。 （もっと読む）

【課題】 微小なトルク変位を正確に軸方向の変位に変換し、前加工径のばらつきがあっても対応でき、また、繰返し使用してもへたりのない、無負荷位置（原位置）が変化しないローラバニシング工具を提供する。
【解決手段】 転圧加工のためのローラ１が複数配置された円筒状のフレーム２に挿入されて前記ローラ１によって被加工物の外周面を転圧加工するローラバニシング工具１０において、被加工物の外周面をローラ１が押圧する際、前記ローラ１が受ける負荷トルクを軸方向の変位に変換するトルク変換機構Ｔを設け、前加工寸法にバラツキがあっても、径の自動補正を行う径自動補正機構Ｅを備えたことを特徴とするローラバニシング工具１０である。 （もっと読む）

【課題】研磨作業の期間を延ばすことなくトレンチまたはトラフ中の金属のディッシングを減らす方法の提供。
【解決手段】金属を含有する半導体ウェーハのＣＭＰに有用な水性組成物であって、酸化剤、非鉄金属のインヒビター、非鉄金属の錯化剤、改質セルロース、第一のコポリマーと第二のコポリマーとのコポリマーブレンド０．００１〜１０重量％及び残余としての水を含む組成物を使って研磨する。 （もっと読む）

クランプ本体（１）は、支持体に強固に留め付けるための中央領域（２）と、２本の平行なアーム（３、４）と、該アームを前記中央領域（２）に接続する４本の弾力性のある指状体（12、13、14、15）を備えた軸支回動装置（５）とを有して一体に切り出される。顎部（17）は、ピン（29）、パッド（30）、及びボルト（31）を介して前記アーム（３、４）に留め付けられる。制御部材（26）が静止位置にあるときには、ドリル（25）の端部が前記顎部（17）の突出部の間に狭持される。前記制御部材（26）を斜面（27、28）に沿って厚くなっている端部の方へ動かしてアームの後端部を相互に近付くように動かし、軸支回動装置を変形させて顎部（17）を開かせることによってクランプを開く。 （もっと読む）

【課題】従来既知の加工装置と同等の機能を有しながらも、構造面ではそれと比較してさらに簡単で制御が容易な加工装置を提供する
【解決手段】丸鋸刃等のディスク状ワーク(36)の周辺部を加工するための装置(10)は、ワーク(36)を様々な加工位置に固定するジグ手段(38)、ワーク(36)を加工するための加工手段(30)、第1加工位置と他の加工位置との間でワーク(36)を移動させるための前進手段(40)を備える。工手段(30)は加工位置で固定されたワーク(36)に対して一軸構成部または軸毎に駆動可能な多軸構成部(14)により移動自在とされている。前進手段(40)はワーク(36)と接触可能な接触体(44)を有し、接触体(44)は一軸構成部または多軸構成部(14)と連結関係にある。ワーク(36)を前進手段(40)により第1加工位置と他の加工位置との間で移動させるため、一軸構成部または多軸構成部(14)の少なくとも一軸が駆動自在とされている。
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【課題】 自浄式の汚れ拭き取り機は、十分な拭き取り力が得られず、ペレットを用いた研磨機、湯を用いた洗浄機は、メダル搬送動作に同期させることができない。
【解決手段】 水平方向の平行なローラ５ａ、５ｂに無端ベルト７を張架して周回路９を形成し、この周回路９の上面部がメダル搬送面１１となる第一研磨搬送手段３、第二研磨搬送手段１９を構成する。第一研磨搬送手段３の搬送方向末端から落下することで表裏が反転したメダル１５を、第二研磨搬送手段１９のメダル搬送面１１で受ける。第一研磨搬送手段３及び第二研磨搬送手段１９におけるメダル搬送面１１の一部分に間隙を隔てて布材３７を対向配置する。メダル搬送面１１によって移送されるメダル１５の上面に布材３７を押圧する押圧手段４１を、第一研磨搬送手段３及び第二研磨搬送手段１９に設ける。 （もっと読む）