【課題】ワークを均一に加熱する際や所定の温度分布を有するように加熱する際、複数の電極対を設ける必要性が乏しい、通電加熱装置を提供する。
【解決手段】給電部１に電気的に接続され、一方の電極１１及び他方の電極１２からなる電極対１３と、一方の電極１１及び他方の電極１３をワークｗに接触した状態でかつ給電部１から電極対１３を経由してワークｗに通電している状態で、一方の電極１１、他方の電極１３の何れか一方又は双方を移動して一方の電極１１と他方の電極１２との間隔を変化させる移動機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板を水平に搬送しながら行う熱処理において、基板面内での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。
【解決手段】基板Ｇを基板搬送路２に沿って水平に搬送する基板搬送手段２０と、基板搬送路２に沿って配置され、基板Ｇを加熱するための第１の加熱手段４と、搬送路に沿って、かつ、第１の加熱手段の後段に配置され、基板Ｇを加熱するための第２の加熱手段５と、第１の加熱手段４で加熱された基板Ｇの温度を検出するための基板温度検出手段４６と、基板温度検出手段４６の検出結果に基づいて、第２の加熱手段５に対応した基板搬送手段２ｃにおける基板搬送速度を制御する制御部４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板用熱処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
炉体内部に配設したヒータで被処理物を加熱する熱処理装置において、前記ヒータは発熱体よりなるヒータ本体を、中空金属製のケース状の熱板中に収納して構成すると共に、熱板の両端間に熱板よりも熱膨張率の小さい金属製の緊張手段を介設することにより熱板にテンションを掛けるべく構成してなる熱処理装置である。また、炉体内部に配設したヒータで被加熱物を加熱する熱処理装置において、前記ヒータは、発熱体よりなるヒータ本体を中空金属製のケース状の熱板中に収納して構成すると共に、補強材の立上げ壁を熱板に貫通し、補強材の一側端部を炉体フレームに固定し、他側端部には熱膨張を吸収可能な熱膨張吸収機構を設けたことを特徴とする熱処理装置である。 （もっと読む）

【課題】光源からの光を被照射面に均一に照射し、被照射面を均一に加熱することができる加熱装置及び加熱方法、並びに、転写率や生産性などを向上させることができる成形装置及びプラスチック成形品の成形方法の提供を目的とする。
【解決手段】加熱装置１は、断面形状が正方形のライトパイプ２と、このライトパイプ２と連結され、断面形状が正方形のライトボックス３と、このライトボックス３内に収容される光源４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】温度分布の制御精度の向上を図ることができるセラミックスヒータを提供する。
【解決手段】本発明のセラミックスヒータ１によれば、各発熱抵抗体Ｑｋ（ｋ＝１〜５）から発せられた熱を、セラミックス基板２から伝熱面としての接合界面Ｓｊ（ｊ＝１〜３）を通過させた上で、セラミックス支持部材４の低温箇所に流れ込ませることができる。セラミックス基板とセラミックス支持部材との接合界面Ｓｊは、セラミックス基板２の載置面Ｓに対して垂直な軸線を取り囲むとともに、当該軸線に対して垂直な方向に離散的に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ランプヒータの断線を確実に検知するといった機能を損なうことなく、断線の誤検知を防止できる生産性のよい基板加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱室１１ａ内にランプヒータ２１からなるヒータユニット２Ｒ，２Ｌのうち複数本のランプヒータ毎に分けてヒータグループとし、ヒータグループを並列接続して夫々電力供給するように構成する。ヒータユニットを加熱制御するときの電流値の変化に基づき複数の変曲点を通る検知基準特性を予め取得し、ヒータユニットに基板Ｗを対向させて制御手段７により処理基板を加熱制御するときの電流値が、検知基準特性を基に設定した許容範囲を超えると、ヒータの断線を検知する断線検知手段を備える。電流値の単位時間当たりの変化量を測定し、電流値が許容範囲を超えて変化したときの前記変化量が所定値以下であると、断線検知手段による検知をキャンセルするキャンセル手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を解消すること。
【解決手段】チャンバ内には導電性材料からなる少なくとも４つの加熱素子または加熱素子の群が配置されており、各加熱素子または加熱素子の群は、電気エネルギー網の別個に閉ループおよび／または開ループ制御可能なサブシステムに接続されており、かつ直接的な電流通過によって加熱可能であり、別個に閉ループおよび／または開ループ制御可能な加熱素子または別個に閉ループおよび／または開ループ制御可能な加熱素子の群は、温度、加熱電力、電流、電圧、抵抗またはこの装置により影響される加熱素子のプロセス量からなる群からのパラメタの少なくとも１つの同じ値または異なる値に閉ループおよび／または開ループ制御可能であり、少なくとも４つの閉ループおよび／または開ループ制御可能なサブシステムがアースに対してガルバニック絶縁されている、腐食性ガスの温度処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 抵抗加熱式ヒータの寿命予測を正確かつ任意のタイミングで行えるようにする。
【解決手段】 抵抗加熱式ヒータの温度を通電時間で積分した積分値と抵抗加熱式ヒータの寿命との関係を示す寿命判定用情報を、抵抗加熱式ヒータと同型のヒータを用いて予め取得しておき、抵抗加熱式ヒータへの通電開始後は、抵抗加熱式ヒータの温度を温度センサにより検出し、通電開始後からの抵抗加熱式ヒータの温度を通電時間で積分し、温度の積分値と寿命判定用情報とを比較して抵抗加熱式ヒータの寿命を予測する。 （もっと読む）

【課題】熱媒体が流れるヒータ本体を傾斜して取り付けても、その内部に空気が溜まることがないヒータ装置を提供する。
【解決手段】走行路が水平面に対し傾斜角θを有し、走行路に沿って走行する長尺状の基材１を乾燥させるものであって、下面が平らな断面半円形の筒状のヒータ本体４２と、ヒータ本体４２の下面に設けられた遠赤外線を輻射する輻射面４４と、ヒータ本体４２の一端面４６に開口した熱媒体の流入口４８と、他端面５２に開口した流出口５０と、を有したヒータ部４２が、前記走行路に沿って複数個配列され、前記流入口４８と前記流出口５０が、下面の中心から法線を延ばし、その法線に対し上方にθ°回転した位置に設けられている。 （もっと読む）

【課題】自然対流の影響を回避でき、安定した制御指令変動および目標温度で温度制御できる温度制御装置を提供すること。
【解決手段】温度制御装置は、温調装置１と、温度制御対象物と接触して温度を測定する温度センサ１０と、温調装置１を制御するコントローラ３０とを備え、コントローラ３０は、温度制御対象物の載置状態を判定する載置状態判定手段３１と、この判定結果に応じて温調装置１の制御ゲインおよび目標温度を切り換える切換手段３４と、制御ゲイン、目標温度、および温度センサ１０の測定値に基づき制御指令を生成する制御指令生成手段３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】例えばホットプレス加工に際し、直接電流を流すことによりメッキ鋼鈑を加熱する直接通電加熱方法において、溶融したメッキが偏る不具合を解消する。
【解決手段】直接電流を流すことによりメッキ鋼鈑１を加熱する直接通電加熱方法において、メッキ鋼鈑１の電流が流れる方向に延びる側縁11に対して絶縁間隙２を挟んで延びる側縁31を有する補助通電板３を前記メッキ鋼鈑１と同一平面内に並べ、メッキ鋼鈑１及び補助通電板３に同位相の電流を通電することを特徴とする直接通電加熱方法である。 （もっと読む）

【課題】炉内端子部付近の発熱体の温度低下を防ぎ、発熱体全周に亘って温度の均一性を向上させる。
【解決手段】円筒型に形成された断熱壁４１と、前記断熱壁に囲まれた基板を処理する円筒型処理室と、前記処理室と前記断熱壁との間に設けられて前記処理室を加熱する螺旋巻き状の発熱体４５とを備え、前記発熱体は、その一部が前記断熱壁を貫通するとともに、該断熱壁の内部の途中から、端子部として断面積を大きくして外部に引き出されることで、前記端子部を介して供給される電力によって前記断熱壁の内部の途中まで前記発熱体を発熱させ、前記断熱壁の内壁面における前記発熱体の温度低下を抑制する。 （もっと読む）

【課題】ヒータ素線同士の接触を防止することができる素線接触防止部材を提供する。
【解決手段】加熱すべき被加熱体の外周に螺旋状に巻回して配置したヒータ素線５２を有するヒータ装置４８において、前記ヒータ素線の間隔が、前記ヒータ素線の変形により前記ヒータ素線の配置時よりも狭まった箇所７０に対応させて前記ヒータ素線間に絶縁性の素線接触防止部材６０を配置する事により、ヒータ装置４８に設けたヒータ素線同士の接触を防止して、ヒータ素線の溶断等の発生を阻止する。 （もっと読む）

【課題】抵抗加熱ヒーターにより溶融物を加熱する溶融炉において、抵抗加熱ヒーターに流れている電流により磁場が発生し、この磁場が溶融物に作用して溶融物が回転することにより、ルツボの内面が不均一に削られることを防止できる加熱溶融炉を提供し、また、これを用いた加熱溶融方法を提供する。
【解決手段】ルツボの外壁面外側に抵抗加熱ヒーターが配設されて、前記抵抗加熱ヒーターから発生する磁場の影響を受け、ルツボ内に収容された溶融物がルツボの内壁側面に沿って回転する加熱溶融炉において、溶融物の回転方向を逆転させる手段を備えて、所望のタイミングで溶融物の回転方向を逆転させることができる加熱溶融炉であり、また、この加熱溶融炉を用いて、所望のタイミングで溶融物の回転方向を逆転させる加熱溶融方法である。 （もっと読む）

【課題】ウエハの温度の変化を高速化し温度の調節の精度を向上して処理の効率を向上できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器内部の処理室内に配置された試料台上にウエハを載置して前記処理室内に形成したプラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台の内部に配置された金属製の基材と、この基材上面に配置され溶射により形成された誘電体製の膜と、前記誘電体製の膜内部に配置され溶射で形成された膜状のヒータと、前記誘電体膜上に配置された接着層と、前記接着層によって前記誘電体膜に貼り付けられた厚さ０.２〜０.４mmのセラミック製の焼結板と、前記基材内部に配置され温度を検知するセンサと、このセンサからの出力を受けて前記ヒータの発熱を調節する制御部とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 制御の追従性と定常特性の向上を図ることができる被処理物の熱処理装置を提供する。
【解決手段】 被処理物を熱処理する熱処理炉４と、熱処理炉を制御するための複数の設定値と複数の制御部選択信号を出力するシーケンサ１０と、熱処理炉の複数の制御量を制御するために構成されている複数の制御系ループとを備え、各制御系ループに、前記シーケンサからの設定値と前記熱処理炉からの制御量とに基づいて操作量を出力する複数の制御部と、複数の制御部から出力される操作量のうち１つをシーケンサ１０からの制御部選択信号に従って選択して熱処理炉４に出力する切替器３−１，３−２，３−３とをそれぞれ備えた被処理物の熱処理装置において、シーケンサ１０は、複数の制御系ループの制御構成の切替をそれぞれ独立して行うための手段を有する。 （もっと読む）

【課題】被処理物を収容する空間を備えるチャンバと、該チャンバ内に配設され、発光管とその両端部のシール部とを有するフィラメントランプを備えた加熱装置において、前記フィラメントランプ、特にそのシール部の冷却を効果的に行えて、該フィラメントランプへの高入力化を実現できる構造を提供しようとするものである。
【解決手段】前記チャンバを貫通して配設され、両端が前記チャンバの外部に開放され、内部に冷却風を流通させるガラス管と、該ガラス管と前記チャンバとの間を封止する封止部材を備え、前記フィラメントランプが、前記ガラス管の内部に配置されていることを特徴とする。また、前記ガラス管は、その表面において前記封止部材に対応する領域に赤外線反射膜が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】連続的に鋼板の表面処理後の加熱処理を行うプロセスにおいて、鋼板の繋ぎ目に起因する鋼板表面の反射率の変化に関わらず、適切な加熱パワーによる加熱処理を行うことが可能な温度制御方法および温度制御装置の提供。
【解決手段】加熱処理された鋼板１の温度を放射温度計５により測定し、加熱処理における加熱パワーを鋼板１の温度に基づいて温度制御コントローラ１０によりフィードバック制御するに際し、鋼板１の繋ぎ目前後の所定区間においては、パワー平均回路１１により加熱パワーを鋼板１の繋ぎ目直前の所定期間の平均加熱パワーで固定する。 （もっと読む）

【課題】 溶融材料を加熱するための装置において、容器の壁に電流を導入するために使用されるフランジおよび容器内の電流密度を確実に均一にする。
【解決手段】 この装置は、導電性外壁部分を有する容器と；容器の外周でこの容器に接続された導電性フランジ３６であって、第１の組成を有する第１の環４０および第１の組成とは異なる第２の組成を有する第２の環３８を含む複数の環を備えたフランジ３６と；フランジ３６から延在する電極４２と；を有してなる。第１の環４０またはの幅が、容器に対する角度位置の関数として変動する。第２の環３８は、少なくとも８０質量％の白金を含み、残りは、もしあれば、ロジウムまたはイリジウムの内の１つ以上である高温抵抗金属から形成されている。 （もっと読む）