【課題】画素回路の制御ラインやトランジスタとの接続ライン配線による開口率の減少を抑制する。
【解決手段】容量セットラインＣＳを画素の上端部に配置し、発光セットラインＥＳを画素の下端部に配置し、ゲートラインＧＬを両者の真ん中に配置する。ゲートラインＧＬと容量セットラインＣＳの間には、選択トランジスタＴ１、電位制御トランジスタＴ２および容量Ｃｓを配置し、ゲートラインＧＬと発光セットラインＥＳの間には短絡トランジスタＴ３、駆動トランジスタＴ４および駆動制御トランジスタＴ５を配置する。このような配置によって、配線の引き回しおよびコンタクトの効率的な配置ができ、開口率を比較的高くできる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、有機エレクトロルミネッセンス照明基板用として好適に用いられ、有機ＥＬ層から発せられた光をより多くデバイス外に取り出すことができる、光取り出し効率に優れたポリエステルフィルムを提供することである。
【解決手段】特定粒径の光拡散性粒子を特定量添加せしめた基材層において、有機ＥＬデバイスとする際に金属酸化物層と接する側の少なくとも一方の面に平滑層を配した積層フィルム構造とする。 （もっと読む）

【課題】低粘度のインクを用いた印刷において、高精細なパターン印刷の再現性に優れ、かつ、有機エレクトロニクス層の膜厚均一性が高く、特に有機エレクトロニクス層をその端部まで均一な厚さで成膜できる有機エレクトロニクスデバイスの製造方法、及び有機エレクトロニクスデバイスを提供すること。
【解決手段】有機エレクトロニクス層３０を形成するインクに含まれる溶媒に対して撥液性を示す撥液性部１２ａと、該溶媒に対して親液性を示す親液性部１１ａとを有するパターンが形成されたパターン付き基板１０を作製する工程と、ブランケット２２上に前記インクを塗布して有機エレクトロニクス層３０を形成する工程と、パターン付き基板１０に有機エレクトロニクス層３０を接触させて、親液性部１１ａに有機エレクトロニクス層３０を転写する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】接着シートと樹脂基板との界面で剥離を確実に生じさせることのできる有機ＥＬ装置の製造方法およびその方法に用いられる有機ＥＬ装置製造用基板を提供すること。
【解決手段】樹脂基板３が上に積層された接着シート２を用意し、樹脂基板３を、硬質基板９の上に接着シート２を介して接着し、有機ＥＬ素子１０を樹脂基板３の上に形成することにより、樹脂基板３と有機ＥＬ素子１０とを備える有機ＥＬ装置１８を製造し、有機ＥＬ装置１８を硬質基板９から剥離する有機ＥＬ装置１８の製造方法であり、接着シート２は、硬質基板９に貼着される第１接着剤層４と、第１接着剤層４の上に形成され、樹脂基板３に貼着される第２接着剤層６とを備え、樹脂基板３の端部には、厚み方向に投影したときに、第２接着剤層６と重複せず、かつ、第１接着剤層４と重複する非接着領域１９が区画されている。 （もっと読む）

【課題】指向性表示の可能な高精細有機ＥＬ装置において、素子基板にカラーフィルター基板やレンチキュラレンズシートを貼り合せる構成では、位置ズレやシート自体の厚みに起因する隣接画素からの漏れ光が問題となる。
【解決手段】有機ＥＬ装置１は、基板本体２０上に、第一電極としての陽極１０と、陽極１０の形成位置に対応した開口部を有する隔壁１３と、少なくとも開口部に配置される機能層１２と、隔壁１３及び機能層１２を覆う第二電極としての陰極１１と、陰極１１を覆う単層または多層の封止層Ｆと、封止層Ｆ上に上記開口部と平面的に重なって配置されたカラーフィルター２５と、カラーフィルター２５上に配置されたレンチキュラレンズ２７とを有する。カラーフィルター２５とレンチキュラレンズ２７の開口部に対する位置ズレが少なく、機能層１２からレンチキュラレンズ２７までの光路長が短いため隣接画素の漏れ光が少ない。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造により広い視野角を得ることができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１０は、有機ＥＬ光源用基板２１と、有機ＥＬ光源用基板２１の観察側の面に設けられた有機ＥＬ層２２とを有する有機ＥＬ光源２０と、有機ＥＬ光源２０の観察側に設けられたカラーフィルタ３０と、を備えている。カラーフィルタ３０は、カラーフィルタ用基板３１と、カラーフィルタ用基板３１上に所定パターンで設けられたブラックマトリクス層３２と、カラーフィルタ用基板３１上のブラックマトリクス層３２間に設けられた赤色着色層３３Ｒ，緑色着色層３３Ｇおよび青色着色層３３Ｂと、を有している。これら各着色層３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂの表面３４には、複数の凹部３５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】
カラーフィルタ方式のOLEDパネルでも、単一波長で、かつ高い信頼性で検査・修正が可能であり、歩留まりを向上させることのできる薄膜表示素子の検査修正方法及び検査修正装置を提供する。
【解決手段】
発光層の上に形成された金属電極膜と発光層の金属電極膜と反対の側に形成された透明電極膜とを有する薄膜表示素子の発光の状態を検査して不良箇所を修正する方法及びその装置を、金属電極と透明電極とに電力を印加して発光層を発光させ、この発光層の発光の状態を金属電極に対して透明電極の側から観察して発光層で発光していない位置を検出し、この検出した発光層で発光していない位置の情報に基づいて金属電極に透明電極と反対の側からレーザを照射して発光層で発光していない位置の上方の金属電極膜を除去するように構成した。 （もっと読む）

【課題】酸性官能基を含む透明導電膜と金属電極とを接合させる場合または酸性官能基を含む透明電極と酸化物系透明導電膜とを接合させる場合にその金属電極または酸化物系透明導電膜の腐食を有効に防止することができる接合構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸性官能基を含む透明導電膜１１と金属電極１２とを、酸性官能基を含まない、または、透明導電膜１１に含まれる酸性官能基の濃度よりも低い濃度の酸性官能基を含む炭素系導電材料からなる反応防止層１３を挟んで接合して接合構造体を形成する。反応防止層１３は、カーボンナノチューブ、グラファイトおよびグラフェンからなる群より選ばれた少なくとも一つにより形成する。酸性官能基を含む透明電極と酸化物系透明導電膜とを接合させる場合もそれらを同様な反応防止層を挟んで接合して接合構造体を形成する。 （もっと読む）

【課題】高価な製造設備を必要とせず、多品種の製品に適用可能な、低コストで有機ＥＬ素子を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板１上に第１電極２と有機発光層３と第２電極４とが順に積層され、平面視した場合に第２電極４が第１電極２と交差するよう配置された照明用有機ＥＬ素子を製造する方法であって、該方法は、第１電極２が形成された基板１上の、第１電極２と第２電極４とが交差する領域に対応する所定部分にのみ、非接触方式で絶縁材料を塗布して絶縁膜５を形成する絶縁膜形成工程と、該絶縁膜形成工程の後、開口部を有する蒸着マスク７を用いて、交差する領域内に位置する第１電極２上に、有機発光層３を真空蒸着により形成する有機発光層形成工程と、該有機発光層形成工程の後、蒸着マスク７とは異なる開口部を有する別の蒸着マスク８を用いて、有機発光層３上に第２電極４を形成する第２電極形成工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】安定した発光特性を有し、且つ、リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機ＥＬ素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法は、第１電極２が分割して形成された基板１上に、有機発光層３を形成する工程と、有機発光層３の上のみに所定厚さの下部第２電極４ｂを形成する工程と、第１電極２上に積層された有機発光層３／下部第２電極４ｂを分割する第１分割溝８をレーザ加工により形成する工程と、第１分割溝８を埋め、且つ、複数の有機発光層３／下部第２電極４ｂ上を覆うよう上部第２電極４ｃを形成する工程と、第１電極２上に積層された有機発光層３／下部第２電極４ｂ／上部第２電極４ｃを分割する第２分割溝１１をレーザ加工により形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機ＥＬ素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法は、基板１上に、分割して第１電極２を形成する工程と、隣り合う発光素子の第２電極４に接触する部分に対応する第１電極２に隣接するよう絶縁膜５を形成する工程と、隣り合う発光素子の第２電極４に接触する部分に対応する第１電極２上に積層された有機発光層３をレーザ加工により除去し分割する第１分割溝８を形成する工程と、第１分割溝８を埋め、且つ、複数の有機発光層３上を覆うよう第２電極４を形成する工程と、絶縁膜５の上に積層された有機発光層３／第２電極４をレーザ加工により除去し分割する、底面が絶縁膜５となる第２分割溝１１を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】発光面内の輝度変化が小さく且つ発光効率が良好な発光装置でありながら、コストの大幅な増加を伴わずに作製することが可能な発光装置または照明装置を提供する。
【解決手段】反射部材と、透光性を有する封止部材と、反射部材と封止部材との間に形成された発光素子とを有し、発光素子は第１の透明電極と、第２の透明電極と、第１の透明電極と第２の透明電極との間に形成されたＥＬ層とからなり、反射部材は、第１の透明電極の電気抵抗より小さい電気抵抗及び凹凸部を有する反射電極と反射電極を覆って平坦化する平坦化膜とを備え、平坦化膜には反射電極にまで達する貫通孔が設けられており、貫通孔を介して反射電極と第１の透明電極とが電気的に接続している発光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】比較的に大きい面積の発光領域を有する照明装置およびその作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】絶縁表面を有する基板上に設けられ、並列に接続された複数の発光素子を含む発光素子ユニットを、複数段接続することで、複数の発光素子を集積化し、且つ、発光素子ユニット同士は、電圧降下を抑制するために直列に接続する。さらに、引き回しに用いる膜厚の大きい配線の他に、幅や厚さの異なる補助配線を複数用い、それぞれの配線、発光素子の電極等の配置を最適化する。なお、発光素子の発光は、絶縁表面を有する基板を透過して取り出される照明装置である。 （もっと読む）

【課題】比較的に大きい面積の発光領域を有する照明装置を提供する。
【解決手段】並列に接続された複数の発光素子を含む発光素子ユニットを、複数段接続することで、複数の発光素子を集積化し、且つ、発光素子ユニット同士は、電圧降下を抑制するために直列に接続する照明装置とする。さらに、引き回しに用いる膜厚の大きい配線の他に、幅や厚さの異なる補助配線を複数用い、それぞれの配線、発光素子の電極等の配置を最適化した照明装置とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着源及び有機膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、蒸着工程中にノズルの閉塞現象を防止して、歩留まり及び蒸着効率を高める蒸着源及びこれを利用した有機膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】面積が50平方センチメートルより大きく、好ましくは200平方センチメートルより大きい剛性基板上にテクスチャーをインプリントする方法を提供する。
【解決手段】剛性基板上に硬化材料層をウエットコーティングする。その後、硬化材料層上でフレキシブルスタンプに圧力を加えてテクスチャーをインプリントする。フレキシブルスタンプは、テクスチャーに対応するテクスチャープロファイルを有するボトムゾーンを含む。ボトムゾーンは、0.5MPaと3000MPaの間のヤング率を有し、テクスチャーのインプリントの間に微視的欠陥に対する許容を可能にする。フレキシブルスタンプは、0.1GPaと10GPaの間のヤング率を有するトップゾーンも含む。トップゾーンは、巨視的欠陥に対する許容を可能にする。さらに、硬化材料層を硬化することを含む。最後に、フレキシブルスタンプを取り外す。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスにおいて内部光取り出し及び外部光取り出し少なくとも１つを可能にする機能的テクスチャーの製造方法の提供。
【解決手段】半導体デバイスを製造する方法は、所定のアクティブ領域及び非アクティブ領域を有する透明基板を提供することを含む。その後、この方法は、所定のアクティブ領域上にラッカーの液滴を噴霧して対応するラッカー層領域を形成することを含み、これによって、非アクティブ領域にラッカーが存在しない。ラッカー層領域は、所定の厚さを有し、機能的テクスチャーの形成を可能にする。ラッカー層のテクスチャー形成は、光トラッピング又は光取り出しを可能にする。その後、１又は複数の半導体層がラッカー層領域上に堆積され、カバー基板が提供される。カバー基板は、非アクティブ領域の一部で透明基板に接合され、カバー基板と透明基板の間にラッカー層領域及び１又は複数の半導体層を封じ込める。 （もっと読む）

【課題】電極ホール４６における有機ＥＬ材料の成膜不良によるＥＬ素子の発光不良を改
善することを課題とする。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明では画素電極上の電極ホール４６に絶縁
体を埋め込み、保護部４１ｂを形成させた後、有機ＥＬ材料を成膜することで、電極ホー
ル４６における成膜不良を防ぐことができる。これにより、ＥＬ素子の陰極、陽極間の短
絡により電流集中が生じるのを防ぎ、ＥＬ層の発光不良を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ層の劣化を抑制し、電極のエッジ部における電界集中の影響を抑制させた軽量な発光装置。
【解決手段】プラスチック基板上に薄膜トランジスタを有し、薄膜トランジスタ上に第１の絶縁膜を有する。第１の絶縁膜はコンタクトホールを有し、コンタクトホールを介して薄膜トランジスタと第１の金属膜は電気的に接続されている。当該コンタクトホール内には、透明導電膜及び第２の絶縁膜を有し、透明導電膜はコンタクトホール内で凹形状となり、第２の絶縁膜は凹形状に埋め込まれており、第２の金属膜から光が放射される発光装置である。 （もっと読む）

【課題】量子ドット有機電界発光素子の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の量子ドット有機電界発光素子の製造方法は、基板上に第１電極層を形成する段階と、前記第１電極層上に、相分離が可能なブロック共重合体膜を形成する段階（Ｓ１００）と、前記ブロック共重合体膜をナノサイズの複数の柱状の第１ドメインと、前記第１ドメインを覆い包んだ第２ドメインとに相分離させる段階（Ｓ１１０）と、前記第１ドメインを選択的に除去し、ナノサイズの複数の貫通ホールを含む前記第２ドメインからなる量子ドットテンプレート膜を形成する段階（Ｓ１２０）と、前記量子ドットテンプレート膜の前記貫通ホール内に、有機発光層を含む量子ドット構造を形成する段階（Ｓ１３０）と、を含む。 （もっと読む）