【課題】光取出し効率が高く、かつ画像のにじみが少ない有機ＥＬ装置及び有機ＥＬ装置の設計方法の提供。
【解決手段】陽極と陰極の間に少なくとも発光層を含む有機ＥＬ表示部と、光取り出し面に設けられ前記発光層から発光される光の光路を制御するレンズと、を少なくとも有し、前記レンズを前記光取り出し面に設けたときの正面輝度での光取り出し効率Ａと、前記レンズを前記光取り出し面に設けないときの正面輝度での光取り出し効率Ｂとの比（Ａ／Ｂ）が１を超え、かつ前記発光層の１辺の最大長さａと、前記レンズの有効直径φとの比（φ／ａ）が１．０以上である有機ＥＬ装置とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタの特性劣化の程度を小さくし、回路内の誤動作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路を提供する。
【解決手段】シフトレジスタに設けられたパルス出力回路において、パルスの出力が行われない非選択期間、ゲート電極がオンするように浮遊状態となっているトランジスタのゲート電極が接続されたノードに対し、クロック信号がトランジスタのゲート電極に入力されるように設けることで、定期的に電位を供給する。また、ブートストラップ動作を行うトランジスタのゲートにゲートが固定電位に接続されたトランジスタを設ける。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【解決手段】基板１２とマスク１０を重ねて配置する。基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】マイクロコンタクトプリントにおいて被加工物に高い精度でパターン転写をすることができるスタンプと、このスタンプを製造するためのマスター版と、これらの製造方法、および、マイクロコンタクトプリント法による高精度のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】マイクロコンタクトプリント用スタンプ製造用のマスター版１を、基板２と、この基板２の一方の面２ａに所望のパターンで配設された樹脂凸部３と、この樹脂凸部３の非形成部位の基板２上に配設された平坦突出部４と、を備えたものとし、平坦突出部４の周縁壁部４ａと樹脂凸部３の側壁３ａとが微小間隙５を介して離間したものとする。 （もっと読む）

【課題】高精細・多階調・低コスト・低消費電力の表示装置の提供。
【解決手段】データ線と走査線の交点にマトリクス状に配置された画素部を有する表示パネル部と、複数の走査線に順次電圧を印加する走査回路と、データ線駆動回路とを有する表示装置において、表示パネル部の外に、表示データを格納する表示メモリと、出力バッファ，コントローラとを備え、前記表示パネル部に前記データ線駆動回路の一部を構成し、デジタル信号の表示データをアナログ信号に変換するＤＡＣ回路を備え、コントローラＩＣと、データ線駆動回路間のデータ転送用のバスの幅が、前記コントローラと上位装置間のバスよりも、一度に多くのビットデータが並列転送され、データ線駆動回路の動作周波数を下げる。表示パネル部に形成され、データ線駆動回路及び走査回路を含む周辺回路のトランジスタと、前記表示パネル部上に形成される画素スイッチが同一プロセスで形成される。 （もっと読む）

【課題】画素回路の小型化と発光素子の光量の確保とを両立する。
【解決手段】発光装置１００は、指定階調に応じた階調電位Ｖ[n]が供給される信号線１４と、電極ＥAと電極ＥCとの間の電流に応じて発光する発光素子Ｌを各々が含む複数の画素回路Ｐと、各発光素子Ｌの電極ＥCに接続された複数の電位線１６とを具備する。第１発光期間ＰEL1においては、信号線１４に対する階調電位Ｘ[n]の供給で発生した電荷を対象画素回路ＰAの発光素子Ｌに供給する。充電期間ＰCHにおいては、対象画素回路ＰA以外の制御用画素回路ＰBの発光素子Ｌに逆方向バイアスが印加されるように、当該制御用画素回路ＰBに対応する電位線１６の電位ＶCT[k]を変化させる。第２発光期間ＰEL2においては、充電期間ＰCHにて発生した電荷を対象画素回路ＰAの発光素子Ｌに供給する。 （もっと読む）

【課題】端子間ピッチの微細化にも対応でき、且つ、電気的接続に係る高い信頼性を確保することができる端子接続構造体、および当該端子接続構造体を含む表示装置を提供する。
【解決手段】表示パネル部における基板１００には、複数の端子１２１１が設けられている。また、フレキシブル配線基板にも、その配線基板本体３２０の主面に複数の配線端子３２１が設けられている。ここで、基板１００の端子１２１１の各々の主面上には、フレキシブル配線基板に向けて突起１２２が突設されている。端子１２１１と配線端子３２１とは、端子１２１１の主面上に突設された複数の突起１２２の各頂部分が配線端子３２１に当接することにより、電気的な接続が図られている。そして、基板１００と配線基板本体３２０とは、その間に介挿された接着層４０により固着されている。 （もっと読む）

【課題】電極引出し加工を容易に行えるようにした画像表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】前面パネル１と、この前面パネルに対向する裏面パネル２と、両パネル間にマトリクス状に配置されて表示又は非表示の状態が選択される複数の画素と、この画素を制御する複数の電極とを有し、両パネルが画素及び電極を挟んで貼り合わされて構成され、電極を、金属配線５を介して駆動制御回路に接続する画像表示素子において、裏面パネル２は、隣り合う複数の画素列の間で電極に繋がる電極端子４が露出するように分割されると共に、この分割部分に表面パネルとの対向面の裏側（裏面側）にある上部が底部より幅広の形状を有する溝部３が形成され、金属配線５は、溝部の露出した電極端子４に接続されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子間を区分するセパレーターは、有機機能層材を含む溶液に対して撥液性を備え、かつフォトリソグラフ法で形成可能な材料であることが望ましいが、この厳しい制約条件では、透湿性等の性能を犠牲にした材料を用いる必要がある。また、撥液性を備えたセパレーターと有機ＥＬ材との界面の密着性は低く、セパレーターと有機機能層との界面は水分の拡散性が大きくなるという課題がある。
【解決手段】セパレーター１０４と有機機能層１１０との間に吸湿性や耐湿性においてセパレーター１０４よりも優れた充填層１１４を配置する。セパレーター１０４からの有機機能層１１０への水分の浸入を、充填層１１４により阻止することで、信頼性に優れた有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置５０Ａを得ることが可能となった。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の画素の有機ＥＬ層をレーザビームを用いた転写方式によって形成する。
【解決手段】レーザ光源４０から出射したレーザビーム４１はダイクロイックミラー４２を通過して、ガルバノミラー４３によって反射し、放物線ミラー５０に入射する。ガルバノミラー４３は放物線ミラー５０の焦点に設置されているので、放物線ミラー５０を反射したレーザビーム４１は真空チャンバ６０のガラス窓６１を通過して、真空チャンバ６０内に設置された、有機ＥＬ材料が設置された材料板３０に直角に入射する。材料板３０に設置された有機ＥＬ材料はレーザビーム４１によって加熱され、蒸発して、素子基板１０に転写される。レーザビーム４１は材料板３０に常に直角に入射するので、有機ＥＬ材料の精度の良い転写が可能になる。 （もっと読む）

【課題】転写プロセス全体のタクトタイムを短くし、高スループットで高性能な有機電界発光素子を形成する。
【解決手段】真空蒸着により有機ドナー層１３が蒸着レート１ｎｍ／ｓｅｃ以上で形成されたドナー基板３と、第一電極１７が形成された被成膜基板５とを用意する。ドナー基板３と被成膜基板５とを重ねた状態で、ドナー基板３側から輻射線を照射して有機ドナー層１３を被成膜基板５の第一電極１７上に昇華転写して有機層２５を形成した後、有機層２５上に第二電極２９を形成して有機電界発光素子１を得る。 （もっと読む）

【課題】ノズルピッチを簡単に調整でき、高精度に描画を行うことが可能な液滴吐出装置、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】基体に対してヘッドのノズルから液滴を吐出する液滴吐出装置において、前記基体を保持するステージと、ノズル列を有する１または複数のヘッドを含むヘッド群を各々保持し、かつ、１つの軸上または平行に配置された複数の軸上を副走査方向に移動する複数の移動手段と、前記複数の移動手段を独立に駆動すると共に、前記副走査方向または主走査方向に隣接する前記移動手段のヘッド群間の相対位置関係を調整してノズルピッチを調整する位置制御手段と、を備え、前記ステージに対して前記キャリッジを前記主走査方向に相対移動させて前記ヘッド群で前記基体の被吐出部に液滴を吐出する。 （もっと読む）

第１の非オーバラップピクセルグループ及び第２の非オーバラップピクセルグループ、第１と第２のピクセルグループとの間に位置するガターを含む表示エリアを有する基板であって、該ガターは、第１及び第２のピクセルグループを分離する第１の方向の寸法を有し、各ピクセルグループは、各ピクセルが３つ以上の異なって着色されたサブピクセルを有する複数のピクセルを含み、各ピクセルグループ内のピクセルのピクセル中心は、第１の方向に平行な１次元を有する規則的な２次元アレイで配列され、ピクセルグループ内のピクセルは、第１の方向にピクセル間分離だけ分離される、基板と、ガター内に配列された１つ又は複数の電気要素であって、各サブピクセルは、１つ又は複数の電気要素のうちの１つに接続され、ガター寸法は、表示される画像内のアーティファクトが低減されるように、ピクセル間分離より大きい、電気要素とを備える、ディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】エレクトロルミネッセンス素子の開口率を高くする。
【解決手段】基板２上に形成された第一電極２０ａと、第一電極を囲む開口８を有する隔壁７と、第一電極２０ａ上に形成された担体輸送層４２と、隔壁７及び担体輸送層４２上に形成された第二電極４６と、を備える発光パネル１０である。第二電極４６は、隔壁７と担体輸送層４２との段差部分を連続して被覆する導電性材料からなる段差被覆層４７と、段差被覆層４７に積層され、段差被覆層４７との接触抵抗を軽減することができる抵抗軽減層４８とを積層してなる。 （もっと読む）

【課題】色変換層表面に透明保護層を形成する際と、有機ＥＬ素子を搭載した有機ＥＬ素子基板と貼り合せる際とに、色変換層の特性に悪影響を及ぼすことなく、高精度なパターンを低コストで得ることができる色変換フィルタ基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板１０上に、少なくとも２種類のカラーフィルタ層３０と、画素ごとに区画するようにバンク層５を形成し、さらに色変換層材料を含むインクを塗布して色変換層２０を形成し、該色変換層２０上に可視光域で透明な高分子材料を含むインクを塗布して前記色変換層２０の保護層１５とする工程を有する色変換フィルタ基板の製造方法において、前記色変換層材料を含むインクの溶媒が非極性溶媒であり、前記可視光域で透明な高分子材料を含むインクの溶媒が極性溶媒である色変換フィルタ基板の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】マスクの開口幅を確保しつつマスクの寿命を長くさせると共に作業効率を良好にする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０と、二種類以上の副画素（１１ｇ、１１ｒ、１１ｂ）からなる複数の画素１１と、から構成され、画素１１が、基板１０の表示領域上に並置して設けられ、該副画素のうち一種類の副画素が、所定の間隔を持って設けられる特定副画素である有機ＥＬ表示装置１の製造方法において、該特定副画素を、以下の工程（ｉ）〜（ｉｉ）により形成することを特徴とする、有機ＥＬ表示装置１の製造方法。
（ｉ）表示領域の側端から数えて２ｎ−１（ｎは、１以上の整数を表す。）番目の特定副画素に対応する位置に開口を有するマスクを使用し、該側端から数えて２ｎ−１番目の特定副画素を選択的に形成する工程
（ｉｉ）該側端から数えて２ｎ（ｎは、１以上の整数を表す。）番目の特定副画素に対応する位置に開口を有するマスクを使用し、該側端から数えて２ｎ番目の特定副画素を選択的に形成する工程 （もっと読む）

【課題】 狭ピッチの画素回路に駆動ＴＦＴを効率よく配置する方法を提供する。
【解決手段】 基板１上にトランジスタを含む複数の回路３が配列してなる半導体装置であって、トランジスタを形成する半導体層１１は、第１コンタクトパッドＱ１と、第１コンタクトパッドに接続して回路の配列ピッチの短い方向と交差する方向に延びる第１の部分Ｒ１と、前記第１の部分から前記回路の配列ピッチの短い方向に延びる第２の部分Ｒ２と、第１コンタクトパッドとの間に前記第１の部分と前記第２の部分とを含む第２コンタクトパッドＱ２とを有しており、第２の部分に絶縁層をはさんで電極層が重なっている。 （もっと読む）

【課題】品質（電気光学特性）を向上させることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板１１ａと、被成膜基板１１ａの表面（素子形成側）に設けられた発光素子２７の領域と、被成膜基板１１ａの表面と対向する裏面に設けられた磁性体膜４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表示装置において、表示素子に電流を供給するトランジスタの特性が画素ごとに
ばらつくことによって生ずる輝度ムラが、表示装置の画質向上の足かせとなっていた。
【解決手段】ソース信号線より画素に入力される映像信号は、表示素子に電流を供給する
ためのトランジスタをダイオード接続とし、当該ダイオード接続されたトランジスタのゲ
ートに所望の電位が印加される。ここで、ダイオード接続したトランジスタにおいて、そ
のソース・ドレイン間には、トランジスタのしきい値電圧に応じた電位差を取得する。そ
の結果、駆動用トランジスタのゲート電極には、映像信号にしきい値電圧に応じた電位差
のオフセットをかけた電位を印加することができる。 （もっと読む）

【課題】熱の伝達効率が悪いテンションマスクを効率的に冷却し、高精細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】マスク箔を用いるテンションマスクであるマスク５を介して基板４に成膜材料を付着させることによりパターン形成を行う蒸着方法において、蒸着後のマスクを冷却することなく再使用可能であるか否かを判定する工程を設ける。再使用可能である限り複数枚の基板に対して同じマスクを繰り返し使用し、再使用不可と判定した場合は、冷却ユニット１４を有するマスクストック室２に搬送し、冷却した後に蒸着室１に戻して再使用する。 （もっと読む）