表示パネルの製造方法
【課題】本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【解決手段】基板１２とマスク１０を重ねて配置する。基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。
【解決手段】基板１２とマスク１０を重ねて配置する。基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクを使用した真空成膜方法が知られている（特許文献１参照）。例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造プロセスでは、マスクを使用することで３色の発光層を別々に蒸着している。マスクは、成膜対象の基板と密着していることが望ましく、両者の間隔が大きくなるとマスクの開口よりも大きく蒸着されてしまって成膜の精度が悪くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−０５９７５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
マスクと基板とを密着させるために磁石を使用することが知られているが、磁力の影響でマスクパターンが変形するおそれがある。また、バネによって基板をマスクに押しつけると、バネは伸縮距離によって力が変化するため、基板又はマスクの種類によって調整する必要がある。
【０００５】
本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る表示パネルの製造方法は、基板とマスクを重ねて配置すること、前記基板を、錘の重さによって前記マスクの方向に押圧して撓ませること、前記基板の撓んだ部分によって、前記マスクを押圧して撓ませること、及び、撓んだ前記基板と撓んだ前記マスクとを密着させて真空成膜を行うこと、を含むことを特徴とする。本発明によれば、基板とマスクを密着させる力は、錘の重さによって加えられ、その力が一定であることから、基板又はマスクの種類にかかわらず一定の力でマスクと基板の間に力を加えることができ、パターン精度の高い真空成膜が可能になる。
【０００７】
（２）（１）に記載された表示パネルの製造方法において、前記マスクの一方の面は、マスク支持体によって支持され、前記マスクは、前記マスク支持体によって支持される第１マスク領域と、前記マスク支持体に支持されない第２マスク領域と、を有し、前記基板の一方の面は、前記マスクを介して、前記マスク支持体によって支持され、前記基板は、前記マスク支持体によって支持される第１基板領域と、前記マスク支持体に支持されない第２基板領域と、を有し、前記基板を、前記第２基板領域の少なくとも１箇所で押圧し、前記少なくとも１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分を含むことを特徴としてもよい。
【０００８】
（３）（２）に記載された表示パネルの製造方法において、前記少なくとも１箇所は、第１箇所及び複数の第２箇所を含み、前記第１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分であり、前記複数の第２箇所は、それぞれ、前記第１箇所からの距離が等しい位置であり、前記第１箇所での前記錘は、それぞれの前記第２箇所での前記錘よりも重いことを特徴としてもよい。
【０００９】
（４）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記錘は、錘支持体によって、水平方向の移動が規制され、鉛直方向の移動が許容されることを特徴としてもよい。
【００１０】
（５）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記錘は、線状に延びる形状であり、間隔をあけた２箇所で支持され、前記２箇所の間の部分が前記基板に接触することを特徴としてもよい。
【００１１】
（６）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記錘は、錘支持体によって、水平に配置された軸の周りを回転可能に支持され、重力によって前記軸の周りを回転して、前記基板を押圧することを特徴としてもよい。
【００１２】
（７）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記基板及び前記マスクは立てて配置され、前記錘は、錘支持体によって、水平方向及び鉛直方向の移動が規制され、鉛直線に対して斜め方向の移動が許容され、前記基板を斜めに押圧することを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態の第１変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図４】本発明の実施の形態の第２変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図５】本発明の実施の形態の第３変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図６】本発明の実施の形態の第４変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１５】
図１及び図２は、本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【００１６】
本実施の形態では、マスク１０を使用して、基板１２に対して真空成膜（蒸着、スパッタリング等）を行う。有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造プロセスでは、有機色素材料の蒸着によって発光層を形成する。液晶表示パネルの製造プロセスでは、酸化インジウムスズ又は酸化インジウム亜鉛のスパッタリングによって透明電極を形成する。いずれの場合も、成膜しようとする領域が開口し、成膜しない領域を覆う形状のマスク１０を使用し、パターニングしながら成膜を行う。真空成膜の対象となる基板１２は、図示しない薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor）が形成されたＴＦＴ基板である。
【００１７】
基板１２とマスク１０は、重ねて配置する。一般的には、マスク１０が基板１２よりも大きい。実際には、基板１２は、図示しない薄膜トランジスタ及びこれに接続された配線並びに絶縁膜などの膜応力によって歪んだ形状になっている。
【００１８】
マスク１０の一方の面は、マスク支持体１４によって支持される。マスク１０は、マスク支持体１４によって支持される第１マスク領域１６と、マスク支持体１４に支持されない第２マスク領域１８と、を有する。第２マスク領域１８は、浮いた状態になっているので、重力で下方に撓む。
【００１９】
基板１２の一方の面（薄膜トランジスタ等が形成された面）は、下を向いて、マスク１０を介して、マスク支持体１４によって支持される。基板１２は、マスク支持体１４によって支持される第１基板領域２０と、マスク支持体１４に支持されない第２基板領域２２と、を有する。第２基板領域２２は、浮いた状態になっているので、重力で下方に撓む。
【００２０】
本実施の形態では、押圧器２４を使用する。押圧器２４は、錘２６を含む。錘２６は、１つの第１錘２８と、複数（偶数個）の第２錘３０と、を含む。第１錘２８は、第２錘３０よりも重い。押圧器２４は、錘支持体３２を含む。錘支持体３２は、錘２６（第１錘２８及び第２錘３０）の、下端を避けた部分を支持する。錘２６は、錘支持体３２によって、水平方向の移動が規制され、鉛直方向の移動が許容される。
【００２１】
具体的には、錘支持体３２は、球状の第１錘２８の直径よりも小さい第１穴３４を有する。第１錘２８は、その下端部が第１穴３４の下から突出するように、第１穴３４の内側で支持されている。錘支持体３２は、球状の第２錘３０の直径よりも小さい第２穴３６を有する。第２錘３０は、その下端部が第２穴３６の下から突出するように、第２穴３６の内側で支持されている。第１錘２８の下端部が第１穴３４から突出する長さは、第２錘３０の下端部が第２穴３６から突出する長さよりも長い。
【００２２】
図２に示すように、基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。言い換えると、基板１２を、第２基板領域２２の少なくとも１箇所で押圧する。錘２６と基板１２は少なくとも１つの点状に接触する。基板１２の第１基板領域２０は、錘２６によって押さえない。
【００２３】
本実施の形態では、第１錘２８を、基板１２の第２基板領域２２の、第１基板領域２０からの距離が最も離れた第１箇所３８（図２の例では基板１２の中央部）に載せる。そして、第１錘２８によって基板１２を押圧する。押圧によって基板１２が撓む。第１錘２８の押圧力はその重さのみによるものなので、撓み量にかかわらず一定の大きさで加えられる。
【００２４】
また、複数の第２錘３０を複数の第２箇所４０にそれぞれ載せる。複数の第２箇所４０は、それぞれ、第２基板領域２２の範囲内で、第１箇所３８からの距離が等しい位置にある。そして、第２錘３０によっても基板１２を押圧する。第２錘３０の押圧によっても基板１２が撓む。第２錘３０の押圧力はその重さのみによるものなので、撓み量にかかわらず一定の大きさで加えられる。第２錘３０が第１錘２８よりも軽いので、第２箇所４０の撓み量は第１箇所３８の撓み量よりも少ない。そのため、第２箇所４０の撓みによって、第１箇所３８を浮き上がらせる（撓みの反対方向に戻らせる）作用が小さい。
【００２５】
基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。こうして、基板１２及びマスク１０の両方を撓ませる。そして、撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。
【００２６】
本実施の形態によれば、基板１２とマスク１０を密着させる力は、錘２６の重さによって加えられ、その力が一定であることから、基板１２又はマスク１０の種類にかかわらず一定の力でマスク１０と基板１２の間に力を加えることができ、パターン精度の高い真空成膜が可能になる。
【００２７】
［第１変形例］
図３は、本発明の実施の形態の第１変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。図３に示す錘１２６は、チェーンであって、線状に延びる形状をしており、１つの平面（図３の紙面）に平行に屈曲するが、これに交差する他の平面に沿った方向には屈曲しない。錘１２６は、間隔をあけた２箇所で支持され、２箇所の間の部分が基板１２に接触（線状に接触）する。上記実施の形態で説明した錘２６の代わりに、図３に示す錘１２６を使用してもよい。
【００２８】
［第２変形例］
図４は、本発明の実施の形態の第２変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。図４に示す錘２２６は、ボールチェーンであって、線状に延びる形状をしており、自在に屈曲するようになっている。錘２２６は、間隔をあけた２箇所で支持され、２箇所の間の部分が基板１２に接触（線状に接触）する。また、錘２２６は、基板１２の表面上で屈曲させて配置することで、基板１２の１箇所に加える押圧力を大きくすることができる。上記実施の形態で説明した錘２６の代わりに、図４に示す錘２２６を使用してもよい。
【００２９】
［第３変形例］
図５は、本発明の実施の形態の第３変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。錘３２６は、錘支持体３３２によって、水平に配置された軸の周りを回転可能に支持されている。錘３２６は、重力によって軸の周りを回転して、基板１２を押圧する。この変形例でも、錘３２６は、１つの第１錘３２８及び複数の第２錘３３０を含み、第１錘３２８が第２錘３３０よりも重い。上記実施の形態で説明した錘２６の代わりに、図５に示す錘３２６を使用してもよい。
【００３０】
［第４変形例］
図６は、本発明の実施の形態の第４変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。本変形例では、基板１２及びマスク１０を立てて配置して、撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。第１錘４２８及び第２錘４３０を含む錘４２６は、錘支持体４３２によって、水平方向及び鉛直方向の移動が規制され、鉛直線に対して斜め方向の移動が許容され、基板１２を斜めに押圧する。錘４２６及び錘支持体４３２のその他の詳細は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。
【００３１】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施の形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００３２】
１０ マスク、１２ 基板、１４ マスク支持体、１６ 第１マスク領域、１８ 第２マスク領域、２０ 第１基板領域、２２ 第２基板領域、２４ 押圧器、２６ 錘、２８ 第１錘、３０ 第２錘、３２ 錘支持体、３４ 第１穴、３６ 第２穴、３８ 第１箇所、４０ 第２箇所、１２６ 錘、２２６ 錘、３２６ 錘、３２８ 第１錘、３３０ 第２錘、３３２ 錘支持体、４２６ 錘、４２８ 第１錘、４３０ 第２錘、４３２ 錘支持体。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクを使用した真空成膜方法が知られている（特許文献１参照）。例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造プロセスでは、マスクを使用することで３色の発光層を別々に蒸着している。マスクは、成膜対象の基板と密着していることが望ましく、両者の間隔が大きくなるとマスクの開口よりも大きく蒸着されてしまって成膜の精度が悪くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−０５９７５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
マスクと基板とを密着させるために磁石を使用することが知られているが、磁力の影響でマスクパターンが変形するおそれがある。また、バネによって基板をマスクに押しつけると、バネは伸縮距離によって力が変化するため、基板又はマスクの種類によって調整する必要がある。
【０００５】
本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る表示パネルの製造方法は、基板とマスクを重ねて配置すること、前記基板を、錘の重さによって前記マスクの方向に押圧して撓ませること、前記基板の撓んだ部分によって、前記マスクを押圧して撓ませること、及び、撓んだ前記基板と撓んだ前記マスクとを密着させて真空成膜を行うこと、を含むことを特徴とする。本発明によれば、基板とマスクを密着させる力は、錘の重さによって加えられ、その力が一定であることから、基板又はマスクの種類にかかわらず一定の力でマスクと基板の間に力を加えることができ、パターン精度の高い真空成膜が可能になる。
【０００７】
（２）（１）に記載された表示パネルの製造方法において、前記マスクの一方の面は、マスク支持体によって支持され、前記マスクは、前記マスク支持体によって支持される第１マスク領域と、前記マスク支持体に支持されない第２マスク領域と、を有し、前記基板の一方の面は、前記マスクを介して、前記マスク支持体によって支持され、前記基板は、前記マスク支持体によって支持される第１基板領域と、前記マスク支持体に支持されない第２基板領域と、を有し、前記基板を、前記第２基板領域の少なくとも１箇所で押圧し、前記少なくとも１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分を含むことを特徴としてもよい。
【０００８】
（３）（２）に記載された表示パネルの製造方法において、前記少なくとも１箇所は、第１箇所及び複数の第２箇所を含み、前記第１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分であり、前記複数の第２箇所は、それぞれ、前記第１箇所からの距離が等しい位置であり、前記第１箇所での前記錘は、それぞれの前記第２箇所での前記錘よりも重いことを特徴としてもよい。
【０００９】
（４）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記錘は、錘支持体によって、水平方向の移動が規制され、鉛直方向の移動が許容されることを特徴としてもよい。
【００１０】
（５）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記錘は、線状に延びる形状であり、間隔をあけた２箇所で支持され、前記２箇所の間の部分が前記基板に接触することを特徴としてもよい。
【００１１】
（６）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記錘は、錘支持体によって、水平に配置された軸の周りを回転可能に支持され、重力によって前記軸の周りを回転して、前記基板を押圧することを特徴としてもよい。
【００１２】
（７）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、前記基板及び前記マスクは立てて配置され、前記錘は、錘支持体によって、水平方向及び鉛直方向の移動が規制され、鉛直線に対して斜め方向の移動が許容され、前記基板を斜めに押圧することを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態の第１変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図４】本発明の実施の形態の第２変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図５】本発明の実施の形態の第３変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図６】本発明の実施の形態の第４変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１５】
図１及び図２は、本発明の実施の形態に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。
【００１６】
本実施の形態では、マスク１０を使用して、基板１２に対して真空成膜（蒸着、スパッタリング等）を行う。有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造プロセスでは、有機色素材料の蒸着によって発光層を形成する。液晶表示パネルの製造プロセスでは、酸化インジウムスズ又は酸化インジウム亜鉛のスパッタリングによって透明電極を形成する。いずれの場合も、成膜しようとする領域が開口し、成膜しない領域を覆う形状のマスク１０を使用し、パターニングしながら成膜を行う。真空成膜の対象となる基板１２は、図示しない薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor）が形成されたＴＦＴ基板である。
【００１７】
基板１２とマスク１０は、重ねて配置する。一般的には、マスク１０が基板１２よりも大きい。実際には、基板１２は、図示しない薄膜トランジスタ及びこれに接続された配線並びに絶縁膜などの膜応力によって歪んだ形状になっている。
【００１８】
マスク１０の一方の面は、マスク支持体１４によって支持される。マスク１０は、マスク支持体１４によって支持される第１マスク領域１６と、マスク支持体１４に支持されない第２マスク領域１８と、を有する。第２マスク領域１８は、浮いた状態になっているので、重力で下方に撓む。
【００１９】
基板１２の一方の面（薄膜トランジスタ等が形成された面）は、下を向いて、マスク１０を介して、マスク支持体１４によって支持される。基板１２は、マスク支持体１４によって支持される第１基板領域２０と、マスク支持体１４に支持されない第２基板領域２２と、を有する。第２基板領域２２は、浮いた状態になっているので、重力で下方に撓む。
【００２０】
本実施の形態では、押圧器２４を使用する。押圧器２４は、錘２６を含む。錘２６は、１つの第１錘２８と、複数（偶数個）の第２錘３０と、を含む。第１錘２８は、第２錘３０よりも重い。押圧器２４は、錘支持体３２を含む。錘支持体３２は、錘２６（第１錘２８及び第２錘３０）の、下端を避けた部分を支持する。錘２６は、錘支持体３２によって、水平方向の移動が規制され、鉛直方向の移動が許容される。
【００２１】
具体的には、錘支持体３２は、球状の第１錘２８の直径よりも小さい第１穴３４を有する。第１錘２８は、その下端部が第１穴３４の下から突出するように、第１穴３４の内側で支持されている。錘支持体３２は、球状の第２錘３０の直径よりも小さい第２穴３６を有する。第２錘３０は、その下端部が第２穴３６の下から突出するように、第２穴３６の内側で支持されている。第１錘２８の下端部が第１穴３４から突出する長さは、第２錘３０の下端部が第２穴３６から突出する長さよりも長い。
【００２２】
図２に示すように、基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。言い換えると、基板１２を、第２基板領域２２の少なくとも１箇所で押圧する。錘２６と基板１２は少なくとも１つの点状に接触する。基板１２の第１基板領域２０は、錘２６によって押さえない。
【００２３】
本実施の形態では、第１錘２８を、基板１２の第２基板領域２２の、第１基板領域２０からの距離が最も離れた第１箇所３８（図２の例では基板１２の中央部）に載せる。そして、第１錘２８によって基板１２を押圧する。押圧によって基板１２が撓む。第１錘２８の押圧力はその重さのみによるものなので、撓み量にかかわらず一定の大きさで加えられる。
【００２４】
また、複数の第２錘３０を複数の第２箇所４０にそれぞれ載せる。複数の第２箇所４０は、それぞれ、第２基板領域２２の範囲内で、第１箇所３８からの距離が等しい位置にある。そして、第２錘３０によっても基板１２を押圧する。第２錘３０の押圧によっても基板１２が撓む。第２錘３０の押圧力はその重さのみによるものなので、撓み量にかかわらず一定の大きさで加えられる。第２錘３０が第１錘２８よりも軽いので、第２箇所４０の撓み量は第１箇所３８の撓み量よりも少ない。そのため、第２箇所４０の撓みによって、第１箇所３８を浮き上がらせる（撓みの反対方向に戻らせる）作用が小さい。
【００２５】
基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。こうして、基板１２及びマスク１０の両方を撓ませる。そして、撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。
【００２６】
本実施の形態によれば、基板１２とマスク１０を密着させる力は、錘２６の重さによって加えられ、その力が一定であることから、基板１２又はマスク１０の種類にかかわらず一定の力でマスク１０と基板１２の間に力を加えることができ、パターン精度の高い真空成膜が可能になる。
【００２７】
［第１変形例］
図３は、本発明の実施の形態の第１変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。図３に示す錘１２６は、チェーンであって、線状に延びる形状をしており、１つの平面（図３の紙面）に平行に屈曲するが、これに交差する他の平面に沿った方向には屈曲しない。錘１２６は、間隔をあけた２箇所で支持され、２箇所の間の部分が基板１２に接触（線状に接触）する。上記実施の形態で説明した錘２６の代わりに、図３に示す錘１２６を使用してもよい。
【００２８】
［第２変形例］
図４は、本発明の実施の形態の第２変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。図４に示す錘２２６は、ボールチェーンであって、線状に延びる形状をしており、自在に屈曲するようになっている。錘２２６は、間隔をあけた２箇所で支持され、２箇所の間の部分が基板１２に接触（線状に接触）する。また、錘２２６は、基板１２の表面上で屈曲させて配置することで、基板１２の１箇所に加える押圧力を大きくすることができる。上記実施の形態で説明した錘２６の代わりに、図４に示す錘２２６を使用してもよい。
【００２９】
［第３変形例］
図５は、本発明の実施の形態の第３変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。錘３２６は、錘支持体３３２によって、水平に配置された軸の周りを回転可能に支持されている。錘３２６は、重力によって軸の周りを回転して、基板１２を押圧する。この変形例でも、錘３２６は、１つの第１錘３２８及び複数の第２錘３３０を含み、第１錘３２８が第２錘３３０よりも重い。上記実施の形態で説明した錘２６の代わりに、図５に示す錘３２６を使用してもよい。
【００３０】
［第４変形例］
図６は、本発明の実施の形態の第４変形例に係る表示パネルの製造方法を説明する図である。本変形例では、基板１２及びマスク１０を立てて配置して、撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。第１錘４２８及び第２錘４３０を含む錘４２６は、錘支持体４３２によって、水平方向及び鉛直方向の移動が規制され、鉛直線に対して斜め方向の移動が許容され、基板１２を斜めに押圧する。錘４２６及び錘支持体４３２のその他の詳細は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。
【００３１】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施の形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００３２】
１０ マスク、１２ 基板、１４ マスク支持体、１６ 第１マスク領域、１８ 第２マスク領域、２０ 第１基板領域、２２ 第２基板領域、２４ 押圧器、２６ 錘、２８ 第１錘、３０ 第２錘、３２ 錘支持体、３４ 第１穴、３６ 第２穴、３８ 第１箇所、４０ 第２箇所、１２６ 錘、２２６ 錘、３２６ 錘、３２８ 第１錘、３３０ 第２錘、３３２ 錘支持体、４２６ 錘、４２８ 第１錘、４３０ 第２錘、４３２ 錘支持体。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板とマスクを重ねて配置すること、
前記基板を、錘の重さによって前記マスクの方向に押圧して撓ませること、
前記基板の撓んだ部分によって、前記マスクを押圧して撓ませること、及び、
撓んだ前記基板と撓んだ前記マスクとを密着させて真空成膜を行うこと、
を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された表示パネルの製造方法において、
前記マスクの一方の面は、マスク支持体によって支持され、
前記マスクは、前記マスク支持体によって支持される第１マスク領域と、前記マスク支持体に支持されない第２マスク領域と、を有し、
前記基板の一方の面は、前記マスクを介して、前記マスク支持体によって支持され、
前記基板は、前記マスク支持体によって支持される第１基板領域と、前記マスク支持体に支持されない第２基板領域と、を有し、
前記基板を、前記第２基板領域の少なくとも１箇所で押圧し、
前記少なくとも１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載された表示パネルの製造方法において、
前記少なくとも１箇所は、第１箇所及び複数の第２箇所を含み、
前記第１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分であり、
前記複数の第２箇所は、それぞれ、前記第１箇所からの距離が等しい位置であり、
前記第１箇所での前記錘は、それぞれの前記第２箇所での前記錘よりも重いことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記錘は、錘支持体によって、水平方向の移動が規制され、鉛直方向の移動が許容されることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項５】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記錘は、線状に延びる形状であり、間隔をあけた２箇所で支持され、前記２箇所の間の部分が前記基板に接触することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記錘は、錘支持体によって、水平に配置された軸の周りを回転可能に支持され、重力によって前記軸の周りを回転して、前記基板を押圧することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記基板及び前記マスクは立てて配置され、
前記錘は、錘支持体によって、水平方向及び鉛直方向の移動が規制され、鉛直線に対して斜め方向の移動が許容され、前記基板を斜めに押圧することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項１】
基板とマスクを重ねて配置すること、
前記基板を、錘の重さによって前記マスクの方向に押圧して撓ませること、
前記基板の撓んだ部分によって、前記マスクを押圧して撓ませること、及び、
撓んだ前記基板と撓んだ前記マスクとを密着させて真空成膜を行うこと、
を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された表示パネルの製造方法において、
前記マスクの一方の面は、マスク支持体によって支持され、
前記マスクは、前記マスク支持体によって支持される第１マスク領域と、前記マスク支持体に支持されない第２マスク領域と、を有し、
前記基板の一方の面は、前記マスクを介して、前記マスク支持体によって支持され、
前記基板は、前記マスク支持体によって支持される第１基板領域と、前記マスク支持体に支持されない第２基板領域と、を有し、
前記基板を、前記第２基板領域の少なくとも１箇所で押圧し、
前記少なくとも１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載された表示パネルの製造方法において、
前記少なくとも１箇所は、第１箇所及び複数の第２箇所を含み、
前記第１箇所は、前記第２基板領域の範囲内で、前記第１基板領域からの距離が最も離れた部分であり、
前記複数の第２箇所は、それぞれ、前記第１箇所からの距離が等しい位置であり、
前記第１箇所での前記錘は、それぞれの前記第２箇所での前記錘よりも重いことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記錘は、錘支持体によって、水平方向の移動が規制され、鉛直方向の移動が許容されることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項５】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記錘は、線状に延びる形状であり、間隔をあけた２箇所で支持され、前記２箇所の間の部分が前記基板に接触することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記錘は、錘支持体によって、水平に配置された軸の周りを回転可能に支持され、重力によって前記軸の周りを回転して、前記基板を押圧することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示パネルの製造方法において、
前記基板及び前記マスクは立てて配置され、
前記錘は、錘支持体によって、水平方向及び鉛直方向の移動が規制され、鉛直線に対して斜め方向の移動が許容され、前記基板を斜めに押圧することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−２８１７２（Ｐ２０１１−２８１７２Ａ）
【公開日】平成２３年２月１０日（２０１１．２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１７６４４９（Ｐ２００９−１７６４４９）
【出願日】平成２１年７月２９日（２００９．７．２９）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１０日（２０１１．２．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月２９日（２００９．７．２９）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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