【課題】フレキシブルディスプレイの製造方法において、流品中は膜剥がれを防ぎ、最終的には支持基板とポリイミドフィルムを表示領域の素子変動を抑制可能な剥離による表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
表示装置の製造方法は、支持基板の上にフィルム材料層を形成する工程と、前記フィルム材料層を加熱してフィルム層を形成する第1の加熱工程と、前記フィルム層の中央部に設けられた第1領域を囲む第2領域を、前記第1の加熱工程より高い温度で加熱する第2の加熱工程と、前記第1領域の一部に表示層を形成し前記第２領域の少なくとも一部に周辺回路部を形成する工程と、前記フィルム層のうち表示層が形成された範囲以外の少なくとも一部を前記第２の加熱工程より高い温度で加熱する第３の加熱工程と、前記支持基板と前記フィルム層とを剥離する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】物理的形状変化を伴うユーザ操作に基づいて表示内容の切り替えを行う際に、優れた操作性を実現することが可能な表示装置および支持基板を提供する。
【解決手段】表示装置は、可撓性を有する支持基板と、支持基板上に設けられた表示部とを備え、支持基板は、その面内における端部側の少なくとも一部の第１領域において、端縁に向かって徐々に柔らかくなるように構成されている。表示装置全体のうち、端部側の局所的な部分をユーザが曲げたり捻ったりし易くなり、そのような曲げ動作を伴う入力操作を行い易くなる。 （もっと読む）

【課題】バリア性が高く、透明性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】有機層と、該有機層に隣接する無機バリア層とを有し、前記有機層は、１分子あたり２以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率が１．６０以上であり、さらに、前記無機バリア層の屈折率が１．６０以上であることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】寸法精度に優れた、プラスチック等のフィルム基板上に形成されたガスバリア基板および該ガスバリア基板上に形成され、同じく寸法精度に優れたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】フィルム基板１０５の一方の面に第１のガスバリア層１０４，１０３を設け、他方の面に第２のガスバリア層１０４，１０３を設けたガスバリア基板であって、該ガスバリア基板の水蒸気透過率が０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、該フィルム基板の一方の面に第１のガスバリア層を設けかつ他方の面にガスバリア層を設けなかった場合の水蒸気透過率をａとし、該フィルム基板の一方の面に第１のガスバリア層を設けずかつ他方の面にガスバリア層を設けた場合の水蒸気透過率をｂとしたとき、ａ／ｂが０．１〜１０の範囲内にあるガスバリア基板。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあわせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装
置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び
有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電
層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあ
わせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】高い光電変換効率など基本特性に優れつつ、基材が樹脂系材料を含む場合であっても適用可能なホールブロック層の製造方法を提供する。
【解決手段】 ビス（アセチルアセトナト）亜鉛を含む亜鉛源、アセチルアセトンを含む錯化剤、および極性溶媒を含有する液状組成物と前記ホールブロック層を形成すべき部材の表面とを接触させて、当該ホールブロック層を形成すべき部材の表面上に前記液状組成物からなる液層を形成する液層形成工程と、前記液層形成工程により形成された前記液層を加熱して、前記錯化剤および前記極性溶媒を前記液層から蒸発させて、前記ホールブロック層を形成すべき部材の表面上に酸化亜鉛を含んでなるホールブロック層を形成する乾燥工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板等の可撓性を有する基板を用いて、柔軟性を有する表示装置を作製する
ための技術を提供する。
【解決手段】固定基板上に、剥離層となる非晶質シリコン膜を介して樹脂基板を形成する
工程と、前記樹脂基板上に少なくともＴＦＴ素子を形成する工程と、前記非晶質シリコン
膜にレーザー光を照射することにより、前記非晶質シリコン膜において前記固定基板から
前記樹脂基板を剥離する工程とを行い、前記樹脂基板を用いた柔軟性を有する表示装置を
作製する。 （もっと読む）

【課題】より色収差が少なく、光出力の向上が可能な発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極層１と陰極層２との間に少なくとも有機発光層３が設けられた有機ＥＬ素子１０と、有機ＥＬ素子１０の光出射面側に設けられた透光性である支持体とを備え、支持体は、第一の基板と、第一の基板の光出射面側に形成され第一の基板とは別の材料よりなる第二の基板とを備えた発光素子２０の製造方法であって、支持体に転写層を形成する転写層形成工程と、転写層形成工程後、転写層に凹凸パターンを形成したモールドを押圧保持した後、分離することにより、モールドの凹凸パターンを転写層に転写する転写工程とを有する凹凸のパターン加工を予め支持体の両面に行い、両面に予め凹凸を形成した支持体を用いて、有機ＥＬ素子１０を形成する。 （もっと読む）

【課題】より色収差が少なく、光出力の向上が可能な発光素子を提供する。
【解決手段】陽極層１と陰極層２との間に少なくとも有機発光層３が設けられた有機ＥＬ素子１０と、有機ＥＬ素子１０の光出射面側に設けられた透光性である支持体とを備えており、支持体は、光出射面側に第一の凹凸構造を有する第一の基板と、第一の凹凸構造の光出射面側に形成され第一の基板とは別の材料よりなり、光出射面側に第二の凹凸構造を有し第一の基板と屈折率差を有する第二の基板とを備えた発光素子２０である。 （もっと読む）

【課題】バリア性と密着性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層のアルミまたはケイ素の、酸化物、窒化物、炭化物、またはその混合物を含む無機層とを有し、前記有機層は、下記一般式(１)または(２)で表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。
（もっと読む）

【課題】有機層と無機層とからなるバリア性積層体において、有機層と無機層の密着性とバリア性の両方を達成する。
【解決手段】無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層とを有し、前記有機層が、下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を含有する、バリア性積層体。一般式（１）
（もっと読む）

【課題】異物の発生や付着の少ない透明複合基板およびかかる透明複合基板を効率よく製造し得る製造方法、および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板の製造方法は、ガラスクロス２と、ガラスクロス２に含浸した樹脂材料３と、を有する透明複合基板１の製造方法であって、ガラスクロス２に樹脂ワニス３０を含浸させ、含浸体１０１を得る工程と、含浸体１０１の両面にシート状の支持部材７１を重ねた後、含浸体１０１の外縁部１２を除く部分（中央部１３）に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、仮硬化体１０２を得る工程と、仮硬化体１０２を支持部材７１から剥離する工程と、仮硬化体１０２の外縁部に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、本硬化体（透明複合基板）を得る工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】開口率の向上された発光装置である。
【解決手段】薄膜トランジスタと、容量と、発光素子と、発光素子へ電流を供給することができる機能を有する配線とを、プラスチック基板上に有する発光装置であって、配線は、容量の上に設けられ、容量は、配線の少なくとも一部と重なる領域を有する。発光素子は、陰極と、陽極と、陰極と陽極との間に設けられたＥＬ材料とを有し、容量は、第２の領域と、第２の領域上に第１の絶縁膜を介して設けられる第３の領域とを有する。第１の絶縁膜は、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜となり、さらに容量の絶縁膜となることができる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、高いガスバリア性能と高いガスバリア性能安定性（湿熱耐性、屈曲耐性）を達成できるガスバリア性フィルムと、ガスバリア性フィルムの製造方法、及び該ガスバリア性フィルムを用いた電子デバイスの提供。
【解決手段】樹脂基材４と、少なくとも１層のバリア層２と、少なくとも基材側で前記バリア層に隣接する隣接層１を有する３ガスバリア性フィルムにおいて、下記（１）、（２）を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルム。（１）前記隣接層１が少なくとも、Ｍ原子（ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ，Ｚｎを表す。）、Ｏ原子、Ｃ原子を同時に含む領域を有し、原子組成比で、Ｃ／Ｍが０．２〜２．２、かつ、Ｏ／Ｍが１．０〜２．０である。（２）前記バリア層が少なくとも、Ｓｉ原子、Ｎ原子を同時に含む領域を有し、原子組成比で、Ｎ／Ｓｉが０．３〜０．８、Ｃ／Ｓｉ＜０．１である。 （もっと読む）

【課題】時間階調方式で表示するときに発生する擬似輪郭の低減を課題とする。
【解決手段】１つの画素をｍ個（ｍはｍ≧２の整数）のサブ画素に分割し、ｓ番目（ｓは１〜ｍの整数）のサブ画素の面積比を２^ｓ−１とする。また、１フレームに、複数のサブフレームから構成されるｋ個（ｋはｋ≧２の整数）のサブフレーム群を設けるとともに、１フレームをｎ個（ｎはｎ≧２の整数）のサブフレームに分割し、ｔ番目（ｔは１〜ｎの整数）のサブフレームの点灯期間の長さの比率を２^{（ｔ−１）ｍ}とする。そしてさらに、ｎ個の各サブフレームを、概ね１／ｋの長さの点灯期間を有するｋ個のサブフレームに分割し、ｋ個の各サブフレーム群に１個ずつ配置する。このとき、ｋ個のサブフレーム群で、サブフレームの出現順序が概ね同じになるように、サブフレームを配置する。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの損傷を防止しつつ、ガラスフィルムの取扱い性を向上させたガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】支持フィルム２と、支持フィルム２の一主面の全体に付着される粘着層３と、粘着層３を介して支持フィルム２と接合されるガラスフィルム４と、ガラスフィルム４の長手方向に沿ってガラスフィルム４の長手方向端部に連接される端部フィルム５と、前記ガラスフィルムおよび前記端部フィルムに粘着される第１のテープ部材と、を備えたガラスフィルム積層体１。ガラスフィルム４と端部フィルム５とを両者の長手方向に連接して、これらの両主面に第１のテープ部材６を粘着させるため、端部フィルム５との境界付近で、ガラスフィルム４の端部が割れるおそれが少なくなり、端部フィルム５にてガラスフィルム４を牽引する際に、ガラスフィルム４が傷つかなくなる。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの損傷を防止しつつ、ガラスフィルムの取扱い性を向上させる。
【解決手段】ガラスフィルム積層体１は、支持フィルム２と、粘着層３と、粘着層３を介して支持フィルム２と接合されたガラスフィルム４と、ガラスフィルム４の長手方向に沿ってガラスフィルム４の長手方向端部に連接された端部フィルム５と、支持フィルム２とガラスフィルム４および端部フィルム５との間に介在され、且つ、ガラスフィルム４および端部フィルム５に粘着された第１のテープ部材６と、を備える。支持フィルム２及び粘着層３の長手方向端部は、第１のテープ部材６の端部より外方へ突出すると共に、端部フィルム５上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの変形を防止することができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるガラスフィルム積層体１０は、ガラスフィルム１１と、ガラスフィルム１１に粘着層１３を介して積層された金属基材１２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】光学特性に優れた透明複合基板、および、かかる透明複合基板を備えた表示素子基板を提供することにある。
【解決手段】本発明の透明複合基板は、ガラスクロスと、ガラスクロスに含浸した脂環式エポキシ樹脂を主成分とする樹脂材料と、ガラスクロスの表面に設けられ、ガラスクロスと樹脂材料との間に発生する応力を緩和する応力緩和成分と、を有し、応力緩和成分は、非イオン性官能基を含むものが好ましい。非イオン性官能基は、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、およびビニル基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、応力緩和成分は、有機ケイ素化合物であるのが好ましい。 （もっと読む）