【課題】有機発光構造物、有機発光構造物の製造方法、有機発光表示装置、及び有機発光表示製造方法を提供すること。
【解決手段】有機発光表示装置は第１基板、第１電極、画素定義膜、有機発光構造物、第２電極などを含むことができる。有機発光構造物は、正孔輸送層、疎水性パターン、有機発光層、電子輸送層などを含むことができる。画素定義膜は第１基板と第１電極上に配置され、画素領域の第１電極を露出させることができる。正孔輸送層は画素定義膜と露出した第１電極上に配置されることができる。疎水性パターンは非画素領域の正孔輸送層上に配置できる。有機発光層は画素領域の正孔輸送層上に配置できる。電子輸送層は疎水性パターン及び有機発光層上に配置でき、第２電極は電子輸送層上に配置できる。疎水性パターンによって有機発光層が画素領域にのみ選択的に形成し有機発光表示装置の発光特性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、表示装置にレンズを簡便に形成することである。
【解決手段】 基板１０の上に凸部を有する下地層１１を形成し、レンズ部１５の材料を下地層１１の形状にならって成膜する。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたパターンＰｍを基板Ｓに転写する露光装置ＥＸであって、マスクＭを照明する照明装置ＩＵと、基板Ｓに対してパターンＰｍの拡大像を投影する投影装置ＰＵと、マスクＭを保持する第一円筒面３１を有し、第一円筒面３１の周方向に回転するマスク保持部４０と、基板を搬送する第二円筒面３２を有し、マスク保持部４０と同一の回転軸Ｃを中心として第二円筒面３２の周方向に回転する基板搬送部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーによるパターニング手法を利用しつつ、メタルマスク等を用いて真空一貫で形成した有機ＥＬ素子と同等の素子特性を有する有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第一電極と第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置されている有機化合物層と、からなる有機ＥＬ素子を有し、前記有機化合物層がパターニングされている有機ＥＬ表示装置の製造方法において、第一電極上に有機化合物層を形成する有機化合物層の形成工程と、前記有機化合物層上に剥離層を形成する剥離層の形成工程と、前記剥離層及び前記有機化合物層をパターニングする加工工程と、前記剥離層の表層を除去する剥離層の表層加工工程と、を有し、前記剥離層が、電荷輸送性かつ極性溶媒に可溶な有機化合物からなる蒸着膜であることを特徴とする、有機ＥＬ表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄膜の加工において役割を終えたパターニング部材やこのパターニング部材上に形成された薄膜が基板上に再付着することを回避することを可能にする薄膜のパターニング方法を提供する。
【解決手段】第一基板１上に設けられている無機、有機又は有機／無機材料からなる薄膜（薄膜１２）をパターニングする薄膜のパターニング方法において、第一基板１上に、Ａ材料からなる薄膜１１をパターニング形成する工程と、第一基板１上及び薄膜１１上に、無機、有機又は有機／無機材料であるＢ材料からなる薄膜１２を成膜する工程と、薄膜１１上に成膜される薄膜１２と、第二基板２と、を接着することで第一基板１と、第二基板２と、を貼り合わせて貼り合わせ基板を作製する工程と、第一基板１から、薄膜１１と、薄膜１１上に設けられる薄膜１２と、を除去する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な感度に加え、未露光部の膜厚変化量が少ない感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に、下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）及びエポキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含み、構造単位（Ｉ）の含有率が１０モル％以上９０モル％以下である重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。現像前の塗膜の膜厚Ｔ_０に対する現像後の膜厚Ｔ_１の膜厚変化率は、９０％以上であることが好ましい。
（もっと読む）

【課題】良好な感度を有し、また表面硬度及び耐溶媒性に加え、優れた平坦性（残膜率）を有する感放射線性樹脂組成物、表示不良を引き起こさない当該組成物から得られる表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）を含む重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。式（１）中、Ｒ^３は、単結合、メチレン基、アルキレン基、アリーレン基、下記式（４）で表される基、又はこれらの基を組み合わせてなる２価の有機基である。
（もっと読む）

【課題】信頼性の高い発光装置を提供する。特に、メタルマスクを用いずに形成可能で、且つ複数の発光素子を有する発光装置を提供する。
【解決手段】弾性を有する絶縁層上に形成された導電膜の上方から、少なくとも先端に鋭角形状を有する構造物を、その先端が当該導電膜を貫通して少なくとも当該絶縁層に接するように設け、当該導電膜を物理的に分断することにより、当該導電膜を電気的に分離する。このような構成を隣接する発光素子の間に設け、当該発光素子同士が電気的に分離された発光装置とすればよい。 （もっと読む）

【課題】微細な配線パターンを備えた発光装置の作製方法の提供。
【解決手段】Ｉｎと、Ｇａと、Ｚｎとを有する酸化物半導体層を形成し、酸化物半導体層上に第１の導体パターンを形成し、第１の導体パターンより微細な第２の導体パターンを形成し、前記第２の導体パターンと電気的に接続する発光素子を形成する発光装置の作製方法であって、第２の導体パターンは、酸化物半導体層を横断する。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡易なプロセスで製造することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置１は、酸化物半導体よりなる半導体層１２上の選択的な領域（チャネル領域１２Ａ）に、ゲート絶縁膜１３を介してゲート電極１４が設けられ、そのチャネル領域１２Ａに隣接する領域（ソース・ドレイン接続領域１２Ｂ）にソース・ドレイン電極層１６が電気的に接続される。半導体層１２では、これらのチャネル領域１２Ａおよびソース・ドレイン接続領域１２Ｂとは異なる領域（画素電極部１２Ｃ）がアノードとして利用される。製造プロセスにおいて、フォトマスク、フォトレジストなどの使用部材を減らし、工程数を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡易なプロセスで製造することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置１Ａは、基板１１上にゲート電極１２ａを形成した後、積層膜２４の形成工程において、ゲート電極１２ａ上にゲート絶縁膜１３を介して、半導体層１４、第１保護膜１５、第２保護膜１６、平坦化膜１７、ソース・ドレイン電極層１８および画素分離膜１９を、フォトリソグラフィ技術を用いて形成する。この後、有機ＥＬ層を含む機能層２０と共通電極２１とをこの順に形成する。積層膜２４のうちの少なくとも一部において２層以上を一括してパターニングすることにより、各層毎にパターニングする場合に比べ、使用するフォトマスクの枚数が減る。フォトレジストなどの使用材料が少なくなり、工程数も削減される。 （もっと読む）

【課題】ポリオルガノシロキサンをスタンプとして用いて有機薄膜積層体を製造する方法において、スタンプへのインクの塗布と、インクから形成された薄膜のスタンプからの剥離の両方を好適に行うことができる方法を提供する。
【解決手段】スピロピラン化合物がポリオルガノシロキサン基材表面に配され又は結合したスタンプ１を用いて有機薄膜積層体５を製造する方法であって、（ａ）スピロピラン化合物がメロシアニン体の状態で、スタンプ１の表面に有機材料を含有するインク２を塗布して有機薄膜３を形成する工程と、（ｂ）スピロピラン化合物がスピロ体の状態で、有機薄膜３をスタンプ１から被転写体４上に転写する工程とを有することを特徴とする有機薄膜積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】白色ＬＥＤ光源に対しても、色相が良好で高い輝度を有する青色画素を形成しうるカラーフィルタ用青色感光性組成物を提供する。
【解決手段】３８０〜７００ｎｍの波長における最大吸収ピーク波長が６００〜７００ｎｍである着色剤（Ａ）、３８０〜７００ｎｍの波長における最大吸収ピーク波長が３８０〜４４０ｎｍであり、且つ４５０ｎｍにおける吸光度が最大吸収ピーク強度の２０％以下である着色剤（Ｂ）、アルカリ可溶性バインダー（Ｃ）、重合性化合物（Ｄ）、および光重合開始剤（Ｅ）を含有するカラーフィルタ用青色感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】有機マイクロエレクトロニクスデバイスを製造する目的で放射線硬化型熱転写素子を製造及び利用する方法の提供。
【解決手段】サブストレート１００とサブストレート１００の上を覆っている光熱変換層１０２を含む放射線硬化型熱転写素子と、熱転写素子を作製するための方法。該光熱変換層１０２は、硬化波長の放射線の照射によって硬化可能な放射線硬化型物質と、硬化波長における放射線吸収度を実質的に向上させない結像放射線吸収剤物質からなる。該放射線硬化型熱転写素子は、有機マイクロエレクトロニクスデバイスを作製するためのプロセスで用いることができる。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの作製及び表示装置の作製に用いるフォトマスクの枚数を従来よりも少なくすることを課題の一とする。
【解決手段】ゲート電極を形成する工程と、島状半導体層を形成するための工程を、１回のフォトリソグラフィ工程で行い、平坦化絶縁層を形成した後、コンタクトホールを形成する工程を１回のフォトリソグラフィ工程で行い、ソース電極及びドレイン電極を形成する工程と画素電極を形成する工程を１回のフォトリソグラフィ工程で行い、合計３回のフォトリソグラフィ工程で表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の感度、解像性および露光マージンに優れた感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ’）保護されたヒドロキシスチレンのモノマー単位（ａ１）を含有する重合体、（Ａ’’）ヒドロキシスチレンのモノマー単位（ａ２）を含有する重合体、（Ｂ）式（ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含む光酸発生剤、（Ｃ）式（Ｉ）で表される化合物、および、（Ｄ）溶剤、を含有する感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】半導体デバイスにおいて内部光取り出し及び外部光取り出し少なくとも１つを可能にする機能的テクスチャーの製造方法の提供。
【解決手段】半導体デバイスを製造する方法は、所定のアクティブ領域及び非アクティブ領域を有する透明基板を提供することを含む。その後、この方法は、所定のアクティブ領域上にラッカーの液滴を噴霧して対応するラッカー層領域を形成することを含み、これによって、非アクティブ領域にラッカーが存在しない。ラッカー層領域は、所定の厚さを有し、機能的テクスチャーの形成を可能にする。ラッカー層のテクスチャー形成は、光トラッピング又は光取り出しを可能にする。その後、１又は複数の半導体層がラッカー層領域上に堆積され、カバー基板が提供される。カバー基板は、非アクティブ領域の一部で透明基板に接合され、カバー基板と透明基板の間にラッカー層領域及び１又は複数の半導体層を封じ込める。 （もっと読む）

【課題】安定した発光特性を有し、且つ、リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機ＥＬ素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法は、第１電極２が分割して形成された基板１上に、有機発光層３を形成する工程と、有機発光層３の上のみに所定厚さの下部第２電極４ｂを形成する工程と、第１電極２上に積層された有機発光層３／下部第２電極４ｂを分割する第１分割溝８をレーザ加工により形成する工程と、第１分割溝８を埋め、且つ、複数の有機発光層３／下部第２電極４ｂ上を覆うよう上部第２電極４ｃを形成する工程と、第１電極２上に積層された有機発光層３／下部第２電極４ｂ／上部第２電極４ｃを分割する第２分割溝１１をレーザ加工により形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】リーク電流や短絡を生じにくい照明用に適した有機ＥＬ素子を、高価なフォトリソグラフィを使用することなく、レーザ加工により製造する有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法は、基板１上に、分割して第１電極２を形成する工程と、隣り合う発光素子の第２電極４に接触する部分に対応する第１電極２に隣接するよう絶縁膜５を形成する工程と、隣り合う発光素子の第２電極４に接触する部分に対応する第１電極２上に積層された有機発光層３をレーザ加工により除去し分割する第１分割溝８を形成する工程と、第１分割溝８を埋め、且つ、複数の有機発光層３上を覆うよう第２電極４を形成する工程と、絶縁膜５の上に積層された有機発光層３／第２電極４をレーザ加工により除去し分割する、底面が絶縁膜５となる第２分割溝１１を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低粘度のインクを用いた印刷において、高精細なパターン印刷の再現性に優れ、かつ、有機エレクトロニクス層の膜厚均一性が高く、特に有機エレクトロニクス層をその端部まで均一な厚さで成膜できる有機エレクトロニクスデバイスの製造方法、及び有機エレクトロニクスデバイスを提供すること。
【解決手段】有機エレクトロニクス層３０を形成するインクに含まれる溶媒に対して撥液性を示す撥液性部１２ａと、該溶媒に対して親液性を示す親液性部１１ａとを有するパターンが形成されたパターン付き基板１０を作製する工程と、ブランケット２２上に前記インクを塗布して有機エレクトロニクス層３０を形成する工程と、パターン付き基板１０に有機エレクトロニクス層３０を接触させて、親液性部１１ａに有機エレクトロニクス層３０を転写する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。 （もっと読む）