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Fターム[4C092AB10]の内容

X線技術 (5,537) | 目的 (965) | 定常特性の向上 (103)

Fターム[4C092AB10]に分類される特許

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【課題】面状放電を1対の同軸状電極間の管状放電に繋ぎ換えてプラズマを封じ込める磁場(磁気ビン)を形成するプラズマ光源において、面状放電から管状放電への繋ぎ換えを容易にする。
【解決手段】対向配置された第1及び第2の同軸状電極10、10´と、第1及び第2の同軸状電極10、10´内のプラズマ媒体をプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持するチャンバー20と、第1及び第2の同軸状電極10、10´に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置30と、を備え、第1及び第2の同軸状電極10、10´間に管状放電43を形成してプラズマ3を軸方向に封じ込めるプラズマ光源であって、対向するガイド電極の先端を互いに電気的に接続する接続部材19を有し、該接続部材19は、その中点Mにおいて、接地されるとともに、1対の同軸状電極10に、それぞれ対応する電圧印加装置30の経路を介して接続される。 (もっと読む)


【課題】一定のX線量を安定して得ることができるX線装置を提供する。
【解決手段】X線装置は、X線源1と、電源ユニット17とを備えている。X線源1は、ヒータ3a、3bと、電子源2と、ターゲット20と、X線透過窓11を有した真空容器18とを具備している。電源ユニット17は、ターゲット20に流れた第1電流i1の値を測定する第1電流計5と、ヒータ3a、3bに流れる第2電流i2の値を測定する第2電流計6と、電源13とを具備している。電源13は、ヒータ3a、3bに一定の値に設定された第2電流i2を出力し、第2電流計6で測定された第2電流の値の情報に基づいて第2電流の値を一定の値に維持する。 (もっと読む)


【課題】安定したパルスレーザ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に第1レーザ光を照射する第1レーザ装置と、前記第1レーザ光の照射によって拡散した前記ターゲット物質に第2レーザ光を照射して極端紫外光を生成する第2レーザ装置と、前記第1レーザ光の照射後、前記第2レーザ光の照射前に、該第2レーザ光よりもエネルギーの低い第3レーザ光を照射する第3レーザ装置とを備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】断層撮影の高速化に伴う回転時の遠心力と慣性力に対する耐性が向上したCT装置用冷却機を実現する。
【解決手段】CT装置用冷却機においては、排気口を有するベースが回転体に固定され、ポンプ装置がベース上に配置されている。筐体がベース上に排気空間を規定し、X線発生器と配管で連結されるラジエータ・ユニットが吸気導入口を規定している。冷却ファン装置がベースに固定され、ラジエータ・ユニットを介して吸気している。支持構造体がベースに固定され、ラジエータ・ユニットを回転中心軸側に向けるように屋根型に突出させている。ベース固定部から筐体の頂部への高さがベース固定部間の距離より小さく、支持構造体固定部からのラジエータ・ユニット頂部への高さが支持構造体固定部間の距離より小さく、固定台座固定部からのラジエータ・ユニット頂部への高さが固定台座固定部間の距離より小さく設定される。 (もっと読む)


【課題】ターゲット供給装置の性能を安定させる。
【解決手段】ノズル部86の下方に設けられ、第1の開口領域が形成された電極88と、ターゲット物質と電極88との間に電圧を印加する電源と、を備える。電極88の第1の開口領域は、ターゲット物質がノズル部86から重力方向に滴下するときにターゲット物質が第1の導電部材とは離間して通過するように形成されている。 (もっと読む)


【課題】燃料が予期しないまたは意図的ではない障害または制限に遭うことなくノズルを通過することができる放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、リザーバ、ノズル、レーザおよび正のレンズを含む。リザーバは、燃料の体積を保持するように構成される。リザーバと流体接続されたノズルは、燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成される。レーザは、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して、使用中、放射生成プラズマを生成するように構成される。正のレンズ構成は、燃料の流れの軌道の少なくとも潜在的な広がりをプラズマ形成配置に向かって合焦させるように構成され、レンズは電界生成要素および/または磁界生成要素を含む。 (もっと読む)


【課題】同軸状電極内に発生する面状放電(電流シート)の密度を高め、かつ同軸状電極内の周方向に均一な面状放電を生成することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】1対の同軸状電極10の中心電極12とガイド電極14との間に、中心電極とガイド電極間の浮遊容量Csより大きい静電容量C2を有する補助コンデンサ18をそれぞれ備え、補助コンデンサ18により中心電極とガイド電極間の電圧を放電電圧より短い周期で変動させて、擬似的に高周波の面状放電2を発生させる。 (もっと読む)


【課題】2つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】ガイド電極14と真空チャンバー22との間に絶縁板26が挟持され、ガイド電極14は真空チャンバー22から絶縁されている。また1対のガイド電極14の先端部を電気的に直接結合する連結導電体32を備え、その中央部のみが接地されている。 (もっと読む)


【課題】2つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】2つの同軸状電極a内の中心電極bとガイド電極cとの間に発生した面状放電2を同軸状電極間の管状放電4に繋ぎ変える「繋ぎ変え時点」が、同軸状電極aに対する放電電圧による放電電流のピーク時点より前に設定されている。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光生成装置において、ターゲットの大きさやターゲットの位置の安定性を向上させる。
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質を貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット物質を出力するノズル部と、ターゲット物質との間に直流電圧が印加されたときにターゲット物質のターゲットを生成する電極と、ターゲットを検出して検出信号を出力するターゲット検出器と、内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲット物質と電極との間に印加される直流電圧を調節する直流電圧調節器と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されているターゲット物質に印加される圧力を調節する圧力調節器と、ターゲット検出器から出力される検出信号に基づいて、直流電圧調節器と圧力調節器との内の少なくとも1つを制御する制御装置とを備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】ターゲット物質の出力位置の安定性が向上し、チャンバ外の異物がチャンバ内に侵入することを抑制し得るとともに、チャンバ内のターゲット物質がチャンバ外に放出されることを抑制し得るノズルのクリーニング機構を提供すること。
【解決手段】EUV光生成装置1のノズル712のクリーニング機構9は、EUV光252の生成が行われるチャンバ2内にターゲット物質271を出力するためのノズル712を、チャンバ2内で物理的にクリーニングしてもよい。 (もっと読む)


【課題】安定したレーザ光を出力する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ光を出力するレーザ装置とともに用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を導入する導入口を備えるチャンバと、前記チャンバ内の所定領域にターゲット物質を供給するターゲット生成器と、前記レーザ光を前記所定領域に集光する集光光学系と、ガイド光を出力するガイド光出力装置と、前記ガイド光の光路の中心軸を前記レーザ光の光路の中心軸と一致させるとともに、前記ガイド光を前記ガイド光出力装置から前記所定領域を経由して前記集光光学系に入射させる光学系と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】線形加速器から出射させる電子ビームのエネルギを異ならせても、発生させるX線の線量の変動を抑制する、ことを目的とする。
【解決手段】X線発生装置10は、電子ビームを発生させる電子銃12、電子銃12によって発生された電子ビームをマイクロ波によって加速させる線形加速器14、線形加速器14によって加速された電子ビームが照射されることによって、X線を発生するX線ターゲット16、線形加速器14に導入させるマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置、マイクロ波の電力が変化するようにマイクロ波発生装置を制御するパルスモジュレータを備える。線形加速器14は、複数のバンチャ空洞40を有しているため、マイクロ波の電力を低下させることで加速位相からずれた電子が生じても、該電子を次の時間周期の加速位相にて加速させることができるので、マイクロ波の電力を低下させても出射される電子ビームの強度の低下が抑制される。 (もっと読む)


【課題】安定した極端紫外光を得る。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、第1レーザ光と第2レーザ光との光軸を実質的に一致させるビーム調節器と、前記第1および第2レーザ光を導入するウィンドウを含むチャンバと、前記チャンバ内の所定位置付近にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、前記所定位置付近に前記第1レーザ光を集光し前記ターゲット物質に前記第1レーザ光を照射するレーザ光集光光学系と、前記第2レーザ光と、前記ターゲット物質から生成されたプラズマから放射された放射光とを検出する光検出ユニットと、前記レーザ光集光光学系が前記第1レーザ光を集光する位置を補正する集光位置補正機構と、前記ターゲット供給装置が前記ターゲット物質を供給する位置を補正するターゲット供給位置補正機構と、前記第2レーザ光と前記放射光との検出結果に基づいて、集光位置補正機構およびターゲット供給位置補正機構を制御するコントローラと、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】LPP型EUV光源装置のプラズマ発生室にターゲット物質を供給するターゲット物質供給装置において、ターゲット物質の温度を安定させる。
【解決手段】このターゲット物質供給装置は、外部から供給されるターゲット物質を冷却して液化するための液化室108と、液化室108において液化されたターゲット物質を噴出するためのノズル102と、液化室108内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド109、冷却装置110、ヒータ111、温度センサ112、及び、温度制御部113と、ノズル102内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド114、冷却装置115、ヒータ116、温度センサ117、及び、温度制御部118とを含む。 (もっと読む)


【課題】露光特性を向上させる。
【解決手段】陰極および陽極間に電圧を印加し、陰極と陽極との間において、所定の原子をプラズマ励起させることによりEUV光を生じさせ、このEUV光を、露光部に導き、露光部内において基板の上方に形成された感光膜を露光する工程を、冷却機構により、陰極103の先端部103bを構成する金属部の融点未満の温度に冷却しつつ行なう。例えば、陰極103は、支持部103aと、先端部103bとを有し、冷却機構は、支持部内に冷却溶媒を循環させる機構である。また、支持部103aは、銅よりなり、先端部103bを構成する金属部は、タングステンよりなり、冷却機構の支持部103a側の端部からタングステン端部までの距離(D1)を7mm以下とする。 (もっと読む)


【課題】EUV光以外の他の光を取り除き、EUV光のみをマスクに供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ミラー510の表面には、Mo/Siの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝513が形成される。EUV光源装置1から入射する光203,301は、ミラー510に入射し、反射または回折する。EUV反射光204(EUV回折光を含む)と、他の波長の光301A,301Bとは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光301A,301Bを除去することにより、純度の高いEUV光をマスク600に照射することができる。 (もっと読む)


【課題】複数の異なるエネルギーのX線を放射すると共に、生成したX線のエネルギーのばらつきを抑制する。
【解決手段】X線検査装置10に備えられるX線発生装置14は、粒子加速装置20が複数の異なるエネルギーのX線を発生させるための荷電粒子ビームを生成し、ターゲット22に荷電粒子ビームが照射されることによってX線を放射する。単一エネルギー制御装置は、ターゲット22に荷電粒子ビームが照射されることによって、ターゲット22に流れる電流の計測値及びターゲット22から放射されるX線の線量の計測値から求められる単位ターゲット電流当たりのX線線量に基づいて、異なるエネルギーのX線毎に粒子加速装置20を制御する。 (もっと読む)


【課題】本発明のEUV光源装置は、EUV光以外の他の光を取り除き、EUV光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】EUV集光ミラー130の表面131には、Mo/Siの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝133が形成される。プラズマ201から放射された光202は、EUV集光ミラー130に入射し、反射または回折する。EUV反射光203(EUV回折光を含む)は、中間集光点IFに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、IFから外れた位置に進む。IFには、開口部151を有するSPF用アパーチャ150が設けられている。従って、EUV光のみが開口部151を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ150により遮光される。 (もっと読む)


【課題】ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にEUV光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に液体又は固体の金属ターゲットを供給するターゲット供給手段と、互いに異なる遅延を伴う複数のパルスレーザビームを合成して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。 (もっと読む)


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