【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極１０と、各同軸状電極１０に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、各同軸状電極１０は、単一の軸線Ｚ−Ｚ上に延びる棒状の中心電極１２と、中心電極１２の中心軸Ｚに対して軸対称な面上に設けられた複数の外部電極１４と、中心電極１２及び各外部電極１４の間を絶縁する絶縁体１６とを有し、中心電極１２と各外部電極１４との間隔Ｇは、相手の同軸状電極１０に面する側からその反対側に向かうに連れて増加している。 （もっと読む）

【課題】ターゲット供給装置の性能を安定させる。
【解決手段】ノズル部８６の下方に設けられ、第１の開口領域が形成された電極８８と、ターゲット物質と電極８８との間に電圧を印加する電源と、を備える。電極８８の第１の開口領域は、ターゲット物質がノズル部８６から重力方向に滴下するときにターゲット物質が第１の導電部材とは離間して通過するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】２つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】ガイド電極１４と真空チャンバー２２との間に絶縁板２６が挟持され、ガイド電極１４は真空チャンバー２２から絶縁されている。また１対のガイド電極１４の先端部を電気的に直接結合する連結導電体３２を備え、その中央部のみが接地されている。 （もっと読む）

【課題】同軸状電極内に発生する面状放電（電流シート）の密度を高め、かつ同軸状電極内の周方向に均一な面状放電を生成することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】１対の同軸状電極１０の中心電極１２とガイド電極１４との間に、中心電極とガイド電極間の浮遊容量Ｃｓより大きい静電容量Ｃ２を有する補助コンデンサ１８をそれぞれ備え、補助コンデンサ１８により中心電極とガイド電極間の電圧を放電電圧より短い周期で変動させて、擬似的に高周波の面状放電２を発生させる。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めた場合でも熱負荷によるダメージを抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源システムを提供する。
【解決手段】内部が真空排気される真空チャンバー２１内で、中心軸７を中心とする円周上に設置された複数の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、各発光点１ａにおけるプラズマ光８を中心軸７上に位置する集光点９に向けて反射するミラー回転体４０と、ミラー回転体４０を中心軸７まわりに回転駆動する回転駆動装置４８と、ミラー回転体４０の内部を冷却する冷却装置５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ピンチプラズマのパルス生成器を提供する。
【解決手段】パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。電極間に配置されるリミッタ開口は、磁場線と共に、電極間をつなぐ中空プラズマシリンダ９０を画定する。高パルスの電圧および電流は、プラズマシリンダ９０およびその内部磁場を圧縮し、同時に各側面から電極チップ間の空間に向けて活動ガスを進めるような磁気絶縁層を形成する。プラズマは次いで径方向に３次元圧縮するように崩壊し、デバイスの軸上に、極紫外線の放出を伴う高密度プラズマを形成する。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマに基づいた極紫外（ＥＵＶ）放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明は、放電プラズマに基づいたＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法および装置に関する。ソース位置の位置変化を放射線ソースの動作中に単純な方法で補償できるようにする、ＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための新規な可能性を見い出すという目的は、第１のビーム整列ユニット（７）、第２のビーム整列ユニット（４）、およびビーム集束ユニット（５）が、蒸発ビーム（３）に配置され、かつ第１〜第３の測定装置（８、９、１０）に接続され、かつ基準値に対する蒸発ビーム（３）の方向偏差および発散偏差を取得および補償するために調整可能であるという点で、本発明によって達成される。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットをプラズマ生成領域に到達させることができるチャンバ装置を提供する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ光を内部に導入するための入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに絶縁体を介して設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記チャンバ装置に接続される電位制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】比較的安価でかつ長寿命のＸ線管電子源の提供。
【解決手段】Ｘ線管は抑制器（１４、１６）内に収容される放出器ワイヤ（１８）を備える。抽出グリッドが、放出器ワイヤに対して垂直に延在する複数の平行なワイヤ（２０）を備え、集束グリッドが、グリッドワイヤ（２０）に対して平行であり、かつグリッドワイヤ（２０）から等間隔で離間して配置される複数のワイヤ（２２）を備える。グリッドワイヤはスイッチによって正の抽出電位または負の阻止電位に接続され、いつでも一対の隣接するグリッドワイヤ（２２）が共に接続され、抽出対を形成し、それが電子ビームを生成するように、それらのスイッチが制御される。ビームの位置は、種々のグリッドワイヤ対を抽出電位に切り替えることにより移動される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができ、かつプラズマ光発生部近傍の残留プラズマを排気して光学系の損傷及びＸ線の吸収損失を抑制することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の同軸状電極１０と、放電環境保持装置２０と、各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、１対の同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込めプラズマ光８を発光させる。さらに、プラズマ光発光後の残留プラズマ３ａの排出時に、プラズマ光の発光位置から離れた離隔位置に、中心電極１２より電位の低い仮想電極４１を形成する仮想電極形成装置４０を備え、残留プラズマを仮想電極４１による静電気力により加速させて高速排気する。 （もっと読む）

【課題】（１）ＥＵＶ放射のプラズマ光を長時間安定させ（２）放射立体角が大きく（３）プラズマ媒体を連続供給し（４）出力を高めかつ放電ジッターを低減する（５）プラズマ中の不純物を防止して変換効率を高めるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】中心電極の軸方向内端部が対向配置された１対の同軸状電極１０と、１対の同軸状電極内の温度及び圧力を保持する放電環境保持装置２０と、各同軸状電極に放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備える。絶縁部材１６は、中心電極１２の外面又はガイド電極１４の内面に密着し、軸線Ｚ−Ｚに対称に配置され、液体金属のプラズマ媒体を滲み出させる複数の溝を有している。溝を介して供給された液体金属のプラズマ媒体を放電開始ピンとする中心電極とガイド電極間の面状放電により、同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込める。 （もっと読む）

【課題】水素または同様の雰囲気を用いたＥＵＶ装置に適した代替の汚染物質トラップを提供する。
【解決手段】汚染物質トラップがＥＵＶ放射源装置内で用いられる。ＥＵＶ放射ビームが発生されて低圧ガス雰囲気を通り仮想放射源点に合焦される。ＥＵＶ放射は、ＥＵＶ放射が通過する低圧水素雰囲気中にプラズマを生成する。電極を含む汚染物質トラップは、放射ビームが仮想放射源点に近接する最中に放射ビーム内または周りに位置付けられる。ＤＣバイアス源が電極に接続されて、プラズマによって負帯電された汚染物質粒子をビーム経路外に偏向させるように向けられた電界を発生させる。追加のＲＦ電極および／またはイオナイザはプラズマを増強させて粒子の帯電を増加する。偏向電極は、短時間の間、ＲＦバイアスで動作させられて、それにより増強されたプラズマを確実に消失させる。 （もっと読む）

【課題】画質、イメージング・システムの性能、及びＸ線源の耐久性を保存するように電子ビームの焦点及び位置を同じ時間尺度で制御する。また、走査要件に基づいて電子ビーム強度を制御して電子ビームを正確に配置するＸ線管の設計を開発する。
【解決手段】Ｘ線管（５０）用の入射器（５２）が提示される。入射器（５２）は、電子ビーム（６４）を放出する放出器（５８）と、放出器（５８）の周りに配設されて電子ビーム（６４）を集束させる少なくとも一つの集束電極（７０）と、放出器（５８）に関して正のバイアス電圧に保たれて電子ビーム（６４）の強度を制御する少なくとも一つの引出し電極（７４）とを含んでいる。 （もっと読む）

本発明は電極システムに関し、特にEUV光及び/又は軟X線を発生させるためのガス放電デバイスの電極システムに関する。電極システムは、主要構成要素としてMo若しくはW、又はMo若しくはWの合金を含む電極材から形成された少なくとも二つの電極1、同2を有する。当該電極材は、500 nm以下の平均サイズをもつ微粒子をもつ微細粒構造を有する。提案された電極システムがあると、大きな熱-機械抵抗と、大きな熱-化学抵抗とをもつ電極が実現される。これゆえ、液体Snを使用し且つ高温で作動する周知のEUV光源において当該電極システムを使うことができる。
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本発明は、電界放出陰極と、陽極と、陰極および陽極間に高電圧を適用してＸ線ビームの放射を可能にするコネクタと、自身の内部に陽極および陰極が配置される真空チャンバであって、Ｘ線透過窓を有する真空チャンバとを具えるＸ線源に関しており、電界放出陰極が連続したセル構造を有する炭化固体化合物発泡体から成り、連続したセル構造は高電圧が適用されたときに陽極に電子放出する複数の放出部位を具えている。電界放出陰極は、スイチッング時間、電流、運動エネルギ、および出射方向の点で電界放出陰極で放出された電子をさらに高度に制御することが可能であるため、Ｘ線システムの性能を向上することが可能である。 （もっと読む）

【要約書】 エミッタ支持ブロックと、支持ブロック上に設けられ電子を放出する電子放出領域と、電子放出領域と電流源とを電気的に接続するように構成された電気コネクタと、支持ブロックを加熱するように構成された加熱手段とを備えたＸ線スキャナ用の電子源 （もっと読む）

【課題】レーザビームの照射による初期プラズマの発生後、できるだけ速やかに電極間で放電を発生させて効率よく初期プラズマを加熱してＥＵＶ放射を発生させること。
【解決手段】リセット回路部７１は、可飽和リアクトルＳＲ３の２次巻線ＬＲ３に対して、可飽和リアクトルＳＲ３に流れる電流に基づき生ずる残留磁束と同方向に磁束が生ずるようにリセット電流を流す。スイッチＳＷをｏｎにし、磁気スイッチＳＲ１がｏｎとなると、コンデンサＣ０に蓄えられた電荷が移行してコンデンサＣ２に充電されるとともに、レーザが電極２ａに塗布されている高温プラズマ原料に照射される。これにより高温プラズマ原料は気化し対向する第２の電極２ｂに達する。可飽和リアクトルＳＲ３は、上記リセット電流により飽和してｏｎとなっており、コンデンサＣ２から回転電極２ａ，２ｂに直ちにパルス電力が印加され、電極２ａ，２ｂ間に大きな電流が流れ高温プラズマが発生する。 （もっと読む）

【課題】多重イメージング・エネルギ源を用いるＣＴシステムを提供する。
【解決手段】ＣＴシステム（１０）は、ガントリ（１２）の開口部（４８）を通るＸ線（１６）を投射するＸ線源（１４）を含む。Ｘ線源は、ターゲット（１００）へ第１及び第２の電子ビーム（１１４、１１６）をそれぞれ放出する第１及び第２の陰極（１０２、１０４）と、第１及び第２の陰極にそれぞれ結合された第１及び第２のグリッディング電極（１０８、１１２）とを含む。本システムは、第１及び第２の陰極を第１及び第２の電圧までそれぞれ付勢する発生装置（２９）と、ガントリの開口部を通過したＸ線を受け取る検出器（１２３）と、第１及び／又は第２のグリッディング電極にグリッディング電圧を印加して第１及び／又は第２の電子ビームの放出を阻止し、また検出器からイメージング・データを取得するように構成されている制御装置（２８）とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置のＥＵＶ出力を安定させるために、ターゲット物質の液滴の射出方向のズレを補正する。
【解決手段】ターゲット物質の液滴１０１を予め設定されているプラズマ発光点１０３に向けて出力する液滴生成装置１１０と、ターゲット物質の液滴１０１を帯電させる帯電装置１３０と、帯電されたターゲット物質の液滴１０１ａの進行方向を補正して、プラズマ発光点１０３へ向かうように軌道内に電場または磁場を形成する軌道補正装置１４０と、プラズマ発光点１０３において帯電されたターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ光源１５０と、を備える極端紫外光源装置。 （もっと読む）

【課題】小さな電界で大きな出力の軟Ｘ線を安定した状態で大面積状に発生することができるとともに、発生したＸ線の照射方向を制御して非照射物に対して効率良く集中させて照射することが可能な、安価で性能の良い軟Ｘ線発生装置を提供する。
【解決手段】密閉可能な筒状の真空ハウジング内に、ハウジングの内壁面の長手方向に沿ってＸ線放出物質により構成されたわん曲面を有する陽極を設け、基材表面に針状体を密集して形成させた電極材料からなる冷陰極を前記陽極と間隔を空けて平行に配置してなり、陽極から発生するＸ線を冷陰極側に放射することを特徴とする軟Ｘ線発生装置。 （もっと読む）