【課題】給水中に銅を含有するボイラ水系において、防食効果と銅のスケール防止効果とを同時に得ることができるボイラの防食方法を提供する。
【解決手段】給水中に銅を含有するボイラの防食方法であって、ブロー水の酸化還元電位が０ｍＶ以上となるようにボイラ水系に防食剤を添加するボイラの防食方法。防食剤は、脱酸素能力の低い防食剤であり、例えばコハク酸またはその塩、クエン酸またはその塩、ソルビン酸またはその塩が使用できる。 （もっと読む）

【課題】複数の気泡除去ユニットの交換を容易にできると共に、漏れた機能液を適切に処理すること。
【解決手段】気泡除去装置１３５は、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドに機能液を供給する機能液流路に介設され、機能液流路を流れる機能液内のマイクロバブルを除去する気泡除去装置１３５であって、ケーシングとケーシング内の気体透過膜との間隙に減圧室３０４を構成すると共に、気体透過膜の内側に機能液が流れる内部流路３０３を構成し、気体透過膜を介して機能液から減圧室３０４に溶存気体を透過させてマイクロバブルを除去する複数の気泡除去ユニット３００と、減圧室３０４を開放した複数の気泡除去ユニット３００を収容すると共に、真空吸引源８９に連なる単一の減圧容器３２０と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 濾過および脱気を効率よく行うことにある。
【解決手段】 給水ポンプ２ａ，２ｂと濾過膜部３ａ，３ｂと、膜式脱気部４ａ，４ｂとを直列に接続した水処理単位５ａ，５ｂを複数互いに並列に接続した水処理装置であって、給水ポンプ２ａ，２ｂを停止，低流量運転，高流量運転とすることで、各水処理単位５ａ，５ｂを停止，半負荷運転，全負荷運転とする制御器１４を備え、制御器１４は、複数の給水ポンプ２ａ，２ｂを低流量運転とする第一制御状態と、複数の給水ポンプ２ａ，２ｂの一方を高流量運転とし他方を停止する第二制御状態とを選択可能とする。 （もっと読む）

【課題】 処理水の溶存酸素濃度を低減することである。
【解決手段】 脱気装置１と、この脱気装置１にて生成される処理水を貯留する処理水タンク２と、この処理水タンク２の処理水を使用する負荷機器３と、前記処理水タンク２の水位情報に基づき前記水位が低くなるに伴い前記脱気装置１への被処理水の供給量を多くする制御手段４とを備える脱酸素システムであって、前記制御手段４は、前記負荷機器３の処理水要求量情報に基づき、前記供給量を前記水位情報のみによる供給量よりも少なくする制御を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造工程から排出されるリンス排水等の有機物を含有する水の回収再利用に好適に用いることができる、水中の有機物除去方法及び装置を提供する。
【解決手段】有機物含有排水にペルオキシド基を含む硫黄化合物及び必要に応じてｐＨ調整剤を添加した後紫外線酸化処理を行い、紫外線酸化処理水を必要に応じてｐＨ調整した後、残存する酸化剤を除去し、その酸化剤除去処理水を脱イオン処理する。原水にペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加して紫外線酸化処理を行うことにより、酸化力が非常に高い硫酸ラジカルを発生させ、この硫酸ラジカルにより、原水中に存在する有機物をイオン性有機物に形態変化させ、これを脱イオン処理で除去する。 （もっと読む）

【課題】 処理水の溶存酸素濃度を低減することである。
【解決手段】 通水量が低流量と高流量とに選択可能な複数台の膜式の脱気装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃと、処理水を使用する負荷機器３と、脱気装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃの運転台数の制御器４とを備える脱酸素システムであって、制御器４は、複数台を同じ高流量に制御する第一制御状態と、複数台を低流量と高流量とに制御する第二制御状態と、複数台を同じ低流量に制御する第三制御状態とを行う。。 （もっと読む）

【課題】 処理水の溶存酸素濃度を低減することである。。
【解決手段】 それぞれの被処理水の供給量が低流量と高流量とに選択可能な複数台の脱気装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃと、この脱気装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃにて生成される処理水を使用する負荷機器３と、処理水要求量に応じて前記脱気装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃの運転台数を制御する制御手段４とを備える脱酸素システムであって、前記制御手段４は、前記脱気装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃの高流量１台運転を低流量複数台運転に代える負荷分散制御を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】ボイラ水のブローを抑制しながら、蒸気ボイラでのキャリーオーバーを抑制する。
【構成】ナノろ過膜を有するクロスフロー型ろ過装置５５でろ過処理した補給水を貯水タンク４０へ供給し、蒸気ボイラ２０へ供給するボイラ給水として貯留する。この際、クロスフロー型ろ過装置５５へ供給される補給水の電気伝導度を測定し、この電気伝導度が所定値を超える場合はクロスフロー型ろ過装置５５でのブロー量を多く設定する。これにより、貯水タンク４０に貯留されるボイラ給水は、各種のイオン成分が効果的に除去されたものに調製されるため、蒸気ボイラ２０において濃縮が進行してもキャリーオーバーの原因となる電気伝導度の上昇が抑制される。 （もっと読む）

【目的】ボイラ給水への薬剤の添加によらずに、蒸気ボイラでの腐食およびスケール生成を効果的に抑制する。
【構成】ナトリウム型陽イオン交換樹脂が充填された複数の樹脂ユニットを含む樹脂ユニット群を有する軟水化装置５３、ナノろ過膜を有するクロスフロー型ろ過装置５５および脱酸素装置５６で補給水を処理し、これにより得られる脱酸素処理されかつ塩化物イオンおよび硫酸イオンが除去された軟化水をボイラ給水として貯水タンク４０に貯留する。軟水化装置５３とろ過装置５５との間において、補給水の硬度分濃度、塩化物イオンと硫酸イオンとの合計イオン濃度並びに水温をそれぞれ測定し、硬度分濃度が所定濃度を超えたときは樹脂ユニット群において樹脂ユニットを他のものに切替え、合計イオン濃度が所定値を超える場合はろ過装置５５からのブロー量を多くし、水温が所定温度未満のときは補給水の流量を下げて脱酸素装置５６に通過させる。 （もっと読む）

【目的】ボイラ給水への薬剤の添加によらずに、蒸気ボイラでの腐食およびスケール生成を効果的に抑制する。
【構成】ナトリウム型陽イオン交換樹脂が充填された複数の樹脂ユニットを含む樹脂ユニット群を有する軟水化装置５３、ナノろ過膜を有するクロスフロー型ろ過処理装置５５および脱酸素装置５６で補給水を処理し、これにより得られる脱酸素処理されかつ塩化物イオン等の腐食促進イオン成分が除去された軟化水をボイラ給水として貯水タンク４０に貯留する。軟水化装置５３とろ過処理装置５５との間において、補給水の硬度分濃度、酸消費量（ｐＨ４．８）および水温をそれぞれ測定し、硬度分濃度が所定濃度を超えたときは樹脂ユニット群において樹脂ユニットを他のものに切替え、酸消費量（ｐＨ４．８）が所定値未満の場合はろ過処理装置５５からのブロー量を少なくし、水温が所定温度未満のときは補給水の流量を下げて脱酸素装置５６に通過させる。 （もっと読む）

【目的】ボイラ給水への薬剤の添加によらずに、蒸気ボイラおよび復水経路での腐食並びに蒸気ボイラでのスケール生成を効果的に抑制する。
【構成】ナトリウム型陽イオン交換樹脂が充填された複数の樹脂ユニットを含む樹脂ユニット群を有する軟水化装置５３、ナノろ過膜を有するクロスフロー型のろ過処理装置５５および脱酸素装置５６で補給水を処理し、これにより得られる脱酸素処理されかつ炭酸塩が除去された軟化水をボイラ給水として貯水タンク４０に貯留する。軟水化装置５３とろ過処理装置５５との間において、補給水の硬度分濃度、酸消費量（ｐＨ４．８）および水温をそれぞれ測定し、硬度分濃度が所定濃度を超えたときは樹脂ユニット群において樹脂ユニットを他のものに切替え、酸消費量（ｐＨ４．８）が所定値を超える場合はろ過処理装置５５からのブロー量を多くし、水温が所定温度未満のときは補給水の流量を下げて脱酸素装置５６に通過させる。 （もっと読む）

【課題】液体の脱ガスのための装置で、液体が重力により膜接触器に供給される液体の脱ガス方法を提供する。
【解決手段】液体入口１４、液体出口１６および真空ポート１８を有する外殻液体流路膜接触器１２、中央に近い端部および末端を有し、中央に近い端部は膜接触器の液体入口に接続されている第１の管２２、および第１の管の末端に接続される容器接続具、中央に近い端部および末端を有し、中央に近い端部は膜接触器の液体出口に接続されている第２の管２８を含み、使用の間、第１の管の末端は膜接触器の上に位置され、第２の管の末端は膜接触器の下に位置され、液体は重力により膜接触器を通過する。 （もっと読む）

【課題】脱気可能面積が十分確保された高充填率のガス交換部材により液体中の溶存気体などを効率よく脱気できる、小型の医療用脱気モジュールと医療用脱気モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】液体Ｗが内部を流通する医療用送液管に設けられ、液体Ｗ中に含まれる溶存気体Ｋなどを除去する医療用脱気モジュールであって、外装体２０内に中空糸膜３０ａを束ねた高密度部３２と、高密度部３２と連通する低密度部３３とからなるガス交換部３１を設け、低密度部３３の中空糸膜３０ａを排気部２３にポッティングしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】復水をボイラ給水と混合して再利用する蒸気ボイラ装置において、ボイラ給水への薬剤添加に依らずに蒸気ボイラおよび復水経路の両方の腐食を抑制する。
【構成】蒸気ボイラ２０へボイラ給水を供給する給水タンク４０には、補給経路５０を通じてボイラ給水となる補給水が供給される。補給経路５０は、ナノろ過膜および逆浸透膜のうちの少なくとも一つを用いて補給水をろ過処理するためのろ過処理装置５５と、脱酸素装置５６とを有している。給水タンク４０へ供給される補給水は、蒸気ボイラ２０の腐食を促進する塩化物イオン等の成分および復水経路３０の腐食を促進する炭酸ガスの発生原因となる炭酸塩等のアルカリ成分がろ過処理装置５５において除去され、また、蒸気ボイラ２０の腐食を促進する溶存酸素が脱酸素装置５６において除去される。 （もっと読む）

【課題】電子部品などの洗浄に用いる特定ガスを所定濃度に溶解したガス溶解洗浄水を、使用するガスの量を節減し、効率よく、安定かつ安全に供給することができるガス溶解洗浄水の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】特定ガスを大気圧に対して加圧条件下で水に過飽和に溶解させる加圧溶解部と、特定ガスの過飽和分を除去する過飽和分除去部を有するガス溶解洗浄水の製造装置において、加圧溶解部の一次側に気体透過膜モジュールを備えた予備溶解部を有し、その気相室に特定ガスを給気するガス溶解洗浄水の製造装置、及び、貯留槽、水圧送ポンプ、異物を除去する浄化手段、加圧溶解部、過飽和分除去部を有する装置を用いるガス溶解洗浄水の製造方法において、加圧溶解部の一次側又は過飽和分除去部の二次側の溶存ガス濃度を測定し、その測定値に応じて、加圧溶解部に給気する特定ガスの流量又は圧力を調整し、所定濃度の特定ガス溶解水を発生させるガス溶解洗浄水の製造方法。 （もっと読む）

【課題】構造的に安定である難分解性の有機物を含む水を高効率にて分解することができる紫外線酸化装置と、この紫外線酸化装置を備えた有機物除去装置を提供する。
【解決手段】紫外線酸化装置２０は、有機物含有水を通水する筒形容器２１と、該筒形容器２１内に同軸状に配置された保護菅２２と、該保護菅２２内に配置された紫外線ランプ２３とを有している。保護菅２２の外周面と該筒形容器２１の内周面との間隔Ｙは、８ｍｍ以下である。これにより、難分解性の有機物が効率良く酸化分解され、ＴＯＣ除去率が向上する。この紫外線酸化装置２０の前段に、ペルオキソ二硫酸塩注入装置３１が設けられている。また、この紫外線酸化装置２０の後段に、酸化剤除去装置２３、微粒子除去膜装置３３、第１のイオン交換装置３４、熱交換器３５、脱気装置３６及び第２のイオン交換装置（交換型の非再生式イオン交換装置）３７がこの順に設けられている。 （もっと読む）

【課題】 インクジェットプリンターに搭載される装置として好適に使用できる、脱気用中空糸膜モジュール及びこれを用いた脱気装置の提供。
【解決手段】 複数本の気体透過性中空糸膜が円筒状モジュールケースに収納され、該中空糸膜の両端が接着剤により接着固定され、該中空糸膜の中空部が開口した脱気用中空糸膜モジュールにおいて、該円筒状モジュールケース内径Ｒに対する該円筒状モジュールケースの長さＬの比率（Ｌ／Ｒ）が２以下である脱気用中空糸膜モジュール。上記の脱気用中空糸膜モジュールと、被脱気液体を送液するための送液機構と、液体中の溶存気体を除去するための減圧機構を有する脱気装置。 （もっと読む）

【課題】 単位ガス量あたりの回収エネルギーと、多孔質膜の必要面積の減少による回収コストを低減したガス分離方法及びガス分離装置を提供する。
【解決手段】 本発明のガス分離装置は、被分離ガスを吸収液と接触させることにより被分離ガス中の特定の分離対象ガスを吸収液に吸収させる吸収部１３と、吸収部１３の後段に備えられ吸収液が接触する多孔質膜１１と、吸収液を多孔質膜１１を介して吸収液側よりも減圧の空間にする減圧装置とを備えている。そして、分離対象ガスを多孔質膜１１の微細孔２１を通して減圧空間に放散させて回収するものである。多孔質膜１１の材料としては、酸化物、窒化物及び炭化物の内の少なくとも１つを含むセラミックス、又は熱誘起型相分離法により製造したポリオレフィンを用いる。 （もっと読む）

特定の実施例に従い、脱塩システムは、複数の蒸発器を含む。その複数の蒸発器は、少なくとも最初の蒸発器と最初の蒸発器とを含む。複数の蒸発器はカスケード式に配置されるので、ブライン溶液が最初の蒸発器から最後の蒸発器へ複数の蒸発器を通るにつれて、ブライン溶液の塩の濃縮は増す。脱塩システムは又、複数の熱交換機を含む。各蒸発器の入力は、複数の熱交換機のうちの少なくとも１つに結合される。そのシステムは又、複数の蒸発器のうちの少なくとも１つに結合された蒸気源を含む。 （もっと読む）

【課題】 簡単な装置と操作により、飽和濃度未満の任意の一定濃度のガスを溶解し、超音波洗浄の洗浄水として用いる際のキャビテーション力を調整することが可能な高純度の超純水を製造できる超純水製造装置および方法をする。
【解決の手段】 一次純水システムＡにおいて、原水を脱塩および脱気して一次純水を製造し、一次純水システムＡで得られる一次純水およびユースポイントから循環する二次純水を二次純水貯留槽１１において、窒素ガスでシールして貯留し、二次純水貯留槽１１から得られる窒素濃度が異なる二次純水を膜脱気装置１４で脱気して窒素を除去し、ガス溶解装置１６で脱気処理水にガスを添加してガスを溶解させる際、ガス溶解装置１６に供給するガス流量をガス流量制御装置１７により所定の流量に制御し、超純水を製造する。 （もっと読む）