本発明は、分配工程を経て、複数の試料を処理するための、又は複数の製品を生産するための装置及び方法を提供する。この装置及び方法は、製品／試料のリアルタイムの監視を行い、かつ、リアルタイムの制御を行うことができる。この装置及び方法は、液体を、担持基部に添加する前及び添加した後の両方において、監視することができる。この装置及び方法は、処理される各製品／試料の監視を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 ウエットプロセスであって、樹脂フィルム等のフィルム基材にも適用できる低温での成膜が可能であり、かつ、ダイレクトパターニングおよび均一な厚みの膜形成を低コストで容易に行うことのできるパターン膜形成方法、装置と材料および製品を提供する。
【解決手段】 本発明のパターン膜形成方法は、基材の表面に所望のパターンを有する膜を形成する方法であって、前記基材７に熱を持たせた状態で、膜形成材料を含むインク２をノズル１ａから前記基材７の表面に供給することで、前記基材７の表面に所望のパターン８を形成することを特徴とし、本発明のパターン膜形成装置は、膜形成材料を含むインクをノズルから基材表面に供給する手段と、前記基材を加熱する手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】媒体に正しく対向していないときに不用意に液滴が吐出されるのを防止する。
【解決手段】液体吐出具（１）に搭載されるように構成された液体噴射ヘッド（５）は、基板（７）と、基板（７）上に配置された液体噴出システム（９）と、媒体（８）に物理的に接触することなく動作して液体噴出ヘッド（５）と媒体（８）との間の距離を測定する測定手段（１３）と、を有し、測定手段（１３）は制御ユニット（１０）に接続されるように構成され、測定手段（１３）は基板（７）上に配置されている。 （もっと読む）

基板上に所望の寸法の形状（２４、３５）を形成する方法およびシステムにおいて、材料の一連の液滴（４３）を基板上に滴下し、その境界内に前記形状がおさまるような十分な寸法のパターン（２２、３２）を形成し、前記形状を画定する前記パターンの内側部分を囲む、前記パターンの余剰領域を除去する。余剰材料の除去は、前記パターンを画定する前記パターンの部分を硬化し余剰を洗い流すことにより、または、余剰材料をアブレーションすることにより、行ってもよい。
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帯電した溶液の液滴を先端部から吐出するノズル（５１）を有する液体吐出ヘッド（５６）と、液体吐出ヘッドに設けられ、液滴を吐出させるための電界を生じさせる電圧が印加される吐出電極（５８）と、吐出電極に電圧を印加する電圧印加手段（３５）と、液滴の吐出を受ける絶縁性素材からなる基材Ｋと、液体吐出ヘッドの吐出を行う雰囲気を、露点温度９度（摂氏９度［℃］）以上であって水の飽和温度未満に維持する吐出雰囲気調節手段（７０）と、を備えている。 （もっと読む）

本発明はマスクやシルクスクリーン無しでは基板（１）の表面上まで拡がらない空洞部（４）に位置する領域を充填する方法と装置に関する。本発明によると、前記方法は、基板（１）に関する充填材（２）の頭部（１２）の相対移動方向の順番に応じて、次の物体、すなわち、基板（１）の表面上に充填する剤（２）の散布要素（１０）、充填領域（４）の充填材（２）の入替要素（３）、過剰充填剤（２）の厚み調整あるいは掻き落としの要素（７）を、上述の充填剤（２）が充填操作の最初から過剰材の掻き落としまで常に充填領域（４）と接触を維持したまま残るよう連動させることからなる。

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マイクロエレクトロニックデバイスのような硬化性塗膜基板を効率的で高速に接触平坦化するための改良した装置（２０）および方法を提供し非常に高度な平坦化を達成する。装置（２０）は好ましくは光学的に平面である柔軟シート（８８）および支援の光学的平面体（８２）を持つ平坦化ユニット（２８）、および硬化アセンブリ（３０）を含む。操作においては、平坦化塗膜（７６）を持つ基板（７８）を真空チャンバー（２６）内のシート（８８）および平面体（８２）の下に置く。シート（８８）を隔てて圧力差を設けることによりシートをたわませ塗膜（７６）の中央領域Ｃと接触させ、それからすぐ塗膜（７６）はサポート（１１４）および真空チャック（１２０）を用いてシート（８８）および平面体（８２）と全平坦化接触させ、この時点で塗膜（７６）はアセンブリ（３０）を用いて硬化される。硬化後、シート（８８）を隔てて圧力差をつくり出し、シートを塗膜の周辺部Ｐから、そしてシート（８８）および塗膜（７６）を全面的に逐次分離する。 （もっと読む）

【課題】高速度でパターンを形成できる液滴吐出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ステージ４上に載置されるガラス基板５に対して液滴を吐出するノズルを配列した吐出ヘッド群３を備え、ガラス基板５上に形成するパターンが繰り返し性を有する場合に、繰り返しの１周期分に相当するデータをビットマップ形式に変換し、変換後のデータを制御装置２に読み込んで、このビットマップデータから作成した吐出データに基づいて吐出ヘッドからの液滴の吐出を制御するように構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、インクジェット法等の吐出法を用いて平坦な機能性部を製造効率よく形成可能な、機能性素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、基板上に、溶媒を含有する機能性層形成用塗工液を、機能性層を形成する領域である機能性層形成用領域に吐出法により滴下後、乾燥固化させて機能性層を形成する機能性層形成工程を有する機能性素子の製造方法において、前記機能性素子の機能性部として用いられる領域である前記機能性層内の有効領域における最大膜厚をＴｍａｘ、最小膜厚をＴｍｉｎとした場合、
Ｔｍａｘ／Ｔｍｉｎ≦２
となるように、滴下後の前記機能性層形成用塗工液の温度を調整することを特徴とする機能性素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】液晶セル等、ディスプレイ用パネルを反転させずに下基板のエッジ部と接続基板の下面との間に樹脂を円滑かつ確実に供給する。
【解決手段】樹脂の塗布ステージには、２組のディスペンサ２０，４０が設けられている。ディスペンサ２０は液晶セル１における上部側角隅部に、またディスペンサ４０は下部側角隅部に向けて樹脂を供給する。ディスペンサ４０は、シリンジ４１と針状ノズル４２とを有し、針状ノズル４２は下部側角隅部に向けて斜め上方に樹脂を吐出する。 （もっと読む）

【課題】装置コストを比較的安価にでき、フラックスの消費量を低減でき、作業効率の高いフラックス塗布装置を提供する。
【解決手段】基板１００を保持する基板保持板２と、基板１００の下方に配置され、フラックスＦＬを収容するフラックス容器４０と、フラックスＦＬを塗布すべき塗布領域Ｃｒの形状に合致した接触面をもち、フラックスＦＬを吸収保持するスポンジ部材５０と、接触面が塗布領域Ｃｒに対向する対応する位置にスポンジ部材５０を保持し、スポンジ部材５０を下降させてフラックス容器４０内のフラックスＦＬに浸漬させ、スポンジ部材５０を上昇させて基板１００に対して下方から接触面を押し当てることにより、基板の塗布領域にフラックスを塗布する可動板１０、ガイドロッド１１およびアクチュエータ２０からなる移動機構とを有する。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板の昇温速度を向上し、成膜時の被処理基板温度を均一化する。
【解決手段】 基板処理装置は、真空容器内で被処理基板Ｗを保持しつつ回転させる基板保持体２を備える。基板保持体２は、被処理基板Ｗを載置するリング状載置部１２を有する回転体１０と、回転体１０内に回転体とは非接触で設けられ、被処理基板Ｗを加熱するヒータ、ヒータ支持体、支持軸等を一体化したヒータ部５０とを有する。被処理基板Ｗを所定の温度に昇温させる際は、回転体１０に対して上昇させたヒータ部５０に被処理基板Ｗを接触保持させた状態で直接加熱する。昇温後、被処理基板Ｗを成膜処理する際には、回転体１０に対して下降させたヒータ部５０から被処理基板Ｗを離間させるとともに、リング状載置部１２に被処理基板Ｗを保持させた状態で、載置部１２に保持した被処理基板Ｗをヒータ部５０に対して相対的に回転させることにより被処理基板Ｗの処理を行う。 （もっと読む）