【課題】 インクジェット方式によって形成した塗布液の薄膜の膜厚均一性を向上させる。
【解決手段】 塗布液供給機構１２の進行方向前側に溶剤供給機構１８を、進行方向後側に気体噴射機構１４を、それぞれ連結して塗布ヘッド１０が構成されている。塗布ヘッド１０を基板Ｗに対して相対移動させながら、溶剤供給機構１８から基板Ｗ上に溶剤を供給し、続いて塗布液供給機構１２から溶剤の被膜上に塗布液を供給し、最後に、気体噴射機構１４から塗布液の凹凸表面に気体を噴射して溶剤の薄膜表面を平滑化する。 （もっと読む）

【課題】塗工域の塗工始端部又は塗工終端部に生じる盛り上がり部の盛り上がり高さ寸法を小さくする。
【解決手段】基材走行路Ｒの途中に設けられた間欠塗工装置２で、基材走行路Ｒを走行する基材Ｗの表面に基材走行方向に沿って塗工域Ｃと非塗工域Ｄを交互に形成するときに、塗工域Ｃの塗工始端部Ｃａ又は塗工終端部Ｃｂに形成される盛り上がり部Ｑが生じる場合に、盛り上がり部Ｑが通過する基材走行路Ｒの所定箇所Ｒａに向かってガスをＧを噴出させるガス噴出用スリット１３を備えたガス噴出装置７と、ガス噴出用スリット１３から噴出させるガスＧをガス噴出装置７へ設定時間だけ供給するガス供給装置８を備えたこと。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上にレジストを精度良く形成することができるレジスト塗布装置を得る。
【解決手段】チャック１は、ウェハ２を保持して回転する。ノズル３は、ウェハ２上にレジスト液を供給する。チャック１をコーターカップ４が覆っている。チャック１の上方においてコーターカップ４に吸気孔５が設けられている。コーターカップ４に排気孔６が設けられている。吸気孔５に筒状治具１３が取り付けられている。筒状治具１３の空洞内に風速計１４が配置されている。筒状治具１３の中心軸は、チャック１の回転中心と一致する。 （もっと読む）

【課題】長時間塗布してもエアナイフヘッド先端、及びその上流側へ設けた平板状部材への塗布液ミストの付着を防止し、均一な塗布面を得ることのできるエアナイフ塗布装置を提供する。
【解決手段】バッフル板と平板状部材間の距離ａ、平板状部材とエアナイフヘッド間の距離ｂ、バッフル板とバックアップロール間の距離ｃ、及びバックアップロールに接する前のウェブとミスト除去ボックス間の距離ｄ、が下記式１、２を同時に満たす関係にあるエアナイフ塗布装置。
式１）（ａ＋ｂ）＞ｃ≧ｄ ただし、ａ＞ｂである
式２）（ａ＋ｂ）／（ａ＋ｂ＋ｄ）＜０．７ （もっと読む）

【課題】シート材に液状剤を塗布した際、シート材上に発生する泡を確実に取り除くことが可能な塗工装置、及び塗工方法を提供する。
【解決手段】搬送中のフィルムＦに液状材を塗布する塗工装置であって、フィルムＦの搬送方向と垂直な幅方向に沿って形成された吐出口２１を有するダイヘッド２と、このダイヘッド２を挟んで搬送方向の下流側に配置され、フィルムＦに空気を吹き付ける空気供給具と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物上に形成された塗布膜の膜厚の均一性の低下を抑制できる成膜装置、成膜方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、塗布対象物を載せるステージと、塗布対象物の表面の法線方向を回転軸としてステージを回転する回転機構と、塗布対象物の表面に塗布材料を供給する塗布ノズルと、ステージ上における塗布ノズルの位置を塗布対象物の表面に沿って移動させる塗布移動機構と、回転機構と塗布移動機構を制御して、ステージを回転させると共にステージの回転中心部と外縁部間で塗布ノズルの位置を移動させながら、塗布ノズルを制御して塗布対象物の表面に塗布材料を塗布させる制御部と、塗布対象物上に塗布材料を塗布して形成された塗布膜の表面に照射する音波を発生する音波発生装置とを備え、音波を塗布膜の表面に照射する。 （もっと読む）

【課題】建築板を搬送しながら、該建築板の表面全体に塗料を塗り残しなく十分に塗布する塗装装置を提供する。
【解決手段】建築板Ａの表面を上側にして搬送しながら、表面に塗料Ｂを塗布する塗布装置Ｃ３と、表面に塗布された余剰分の塗料を除去し、建築板の表面の塗料の量を４０〜２００ｇ／ｍ^２とするとともに塗料液膜を形成する除去装置と、建築板の表面の塗料液膜に空気を吹き付けて、塗料液膜を加圧する加圧装置とを有し、加圧装置は、建築板の横幅よりも広い横幅で、建築板の表面を覆う空気吹き出し口を備え、除去装置から加圧装置までの間、建築板の表面に大気圧以上の圧力がかかっている状態とする塗装装置。 （もっと読む）

【課題】複数の吐出口からの流動性材料の吐出により基板上に塗布された流動性材料の複数のラインの乾燥後の断面形状を均一化する。
【解決手段】塗布システムの塗布装置では、それぞれの吐出口から有機ＥＬ液を連続的に吐出する複数のノズルを主走査し、当該主走査毎に基板９を副走査することにより、基板９上に有機ＥＬ液の複数のラインが塗布されて有機ＥＬ材料が仮定着する。そして、ガス付与装置３において、基板９上に仮定着している有機ＥＬ材料に溶媒ガスを付与して流動性を増大させた上で均一に乾燥させることにより、塗布装置１における塗布の進行方向と複数のノズルの位置との関係により生じる塗布ムラ（すなわち、基板９上に仮定着した有機ＥＬ材料による複数の線状要素の断面形状の不均一）を解消し、複数の吐出口からの有機ＥＬ液の吐出により基板９上に塗布された有機ＥＬ液の複数のラインの乾燥後における断面形状を均一化することができる。 （もっと読む）

【課題】小さな設置面積で効率よくウェブを略均一に加熱、冷却できる加熱冷却装置を提供する。
【解決手段】本発明のウェブの加熱冷却装置１は、所定の速度で搬送されるウェブの搬送経路中でその上流側に加熱手段１ａと下流側に冷却手段１ｂとを相互に隣接させて備える。冷却手段１ｂは、ウェブＲＬの片面に向かって気体を吹き出す吹き出しノズル１７を有し、この吹き出しノズル１７は、前記ウェブの下流側方向またはウェブに対し直角方向からウェブに近接させ、その先端部をウェブの搬送方向下流側を指向するように曲げたものである。 （もっと読む）

【課題】浸漬塗布法によって基板上に薄膜を形成する薄膜製造において、基板の下縁部に溜まる塗布液のタレをエアにより完全に除去するとともに、基板上に均一な膜厚の薄膜を形成する薄膜製造における液切れ方法及びその方法を用いた薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】薄膜を浸漬塗布法によって製造する過程で塗布液中に浸漬した基板２３０を垂直に引き上げた時、基板に付着する塗布液のタレを取り除く薄膜製造における液切り方法及びその方法を用いた薄膜製造装置２００であって、引き上げ動作中にある基板の位置及び基板の材質に応じて、エアの強弱を調整して吹き付けると共に、基板の下縁部２３１を検出した際に、下縁部に他の部分と比較して強いエアの吹きつけを行うことによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、基板上の各画素領域の全域に機能液を確実に濡れ拡がらせることができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】バンク部５０７ｂにより画成した基板Ｗ上の多数の画素領域５０７ａに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる描画手段と、機能液の吐出に伴って相対的に移動する機能液滴吐出ヘッド１７に後行して基板Ｗに臨み、基板Ｗ上にガスを吹き付けて各画素領域５０７に着弾した機能液の液面を挙動させるガス吹出し口８１と、ガス吹出し口８１に連なるガス送出手段とを備えた。 （もっと読む）

【課題】化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした塗布膜の成膜方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸を有する被処理基板である半導体ウエハＷに対して塗布液を供給し、ウエハの表面に塗布膜を成膜する成膜方法において、塗布液の塗布膜が形成されたウエハを、処理室６内の溶剤ガス雰囲気下においた状態で、溶剤ガス供給ノズル１０から溶剤ガスをウエハの表面に向かって噴射すると共に、ウエハと溶剤ガス供給ノズルを相対的に平行移動させて、塗布液の塗布膜を平坦化する。 （もっと読む）

本発明は、移動面に塗布される液状又はペースト状媒体の調量及び／又は均しを行うための装置（１）に関する。該移動面（２）は、媒体の直接的な塗布では、紙、厚紙、又はその他の繊維状ウェブであり、前記媒体の間接的な塗布では、繊維性材料ウェブの表面に媒体を転写する転写要素（特にアプリケータロール）の表面である。本装置は、ドクターブレード要素（４）及び加圧要素（５）を保持するための保持体（３）を備える。保持体（３）は移動面（２）に対して配置され、圧力要素（５）は、塗布された媒体の調量及び／又は均しを行うためにドクターブレード要素（４）の頭部（４．１）を移動面（２）に押し付ける。本装置は管状クランプ（７）を備える。この管状クランプ（７）は、加圧されることでストローク長（ｗ）を移動することが可能であり、加圧されると、ドクターブレード要素（４）のベース部（４．２）を保持体（３）のサポートブロック（８）に押し付けてその要素を固定し、減圧されると、前記ドクターブレード要素（４）を解放する。本発明によれば、本装置は保持ブロック（９）を更に備え、該保持ブロック（９）は管状クランプ（７）を保持し、サポートブロック（８）と平行に延在し、保持体（３）内に脱着可能に保持される。保持ブロック（９）は、少なくとも１つの突起部（１２）を有し、この突起部（１２）は、サポートブロック（８）と対向し、管状クランプ（７）の最小のストローク長（ｗ）より距離（ａ）だけ突き出していて、サポートブロック（８）との間にギャップ（ｓ）を維持している。

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反応を助長する流体フローに関連して、作業対象の表面または表面下での反応に関するシステムおよび方法を開示する。いくつかの実施形態では、反応の助長は、（１）表面を所定タイプの光に露光させている間に、表面上に不活性流体の流体フローを形成するステップ、（２）作業表面または作業表面下で所定の態様で別の種と反応する反応種を含む流体フローを形成するステップ、または（３）例えば所定タイプの光に露光させている間に、所定の態様で反応の触媒作用を行う触媒種を含む流体フローを形成するステップ、のうちの少なくともいずれかによって行われる。いくつかの実施形態では、光源は、複数の固体光源の密なアレイ等の固体光源を含むものを使用する。このような実施形態のうちの少なくとも１つの実施形態では、反応は光源に関連した光化学反応である。 （もっと読む）