【課題】塗布膜に乾燥ムラを生じさせずに基板を加熱しながら搬送することができる浮上搬送加熱装置を提供する。
【解決手段】基板を超音波振動浮上させる振動板部２と、前記振動板部を加熱するヒータ部３と、前記振動板部に超音波振動を与える超音波発生部４と、基板の端部を支持して基板の浮上方向と垂直な方向に基板を搬送する搬送部５と、を備える浮上搬送加熱装置であって、ヒータ部３は、振動板部２の基板を浮上させる面の裏面側に振動板部２と所定間隔を設けて配置され、基板の搬送方向と直交する方向の振動板部２の寸法は同方向の基板Ｗの寸法よりも大きく、ヒータ部３により振動板部２が加熱されることにより、浮上搬送中の基板Ｗ全面が振動板部２によって加熱される。 （もっと読む）

【課題】分解可能な浮上ステージの再組み立て作業における高さ調整を簡便で短時間に行えるようにすること。
【解決手段】このレジスト塗布装置の浮上ステージ１０において、出口側のステージブロックＳＢ_aは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Aの上に多数の支柱１８およびアジャスタ２０を介して取り付けられている。中間の３つのステージブロックＳＢ_b，ＳＢ_c，ＳＢ_dは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Bの上に多数の支柱２２，２４，２６およびアジャスタ２８，３０，３２を介してそれぞれ取り付けられている。出口側のステージブロックＳＢ_eは、独立して輸送可能な架台ＦＬ_Cの上に多数の支柱３４およびアジャスタ３６を介して取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】半導体基板処理動作中に流体を分配する装置。
【解決手段】当該装置は、複数の流体源に結合された複数の分配ノズルを備える中央流体分配バンクと、中央流体分配バンクの第１の側に位置された第１の処理チャンバとを含む。また、当該装置は、中央流体分配バンクの第２の側に位置された第２の処理チャンバと、中央流体分配バンクと第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間で並進するようになっている分配アームとを含む。さらに、当該装置は、第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間に位置された分配アームアクセスシャッタを含む。 （もっと読む）

【課題】品質の保たれた薬剤を含む薬液を塗布することが可能な技術を提供する。
【解決手段】薬液塗布システム１Ａは、薬剤を含む薬液ＭＳを貯留する薬液容器３１と、薬液容器３１に貯留された薬液ＭＳを冷却する冷却手段３４と、塗布対象となる基材シート９０に薬液を液滴として吐出する塗布ユニット１０と、塗布ユニット１０に設けられ、吐出前の薬液を温調する温調部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】連続塗装設備におけるストリップの振動に起因する塗布ムラを効果的に防止することができる連続塗装設備を提供すると共に、その有利な運転方法を提案する。
【解決手段】走行する鋼帯１表面に塗布液を連続的に塗布する塗装装置２と、塗装後の鋼帯を乾燥および／または焼付処理するカテナリ型乾燥・焼付装置４と、乾燥・焼付後の鋼帯を冷却する、後段冷却での排気ブロアと前段冷却での給気ブロアを兼用している多段冷却ユニットにて構成されるカテナリ型冷却装置５とを有する連続塗装設備において、冷却装置の上流側の１以上の冷却ユニットに、給気ブロアから供給されるガスの一部を排気ブロアへ直送するバイパスする、あるいは給気ブロアから供給されるガスの長手方向および／または幅方向の流量分布を制御する給気ガス制御手段を設けたことを特徴とする連続塗装設備。 （もっと読む）

【課題】ワーク搬送経路２に沿って当該ワーク搬送経路２脇に複数の作業ブース１９〜２３が設けられ、搬送用走行体１には、各作業ブース１９〜２３との間でワークＷを移載するワーク移載手段１０が設けられた作業設備において、各作業ブースに搬入されるワークＷの位置を最適にしながら、設備全体のコストダウンを図る。
【解決手段】各作業ブース１９〜２３には、ワーク搬送経路２からの距離が作業ブース(19,20)(21)(22,23)によって異なるように設定された作業位置Ｙ１〜Ｙ４でワークＷを支持するワーク支持手段２８，３４，３７が配設され、搬送用走行体１のワーク移載手段１０で作業ブース１９〜２３に搬入されるワークが当該作業ブース１９〜２３に設定された作業位置Ｙ１〜Ｙ３でワーク支持手段２８，３４，３７により支持される。 （もっと読む）

【課題】携帯性に優れた液体噴射装置を提供する。
【解決手段】インクジェット式プリンタ１２は、本体ケース１５内に、インクを貯留するサブインクタンク２７と、該インクを噴射する記録ヘッド２５とを備える。サブインクタンク２７には、本体ケース１５外から該サブインクタンク２７に対してインクを供給する機能を有するインク供給装置１３におけるインク供給用接続部材５５を着脱自在に接続するためのインク供給側接続部２８が設けられている。そして、インクジェット式プリンタ１２は、インク供給側接続部２８にインク供給用接続部材５５が接続された状態及び非接続とされた状態の双方の状態において、サブインクタンク２７が貯留しているインクを記録ヘッド２５のノズル２６から記録用紙２０に対して噴射可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】実用性のある粉体接着剤の製造方法を確立したうえで、その粉体接着剤を圧着はがき等の用紙に能率よく塗布する粉体接着剤塗布装置を提供する。
【解決手段】用紙搬送装置８６は、はがき用紙９４を静電気により吸着して搬送するとともに、はがき用紙９４の搬送ベルト面から外部にはみ出す部分を垂れ下がらないように下支えする搬送協働部材を備えている。接着剤塗布部８７−１は、はがき用紙９４の搬送幅方向に三等分された部分の一方の端部側部分（図では左方端部側部分）の表面に粉体接着剤９５を塗布する。接着剤塗布部８７−２は、はがき用紙９４の搬送幅方向に三等分された部分の他方の端部側部分（図では右方端部側部分）の裏面に前記粉体接着剤を塗布する。定着器８８は、はがき用紙９４の表裏に塗布された粉体接着剤９５を塗布面に溶融定着する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置における露光処理時の基板の処理不良を低コストで防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、液浸露光用処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。インターフェースブロック１４に隣接するように露光装置１５が配置される。液浸露光用処理ブロック１３は、レジストカバー膜用塗布処理部２００およびレジストカバー膜除去処理部２５０を備える。露光処理前に、液浸露光用処理ブロック１３においてレジストカバー膜が形成される。露光処理後に、液浸露光用処理ブロック１３においてレジストカバー膜が除去される。 （もっと読む）

【課題】塗膜に紫外線を照射した際に、塗膜を効率よく確実に硬化することのできる塗膜硬化方法及び装置を提供する。
【解決手段】塗膜硬化装置１０は、基材１２の塗膜１４に不活性ガスを吹きつけながら超音波を当てる超音波処理装置２２と、塗膜１４に紫外線等の電離放射線を照射する照射装置２４とで構成される。 （もっと読む）

【課題】 カートリッジ等の容器から直接高粘度材料を供給することができる、小型、安価な高粘度材料にガスを混入させるガス混入供給装置を提供する。
【解決手段】 シリンダー２７内が吸込み状態となるようにピストン２５をシリンダー内で移動させる第１の吸入工程と、この工程においてシリンダー内の吸込み力を用いて、シリンダー内に高粘度材料を供給する工程と、第１の吸入工程後に、ピストンを停止させる工程と、高粘度材料の所定量導入後に、シリンダー内が再度吸込み状態となるようにピストンをシリンダー内で移動させる第２の吸入工程と、この工程において生じたシリンダー内の吸込み力を用いて、シリンダー内にガスを供給する工程と、ガス供給終了後に、ピストンをシリンダー内で移動させて、高粘度材料とガスを加圧する加圧工程と、この加圧工程後に、高粘度材料及びガスを管路に吐出する吐出工程とを備える。そして大気圧にして高粘度材料を発泡させる。 （もっと読む）

【課題】乾燥ムラを発生させることのなく基材をフローティングさせることができる乾燥装置を提供する。
【解決手段】超音波駆動信号を出力する超音波発生器と、超音波駆動信号を入力して超音波振動を起こす超音波振動子と、超音波振動を伝達し超音波を放射する表面を有するとともにその表面が乾燥対象の基材の表面と平行となるように配置された超音波浮揚板と、基材を超音波浮揚板の表面と平行方向に搬送する搬送手段と、基材を加温する加熱手段とを具備するようにした乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】 従来の塗膜等形成方法は、作業工程が多く生産性が悪かった。塗料の定着性も優れず、二種類のフィルムが積層されるため塗膜基板が厚くなり、コスト高でもあった。
【解決手段】 保護フィルムのうち基板と接着する面に塗料を塗布し、その保護フィルムを基板に貼付することによって、その塗料を基板に塗布（転写）する方法である。塗料が塗布された保護フィルムを加圧又は加熱加圧して基板に貼付することもできる。真空条件下や、真空貼付方式で保護フィルムを基板に貼付して、塗布時に基板のホールへも塗料を充填するのがよい。上記塗膜形成方法を実現する装置として、保護フィルムに塗料を塗布する塗布装置と、その保護フィルムを基板に貼る貼付装置とを設けた。貼付装置を加熱式或は非加熱式の加圧式としたり、真空ラミネート機とすることができる。 （もっと読む）

【課題】電気二重層キャパシタなどの両面塗布装置およびこれを用いた塗布方法であって、シートを取り外しすることなく逆走行させて両面塗布を行うことにより、両面、あるいは複数層間の塗布部と未塗布部の位置のズレが生じることなく塗布状態が均一に、かつ精度よく仕上げることを目的とする。
【解決手段】シートの走行方向順に第１の巻き出し／巻き取りロール１１と、第１のバックアップロール２１と、第１の塗布装置３１と、第１の乾燥機６１と、駆動ロール７０と、第２の乾燥機６２と、第２のバックアップロール２２と、第２の塗布装置３２と、第２の巻き出し／巻き取りロール１２が設けられた両面塗布装置であって、第１、２の巻き出し／巻き取りロール１１，１２と、第１、２のバックアップロール２１，２２、駆動ロール７０が両方向に回転することでシート８０を往復走行させる。 （もっと読む）

【課題】 塗装から乾燥までの所要時間を短縮することができる水性塗料の塗布乾燥方法及び装置を提供する。
【解決手段】 ディスクロータ１はローラコンベア２によって予熱用高周波誘導加熱コイル４まで搬送され、予熱用高周波誘導加熱コイル４で局部的に７０乃至１００℃に予熱される。予熱されたディスクローラ１は、後流の塗装ロボット５によって被塗装面が塗装される。塗装後のディスクローラ１は養生のためのセッティング工程を経て乾燥加熱用高周波誘導加熱コイル７まで搬送され、ここで加熱され、塗膜が乾燥する。塗膜が形成されたディスクローラ１は製品１５として回収される。 （もっと読む）

【課題】 薬液供給システムにおいて、薬液タンクからの薬液を負圧吸引して噴射するノズルを利用して薬液供給の微少流量制御を可能とする。
【解決手段】 内部に薬液５を収容して密閉可能とされた薬液タンク１０と、この薬液タンクに薬液供給パイプ７で接続され外部からの高圧気体の送気により上記薬液タンクから供給される薬液を負圧吸引して該薬液を噴射するノズル１１と、上記薬液タンクの上面に接続され内部空間Ｓの空気を吸引して負圧を発生させる空気吸引手段１２と、上記薬液タンク内に形成される負圧空間に対し任意圧力の正圧ガスを供給する正圧供給手段１３とを備え、上記正圧供給手段により薬液タンクに供給する正圧ガスの圧力を調整することによって上記ノズルへの薬液の供給流量を制御するものである。これにより、薬液タンクからの薬液を負圧吸引して噴射するノズルを利用して薬液供給を微少流量で制御できる。 （もっと読む）

【課題】 薬液供給システムにおいて、薬液タンクからの薬液を負圧吸引して噴射するノズルを利用して薬液供給の微少流量制御を可能とする。
【解決手段】 内部に薬液５を収容して密閉可能とされた薬液タンク１０と、この薬液タンク１０に薬液供給パイプ７で接続され外部からの高圧気体の送気により上記薬液タンク１０から供給される薬液５を負圧吸引して該薬液５を噴射するノズル１１と、上記薬液タンク１０内に形成される負圧空間Ｓに対し任意圧力の正圧ガスを供給する正圧供給手段１２とを備え、上記正圧供給手段１２により薬液タンク１０に供給する正圧ガスの流量を調整することによって上記ノズル１１への薬液５の供給流量を制御するものである。これにより、薬液タンク１０からの薬液５を負圧吸引して噴射するノズル１１を利用して薬液供給を微少流量で制御できる。 （もっと読む）