【課題】銅箔との接着性が向上し、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性ポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ジアミン成分として１２〜３０モル％のパラフェニレンジアミンおよび７０〜８８モル％の４，４’−ジアミノジフェニルエーテルを用い、酸成分として５０〜９９．５モル％のピロメリット酸二無水物および０．５〜５０モル％の３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いて形成されたポリイミドフィルムであって、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギーが８０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】熱に対する収縮性が改善されると同時に接着性が向上したポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、およびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムであって、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギーが８０ｍＮ／ｍ以上であり、２００℃、１時間での加熱収縮率が０．１０％以下であることを特徴とする低熱収縮・高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面の平坦性に優れながらも、フィルム同士の滑り性を良好とすることができる芳香族系ポリイミドフィルムを得る。高い熱伝導性を有し、強靭で平坦性に優れるグラファイトシートを得る。
【解決手段】フィラーを含まない芳香族系ポリイミドフィルムの表面を低温プラズマ処理することにより、平均表面粗さＲａを５ｎｍ以下とすると共に、静摩擦係数を２．０以下とする。このとき、フィルム表面における酸素原子数（Ｏ）と炭素原子数（Ｃ）との組成比Ｘ（Ｏ／Ｃ）を、理論値の１１５〜１９０％以下の範囲とする。その際、内部電極方式の低温プラズマ処理機により、処理強度を３０００〜５００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2 範囲で処理を行なう。上記芳香族系ポリイミドフィルムを積層し焼成処理を行なうことにより、任意の厚みのグラファイトシートを得る。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性共重合ポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、およびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムに、サンドマット処理を施した後、リラックス処理を施し、次いでプラズマ処理を施してなるポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下であり、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６５μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギ−が８０ｍＮ／ｍ以上である高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】熱に対する収縮性が改善されると同時に接着性が向上したポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムに放電処理を施し、次いでこのフィルムの長さ方向の張力を一定に保ちながら加熱処理を施してなるポリイミドフィルムであって、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギーが８０ｍＮ／ｍ以上であり、２００℃１時間での加熱収縮率が０．１０％以下であることを特徴とするポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】基材表面の均一且つ持続性に優れた改質を簡易に行える基材表面改質方法を提供する。
【解決手段】（１）プラズマ処理、コロナ放電処理、ＵＶ処理、及び電子線処理から選択された物理的方法により処理された基材表面に、重合性不飽和二重結合を側鎖に有する高分子化合物を接触させる工程と、（２）基材に露光を行い、露光により基材表面に発生したラジカルを起点として、重合性不飽和二重結合を側鎖に有する高分子化合物をグラフト重合して、基材に直接結合したグラフトポリマーを生成させる工程と、を有することを特徴とする基材表面改質方法。 （もっと読む）

【課題】基材フィルムと剥離層との密着性に優れ、大気環境に影響されない安定した帯電防止性能を有し、かつ表面平滑性に優れる剥離フィルムを提供する。
【解決手段】プラズマイオン注入法により、表面部にイオン注入層が形成された基材フィルムと、該基材フィルムのイオン注入層上に形成された剥離層とを有することを特徴とする剥離フィルム。剥離層は、シリコーン樹脂、アルキド系樹脂、オレフィン系樹脂、ゴム系樹脂及びアクリル系樹脂の中から選ばれるのが好ましい。又剥離層の表面固有抵抗値は、１×１０^１３Ω／□以下とする。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性ポリイミドフィルムおよびその製造法を提供する。
【解決手段】パラフェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下であり、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６０μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギ−が７５ｍＮ／ｍ以上である高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】高接着性ポリイミドフィルム、特に銅箔との接着性が向上し、寸法安定性、水濡れ性にも優れたポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】パラフェニレンジアミン（ＰＰＤ）、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（ＯＤＡ）、ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）および３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）から形成されたポリイミドフィルムにリラックス処理を施し、さらにサンドマット処理とプラズマ処理を行ったことを特徴とする高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】銅箔との接着性が向上し、寸法安定性、水濡れ性にも優れた高接着性ポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】３，４‘−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテルおよびピロメリット酸二無水物から形成されたポリイミドフィルムであって、２００℃加熱収縮率がフィルムの機械搬送方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）で共に０．０５％以下であり、フィルム表面の、触針式表面粗さ計で測定した表面粗さＲａが０．０６０μｍ以上、Rmaxが１．０μｍ以上、接触角法に基づき測定した表面自由エネルギ−が７５ｍＮ／ｍ以上である高接着性ポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】筒型基材のプラズマ表面処理において、より均質性に優れたプラズマ処理を可能とする装置および表面処理筒型基材の製造方法を提供する。
【解決手段】同軸上に配置された筒型基材３の外側の電極１と、該外側の電極１と筒型基材３を介して対向するように配置された内側の電極２とを有する同軸型のプラズマ表面処理装置において、プラズマ表面処理側の電極に、軸方向にガスが流動できる溝を設ける。 （もっと読む）

シリコーンエラストマー等のエラストマー材料の表面にミクロ構造を導入する単純な方法を記載する。パターンは、シリコーンエラストマー膜上に保護ポリマーの微細液滴を形成し、ポリマーを硬化させ、その後、被覆されていない材料を化学エッチングによって除去することによって形成される。細胞接着性の研究結果から、処理された材料は、未処理の対照に比べて有意に改良された生体適合性を有することが示される。
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【課題】審美性が要求される義歯等に用いられる抗菌性合成樹脂、その他身の回りに使用される多くの製品の合成樹脂部分に好適に用いることができる合成樹脂の抗菌処理方法、抗菌性合成樹脂及びその製造方法、製造装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る合成樹脂の抗菌方法は、所定の合成樹脂をオクタデシルジメチル（３−トリメトキシシリルプロピル）アンモニウムクロライドの水溶液中に浸漬処理し、または、まず所定の合成樹脂の表面をプラズマ処理し、継いで該プラズマ処理された合成樹脂をオクタデシルジメチル（３−トリメトキシシリルプロピル）アンモニウムクロライド水溶液中に浸漬処理することによって行う。 （もっと読む）

多層包装フィルムまたはシートが開示されている。フィルムは、オレフィンコポリマー、ブレンドまたはそれらの組み合わせを含むか、またはそれらから製造された少なくとも１つの層を含み、ここで、前記ブレンドはオレフィンコポリマー、およびポリアミド、バリア樹脂、ポリオレフィン、ビニルエステルコポリマー、カルボン酸エステルコポリマーまたはそれらの２種以上の組み合わせを含み、オレフィンコポリマーはマグネシウムで中和されたイオノマーであり、α−オレフィンと１種以上のα−，β−エチレン系不飽和カルボン酸を含むコモノマーとから誘導された反復単位を含む。包装フィルムまたはシートおよび包装食品を含むか、またはそれらから製造された造形物品が更に開示されている。 （もっと読む）

【課題】耐久性の優れた撥水、撥油性樹脂基体を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に加水分解可能な樹脂層を有する樹脂基板表面にシロキサン結合を有する膜を設けた樹脂基体としたもので、この構成によると、加水分解可能な樹脂層とシロキサン結合を有する膜が強固に結合し、また、加水分解可能な樹脂層と樹脂基板は熱膨張の差が小さいため密着力に優れるため、耐久性の優れたシロキサン結合を有する膜が設けられた基体を提供できる。 （もっと読む）

被覆された物体は、耐水性被覆を含む1またはそれ以上の被覆層を具備し得る。方法は、火炎処理、コロナ処理、イオン化空気処理、プラズマ空気処理およびプラズマアーク処理およびディップ、スプレーまたはフロー被覆から選択される1またはそれ以上の方法により物体基材を処理することによりそのような被覆層を塗布することを具備する。さらに、方法は第１の基材材料を成形して物体を形成し、火炎処理、コロナ処理、イオン化空気処理、プラズマ空気処理およびプラズマアーク処理から選ばれる１またはそれ以上の方法により物体表面を処理し、1またはそれ以上のバリア材料で物体基材をオーバーモールドする注入を含む。
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自家蛍光がより少なく、特異性がより良好なプラスチック基質の製造方法が提供される。上記方法は、（ａ）５０μｍ×５０μｍ以下の条件下で、Ｒ_ａ３ｎｍ未満またはＲ_ｑ４ｎｍ未満の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）表面粗さを有するプラスチック基質を調製する工程；（ｂ）前記プラスチック基質をプラズマで処理する工程；および（ｃ）前記プラスチック基質を表面修飾モノマーで処理する工程を含む。また、上記方法により製造されるプラスチック基質も提供される。上記プラスチック基質は、自家蛍光が顕著に低く、よって標的生体分子の検出に対するよりよい特異性を示す。このことにより、微小流体構造を含ませる設計がガラス基質に比して容易でありながら、高い自家蛍光のために、マイクロアレイ、バイオチップまたはウェルプレートへの利用が限られていたプラスチック基質を、広範に適用することが可能となる。更に、上記プラスチック基質の製造方法は、プラスチック基質の表面特異性を向上することができ、またプラスチック基質の表面特性を容易に調節することができる。 （もっと読む）

バッチの加工システムにおいて誘電体のフィルムを処理するための方法及びシステムは、Ｃ_ｘＨ_ｙを含有する化合物を含む処理化合物へ誘電体のフィルムの少なくとも一つの表面を露出させることを含むが、ここで、ｘ及びｙが、単位元以上の整数を表す。処理化合物が導入されるとき、複数のウェハが、加熱される。誘電体のフィルムは、乾燥の食刻の加工の後に続くそれに形成された食刻の特徴を有する孔の有る又は無い低い比誘電率のフィルムを含むことができる。
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本発明は、複合材料製構造体の所定の場所を表面処理する方法に関し、それを他の構造体と接合するために、放出ノズルを装備するプラズマ発生器により発生した少なくとも１個の常圧プラズマ・ビームを照射する。本発明によれば、ａ）ノズルから放出された同プラズマ・ビームは０．２〜１０ｃｍの距離から複合材料構造体に照射され、そしてｂ）同プラズマ・ビームは７５〜１０５°の入射角で複合材料構造体に照射される。本発明は、炭素繊維あるいはガラス繊維とエポキシ樹脂あるいはビスマレイミド樹脂を含有する構造体に対して特に適している。本発明に関連する他の操作変数は同プラズマ・ビームの電力と処理速度を包含する。
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【課題】可撓性基板に十分にぬれ性の異なる領域を適切に形成することができる基板製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、表面にぬれ性差異を有する可撓性基板に関する。当該ぬれ性差異は、異なる親水性及び／或は親油性を呈する隣接領域によって構成されている。また、本発明は、このような基板の製造方法、及びこのような基板に電気機能材料が堆積されたマイクロ電子部品の製造方法に関する。
本発明によれば、ぬれ性差異を有する可撓性基板の製造方法を提供する。当該製造方法は、基板を形成するため無機材料からなる第一の領域を基板前駆物質上に形成する工程を有し、前記無機材料は少なくともその一部が基板表面上で露出し、前記第一の領域は前記基板前駆物質上でパターンを形成していることを特徴とする。 （もっと読む）