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Fターム[4F100AA33]の内容

積層体 (596,679) | 無機化合物、単体 (25,333) | 無機化合物 (23,340) | 無機金属化合物 (21,275) | 複酸化物、金属酸塩 (985)

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【課題】良好な厚さを有して光透過率及び導電性が共に優れた透明導電膜を、液相法にて容易に製造することのできる透明導電膜の製造法の提供。
【解決手段】基板10の表面にITOのナノ粒子を含むInSn粒子分散液11を塗布し(A)、乾燥させることによって前記ITOナノ粒子を含むInSn粒子塗膜13を形成する(B)。更に、In及びSnを含む錯体が溶解したInSn錯体溶液21を塗布し(C)、乾燥させることによってInSn錯体塗膜23をInSn粒子塗膜13の上に形成する(D)。これを酸素濃度0.01〜10%の低酸素雰囲気で焼成し、続いて、還元雰囲気でアニールすると、ITOからなり光透過率及び導電性が共に優れた透明導電膜30が、基板10上に形成される(E)。 (もっと読む)


【課題】 高パワーでの導電層成膜でも熱ジワが発生しない静電センサ用片面導電膜付フィルムを得ることができる、静電センサ用片面導電膜付フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の静電センサ用片面導電層付フィルムの製造方法は、透光性を有する基材フィルムと熱ジワ防止フィルムとを接着剤を介してラミネートして、前記基材フィルムの片面に前記熱ジワ防止フィルムが仮接着された積層体を得る工程と、前記積層体の前記基材フィルム側の表面に物理蒸着法によって透光性を有する導電膜を積層する工程と、前記透光性を有する導電膜上に物理蒸着法によって遮光性を有する導電膜を積層する工程と、前記透光性を有する導電膜および前記遮光性を有する導電膜の設けられた前記積層体から前記熱ジワ防止フィルムを剥離する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基材の種類に関わらず、良好な電気特性及び光学特性を有する透明導電性シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基材の一主面上に、透明導電性粒子とバインダ樹脂と溶媒とを含むコーティング組成物を塗布して透明導電膜を形成する第1の工程と、上記透明導電膜を、温度10〜50℃でかつ相対湿度60%以下の環境下で乾燥させることにより、上記透明導電膜中の溶媒量を減少させる第2の工程とを含み、上記コーティング組成物中の固形分濃度は、80%以下であり、上記第2の工程後の上記透明導電膜の乾燥膜厚をa(μm)とし、上記第2の工程後の上記透明導電膜中の溶媒量をb(mg/m2)としたとき、b/a[mg/(m2・μm)]が10以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機無機複合多孔性フィルム及びこれを用いる電気化学素子の提供。
【解決手段】(a)気孔を有する多孔性基材及び(b)前記基材の表面または基材中の気孔部の一部が無機物粒子及びバインダ一高分子の混合物により塗布された活性層を含む有機無機複合多孔性フィルムであって、前記活性層は、バインダ一高分子により無機物粒子同士が結び付き、無機物粒子同士間におけるインタースティシャル・ボリューム(interstitial volume)により気孔構造が形成された有機無機複合多孔性フィルム及びその製造方法、並びにこの有機無機複合多孔性フィルムを含む電気化学素子。有機無機複合多孔性フィルムを備える電気化学素子は、安全性及び性能アップを同時に図ることができる。 (もっと読む)


【課題】ポリエチレンテレフタレートフィルムを保護層とした赤外線反射フィルムでは、十分な断熱性が得られないおそれがある。赤外線反射層、赤外線吸収層、中間膜、ガラス板を備えた断熱合わせガラスは、構成が複雑である。単純な構成で、十分な断熱性をもつ赤外線反射フィルムを提供する。
【解決手段】赤外線反射フィルム10は、赤外線反射層11と、透明フィルム12と、接着層13を備える。赤外線反射層11は2つの主面をもつ。透明フィルム12は、ポリシクロオレフィン層から形成され、赤外線反射層11の1つの主面を支持する。接着層13は赤外線反射層11の他の主面に形成される。 (もっと読む)


【課題】透明導電膜で構成された電極領域の視認性を極限まで低下させることが可能な透明電極素子を提供する。
【解決手段】基材11と、基材11上に設けられた透明導電膜13と、透明導電膜13を用いて構成された電極領域15と、電極領域15に隣接した領域であってランダムな方向に延設された溝パターン17aによって透明導電膜13が独立した島状に分割されている絶縁領域17とを有する透明電極素子1である。 (もっと読む)


【課題】バリア性が高く、フレキシブルで、電極や電解液を外部環境から保護し、発電効率を長期維持できる、バリア性電極シート及び色素増感太陽電池を提供する。
【解決手段】透明樹脂基材の少なくとも一方の面にバリア性薄膜層、耐溶剤性薄膜層、導電性薄膜層が積層され、前記バリア性薄膜層が無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物のいずれか、または混合物から選択される少なくとも1層以上の積層体であり、前記耐溶剤性薄膜層が無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物、高分子樹脂薄膜のいずれか、または混合物から選択される少なくとも1層以上の積層体である。 (もっと読む)


【課題】優れた視認性を有する透明導電性素子を提供する。
【解決手段】透明導電性素子は、第1の表面および第2の表面を有する基材と、第1の表面および第2の表面の少なくとも一方に形成された透明電極パターン部および透明絶縁パターン部とを備える。透明電極パターン部と透明絶縁パターン部とが、基材表面に交互に敷き詰められる。透明電極パターン部には、複数の孔部が離間してランダムに形成され、透明絶縁パターン部には、複数の島部が離間してランダムに形成されている。 (もっと読む)


【課題】干渉縞を抑制するために付与される導電性積層部材の形状由来の筋状の線が画面上に認められず、ぎらつきが少なく、視認性の高い導電性積層部材、およびタッチパネルを提供。
【解決手段】透明樹脂からなる部材(I)に透明導電性層(III)が積層されてなる導電性積層フィルムであって、前記部材(I)を挟んで、透明電極層(III)側の表面は複数の凸部を有しており、下記条件1もしくは2のとき、R/Pが、0.1〜50であることを特徴とする導電性積層フィルムである。1:任意に選ばれた凸部(1)の頂点を通る断面の内、その両端に存在する凹部の頂点間が最小の距離をP(μm)とし、そのときの凸部(1)の断面の曲率半径をR(μm)としたとき。2:任意に選ばれた隣接した凸部(2−1)と凸部(2−2)を結ぶ断面の凹部の曲率半径をR(μm)とし、前記凸部(2−1)の頂点と前記凸部(2−1)の頂点をP(μm)としたとき。 (もっと読む)


【課題】軽量で割れ難く、かつ紫外線照射しても黄色く変色し難い下部電極基板用樹脂板、下部電極板およびタッチパネルを提供することである。
【解決手段】タッチパネルの下部電極基板に使用される樹脂板であって、ポリカーボネート系樹脂と紫外線吸収剤とを含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる層を備える下部電極基板用樹脂板である。層(A)と、この層(A)の両面に積層されている層(B)と、を備え、前記層(A)が、アクリル樹脂またはメタクリル酸メチル−スチレン共重合体樹脂からなり、前記層(B)が、前記ポリカーボネート樹脂組成物からなる層であるのが好ましい。また、この下部電極基板用樹脂板の一方の面に透明電極膜が形成されてなる下部電極板、およびこれを用いたタッチパネルを提供する。 (もっと読む)


【課題】軽量で割れ難く、かつ高湿度下での反りやうねりの発生が抑制された耐環境特性に優れる下部電極基板用樹脂板、下部電極板およびタッチパネルを提供することである。
【解決手段】タッチパネルの下部電極基板に使用される樹脂板であって、ポリスチレン系樹脂からなる層(A)の両面のそれぞれに、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体樹脂からなる層(B)と、ポリカーボネート系樹脂からなる層(C)とが、この順に積層されている5層構造からなる下部電極基板用樹脂板である。また、この下部電極基板用樹脂板の一方の面に透明電極膜が形成されてなる下部電極板、およびこれを用いたタッチパネルを提供する。 (もっと読む)


【課題】液体中に含有させることで酸素を発生し、そのままでは容器が膨らみ、破裂の恐れもある容器の中から酸素を速やかに除去し、液中へ溶出する成分量が低い事を特徴とする酸素吸収性組成物を用いた酸素吸収性包装容器、またその酸素吸収方法を提供する。
【解決手段】酸素吸収性樹脂組成物からなるフィルムDまたはシートであり、そのフィルムDまたはシートの一部または全面が液体Cに接触する態様で配置されており、容器E内の液体Cの液相溶存酸素及び、容器E内の気相酸素を吸収する。 (もっと読む)


【課題】近赤外線吸収性粘着層中の有機色素に対し十分な耐光性を有する光学用フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の光学用フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に(A)紫外線吸収性ハードコート層が形成され、紫外線吸収性ハードコート層が形成された側とは反対の他方面に、(B)近赤外線吸収性粘着層が形成されている。(A)紫外線吸収性ハードコート層は、(A1)紫外線硬化型樹脂、(A2)特定構造の紫外線吸収剤、及び(A3)光重合開始剤を含む紫外線吸収性ハードコート層塗布液を紫外線硬化させた層であり、その厚みが0.5〜10μmである。(B)近赤外線吸収性粘着層は、(B1)変性(メタ)アクリル系重合体、(B2)重合性不飽和基を有するカルボン酸、(B3)特定構造のジイモニウム塩化合物、(B4)光重合開始剤、及び(B5)シラン化合物、(B6)ネオンカット色素を含む。 (もっと読む)


【課題】同一の材料を使用して透明導電膜の積層を行い、可撓性、高透過率を有した透明導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面に、非晶性の第一透明導電膜と、結晶性の第二透明導電膜を積層してなる透明導電性積層体であって、前記第一透明導電膜と前記第二透明導電膜が同一組成のスパッタリングターゲットを使用して形成され、かつ、前記第一透明導電膜が成膜時の水分圧を5.0×10-4Pa以上として形成され、前記第二透明導電膜が成膜時の水分圧を5.0×10-4Pa未満として形成されることを特徴とする透明導電性積層体である。 (もっと読む)


【課題】耐指紋性の機能と導電性の機能とを単層の膜で付与することのできる、耐指紋性を有する導電性光硬化性組成物及び耐指紋性を有する導電性フィルム及び表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の耐指紋性を有する導電性光硬化性組成物は、多官能(メタ)アクリレートと、光重合性多官能化合物と、光重合開始剤と、導電性微粒子とを含有しており、多官能(メタ)アクリレートは、両末端に少なくとも1つの(メタ)アクリレート基を有するポリエーテル骨格含有ウレタン(メタ)アクリレートであることが好ましく、導電性微粒子の一次粒子径は3nm以上かつ50nm以下であることが好ましく、導電性微粒子は、スズ、アンチモン、インジウム、亜鉛の群から選択される1種または2種以上の元素を含む金属酸化物が好ましい。 (もっと読む)


【課題】有機物である光吸収剤を含みながらも、機械的強度に優れたシリカ系膜を提供する。
【解決手段】透明基体1と、前記透明基体の表面に形成された有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜2とを含む透明物品であって、前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とし、前記有機無機複合膜の表面に対して実施するJIS R 3212に規定されたテーバー摩耗試験の後に、前記有機無機複合膜が前記透明基体から剥離せず、前記有機物の少なくとも一部が紫外線吸収剤である、透明物品。 (もっと読む)


【課題】液相法による種々のセラミック膜を低耐熱性基材上に形成する方法を提供する。
【解決手段】支持体上にポリイミド膜を形成する工程と、
その上に金属アルコキシドや金属塩化物塩などの金属塩の溶液を塗布した後、500℃以上に加熱することにより、前記ポリイミド膜上にITOやチタニアなどのセラミック膜を形成する工程と、
前記セラミック膜をプラスチック等の低耐熱性の基材上に転写する工程と
を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】視認性の高い導電性積層部材、およびタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明樹脂からなる部材(I)に透明導電層(III)が積層されてなる導電性積層フィルムであって、透明導電層(III)側の表面部が複数の凸部を有しており、透明導電層側の表面部に凸部を有し、任意の前記凸部において、平面(α)からの距離が最大となる凸部である点を点Aとし、点Aを通り、平面(α)に対して垂直である断面において、点Aを基準にして、左右に最初に表れる、平面(α)からの距離が最小となる点である点をそれぞれ点B,点Cとし、平面(α)から点A、点B、点Cまでの距離をそれぞれHa(μm)、Hb(μm)、Hc(μm)とし、さらに、点Bと点Cから平面(α)に下ろした垂線間の距離をP(μm)としたときに、Ha〜HcとPが特定の関係式を満足する。 (もっと読む)


【課題】窒化ケイ素をベースとし、改善された機械的抵抗性を有する少なくとも1つの層を含む多層系を含んでなる、特にグレージング用の基板を提供する。
【解決手段】ケイ素またはアルミニウムまたはこの2つの混合物の[窒化物、炭窒化物、酸窒化物または酸炭窒化物]をベースとする少なくとも1つの層を、ガラスからできているタイプの透明基板上に配設した被覆層と共に含む被膜を含んでなる透明基板である。この被覆層は酸化物ベースの機械的保護層であり、この酸化物が場合によっては化学量論以下または化学量論以上の酸素含量を有し、および/または場合によっては窒化物であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明導電膜を保護し、さらに透明導電膜の保護だけでなく、透明導電膜を保護することで新たに発生した不具合も防止する。
【解決手段】電子部品素子1では、基板2と、この基板2上に形成されたITO膜3と、このITO膜3上に形成され前記ITO膜3の表面を保護する保護膜4とが設けられている。保護膜4は、少なくとも、SiOx膜41と、Nを含むSi化合物からなるSiN膜12とからなり、ITO膜3上にSiN膜42、SiOx膜41の順に積層形成されて構成される。 (もっと読む)


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