【課題】耐指紋性に優れたハードコート転写面を形成することができ、ハードコート層の厚みが均一であり、更に、剥離シートの転写層からの剥離力が低く安定している転写シートを提供すること。
【解決手段】剥離シート、及び該剥離シートの面上に設けられた転写層を有する転写シートであって、該転写層が、分子量３００〜５００のシランカップリング剤を含有するハードコート層を有する転写シート。 （もっと読む）

【課題】 温度が６０℃で湿度が９０％（ＲＨ）という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第１の耐候性コート層、蒸着層、及び、第２の耐候性コート層を、この順に設けた第１のガスバリア性フィルム積層体と、該第１のガスバリア性フィルム積層体と同一の構成を有する第２のガスバリア性フィルム積層体とを、それぞれの第２の耐候性コート層がフッ素樹脂系接着剤を介して対向するように積層したことを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】溶融Ｚｎ−Ａｌ−Ｍｇ合金めっき鋼板を基材とし、かつ有機樹脂を含む化成処理皮膜を有する化成処理めっき鋼板であって、耐候性、耐水性、耐黒変性、皮膜密着性および防眩性のすべてに優れる化成処理めっき鋼板を提供すること。
【解決手段】溶融Ｚｎ−Ａｌ−Ｍｇ合金めっき鋼板の表面にリン酸塩処理液を塗布してリン酸塩皮膜を形成し、その上に化成処理液を塗布して化成処理皮膜を形成する。化成処理液は、反応性官能基０.０５〜５質量％とＦ原子７〜２０質量％とを含有し、数平均分子量が１０００〜８万の範囲内であるフッ素含有樹脂と、前記反応性官能基と反応しうる官能基を有する有機系架橋剤と、４Ａ族金属化合物とを含有する。化成処理液中のフッ素含有樹脂に対する有機系架橋剤の量は、０.８〜９.６質量％の範囲内である。また、化成処理液中のフッ素含有樹脂に対する４Ａ族金属の化合物の量は、金属換算で０.１〜５質量％の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】導電性、耐食性に優れ、かつ安価に製造できる塗装金属板を提供する。
【解決手段】本発明は、金属板の少なくとも片面に、有機樹脂（Ａ）と、２５℃の水溶液における標準電極電位が−０．２５〜＋０．９Ｖの範囲にある金属粒子（Ｂ）とを含む塗膜（α）が水系塗装用組成物（β）の塗布により形成されており、前記塗膜（α）中の有機樹脂（Ａ）と金属粒子（Ｂ）の２５℃での体積比が９０：１０〜９９．９：０．１であり、前記有機樹脂（Ａ）が、カルボキシル基、スルホン酸基から選ばれる少なくとも１種の官能基を構造中に含む樹脂（Ａ１）、または更に該樹脂（Ａ１）の誘導体（Ａ２）を含むことを特徴とする、導電性、耐食性塗装金属板である。 （もっと読む）

【課題】ゴム発泡や、ホースの亀裂の発生を抑制することができる冷媒輸送ホース用樹脂組成物を目的とする。
【解決手段】冷媒と接する管状の樹脂層に用いられる冷媒輸送ホース用樹脂組成物であって、ポリアミド樹脂を主成分とし、下記の（Ａ）および（Ｂ）成分とともに、（Ｃ）または（Ｄ）成分を下記の割合で含有している。
（Ａ）ブチル系ゴム。
（Ｂ）接着付与剤。
（Ｃ）表面処理されていない未処理タルク。
（Ｄ）シランカップリング剤で表面処理された表面処理タルク。
〔ただし、（Ｃ）成分の含有量が（Ａ）成分１００重量部に対して３〜９重量部、（Ｄ）成分の含有量が（Ａ）成分１００重量部に対して２〜１５重量部である。〕 （もっと読む）

【課題】熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられ、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、更に硬化後の硬化物の弾性率が低く、かつ該硬化物の熱伝導性にも優れている絶縁シートを提供する。
【解決手段】本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる。本発明に係る絶縁シートは、重量平均分子量が１００００以上であるポリビニルアセタール樹脂と、エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるフィラーとを含む。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性フィルムにおいて、酸素及び水蒸気に対して十分なガスバリア性を有すると共に、可撓性を有するものとする。
【解決手段】ガスバリア性フィルム１は、高分子フィルム基材２の片面又は両面に、金属フッ化物粒子３を金属酸化物マトリックス４中に分散させた金属フッ化物・金属酸化物複合物を含有する被膜５が形成され、金属酸化物マトリックス４は、金属アルコキシド又はその加水分解物若しくはその縮合物から形成される金属酸化物であり、金属フッ化物粒子３は、粒子径が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下のフッ化マグネシウム粒子であり、被膜５の内９０Ｖｏｌ％以上が金属フッ化物・金属酸化物複合物である。この構成により、酸素及び水蒸気に対して十分なガスバリア性を有すると共に、可撓性を有するものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】硬化後の硬化物の絶縁性を高めることができるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物又は該樹脂組成物がフィルム状に成形されたＢステージフィルムである。上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、表面処理されたシリカと、チタネート系カップリング剤により表面処理されたマイカとを含む。上記樹脂組成物に含まれている全固形分１００重量％中、上記シリカと上記マイカとの合計の含有量が４１〜８５重量％であり、かつ上記マイカの含有量が１．０〜５．０重量％である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、表面に残存する異物が極めて少なく、かつガスバリア性フィルム表面にダメージを与えないガスバリア性フィルムの洗浄方法及びその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めてクリーンで耐久性の高い包装材料及び有機光電変換素子や有機ＥＬ素子のような有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】ガスバリア性フィルムのウエット洗浄工程の前に、少なくとも１回の紫外線を用いたドライ洗浄工程を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】本発明にあっては、高い水蒸気バリア性能及び高い光透過率を有し、かつ、ハンドリング性に優れる反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層を順次積層した反射防止フィルムであって、電離放射線硬化型材料を含む塗液を塗布し電離放射線硬化して形成されるハードコート層と、酸化度が１．２以上１．４以下の範囲内からなる大気下で焼結された酸化ケイ素を用いて真空蒸着により形成され屈折率が１．６４以上１．８２以下の範囲内となる高屈折率層と、ケイ素アルコキシドを含む塗液を塗布し熱硬化して形成される屈折率が１．３０以上１．４２以下の範囲内となる低屈折率層とから形成され、かつ、全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする反射防止フィルムとした。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、金属めっき層に対して優れた付着性及び透明性を有し、耐チッピング性及び耐傷付き性に優れ、その性能が長期間経過後でも低下しない塗膜を提供することである。
【解決手段】本発明に係る金属めっき用塗膜は、基材の表面に形成した金属めっき層上に形成されたプライマー層とプライマー層上に形成されたトップコート層とを有し、プライマー層は、ガラス転移点が−２０℃以上２０℃未満のアクリル樹脂（ａ）とポリエステル成分が骨格に導入されたイソシアネート、ポリカーボネート成分が骨格に導入されたイソシアネート、ポリエーテル成分が骨格に導入されたイソシアネートから選ばれる少なくとも１種類（ｃ）とを含有し、トップコート層は、２０℃以上５０℃以下のアクリル樹脂（ｄ）と、数平均分子量が５００以上９５００以下のポリオール化合物（ｆ）と、イソシアネート（ｇ）とを含有する。 （もっと読む）

【課題】生産性が良好で安定した品質が得られる安価な製造方法で、高いガスバリア性を有するハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】透明基材フィルムにハードコート層を施したハードコードフィルムの裏面に、別の透明基材フィルムに無機酸化物層を蒸着成膜法で膜厚５ｎｍ〜３００ｎｍ施してなる水蒸気バリア性フィルムを複数枚積層すること、更には、前記水蒸気バリア性フィルムの上に、少なくとも一種以上の金属アルコキシド或いはその加水分解を原料とする保護層を設けてなるガスバリア性ハードコートフィルムである。 （もっと読む）

【課題】十分な光学特性と機械特性、防汚性を備えた反射防止フィルムを提供すること、及びそれを用いた反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材１１の一方の面にハードコート層１２と低屈折率層１３を積層した反射防止フィルムである。ハードコート層が、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成される。低屈折率層が、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０〜１００重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー３０〜５０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤０．５〜１．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤０．５〜１．５重量部と、を含有してなる低屈折率コーティング剤から形成される。 （もっと読む）

【課題】特に高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層１の一方の表面上に、プライマー層２、ガスバリア層３、ガスバリア被膜層４を順次積層し、プライマー層２は、アクリルポリオール、イソシアネート、およびシランカップリング剤からなり、ガスバリア層３は酸化珪素からなり、ガスバリア被膜層４は、一般式Ｓｉ（ＯＲ^１）_４で表される珪素化合物、一般式（Ｒ^２Ｓｉ（ＯＲ^３）_３）_ｎで表される珪素化合物および水酸基を有する水溶性高分子を含有する塗布液を塗布して乾燥させてなり、プライマー層２の膜厚が、０．００５〜１μｍ、ガスバリア層３の膜厚Ｘが０．００５〜２μｍ、ガスバリア被膜層４の膜厚Ｙが０．０５〜３μｍ、ＸとＹの関係が０．００１≦ＸＹ≦２．０であるガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】６価クロムを全く含むことなく、優れた導電性、耐食性、塗料密着性を有する表面処理皮膜を得ることができる亜鉛系めっき鋼板用水系表面処理液を提供する。また、皮膜中に６価クロムを全く含むことなく、優れた導電性、耐食性、塗料密着性が得られる表面処理亜鉛系めっき鋼板を提供する。
【解決手段】水系表面処理液は、水溶性ジルコニウム化合物、水分散性微粒子シリカ、シランカップリング剤、バナジン酸化合物、リン酸化合物、ニッケル化合物およびアクリル樹脂エマルションを特定の割合で含む。また、表面処理亜鉛系めっき鋼板は、亜鉛系めっき鋼板の表面に、ジルコニウム化合物、微粒子シリカ、シランカップリング剤由来成分、バナジン酸化合物、リン酸化合物、ニッケル化合物およびアクリル樹脂を特定の割合で含有し、Ｚｒ付着量が１０〜２００ｍｇ／ｍ^２である表面処理皮膜を有する。 （もっと読む）

【課題】遮熱粒子の分散性を高めることができる分散液及び合わせガラス用中間膜を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物が表面に付着している遮熱粒子と、分散剤と、可塑剤とを含有する分散液、並びにケイ素化合物が表面に付着している遮熱粒子と、分散剤と、熱可塑性樹脂と、可塑剤とを含有する合わせガラス用中間膜２。上記分散液及び合わせガラス用中間膜２に含まれている上記分散剤は一分子中に、カルボキシル基とアミノ基とを有する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性保護層を含む積層フィルムとポリオレフィンフィルムとを接着剤を使用せずに接着した積層体であって、異物や残留溶剤等が滲出することがなく耐候性にも優れた積層体を提供する。
【解決手段】積層フィルムと、ポリオレフィン樹脂フィルムとが積層した積層体であって、積層フィルムのガスバリア性保護層およびポリオレフィン樹脂フィルムの少なくとも一部で、前記ガスバリア性保護層中のケイ素原子と、前記ポリオレフィン樹脂フィルム中の炭素原子との間に共有結合が形成されており、前記ガスバリア性保護層および前記ポリオレフィン樹脂フィルムとが接着剤を介さずに接着されている。 （もっと読む）

【課題】特に水蒸気バリア性および寸法安定性に優れたガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】熱膨張係数αｓが２０ｐｐｍ／℃≦αｓ≦２００ｐｐｍ／℃であり、湿度膨張係数βｓが１０ｐｐｍ／％ＲＨ≦βｓ≦３０ｐｐｍ／％ＲＨであるプラスチックフィルムからなる基材層１の少なくとも片面に、ＳｉＯｘＣｙで表される酸化珪素からなるガスバリア層２が形成されたガスバリア性積層フィルムにおいて、前記ガスバリア層２のＳｉＯｘＣｙにおけるｘの値が１．５≦ｘ≦２．０であり、ｙの値が０．０５≦ｙ≦０．５であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】防眩性と表示コントラストを両立し、耐擦傷性にも強い防眩性フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材フィルム上に防眩層と低屈折率層とが積層されている。防眩層中には、活性エネルギー線硬化型樹脂６０〜９４ｗｔ％、ポリマー成分１〜３５ｗｔ％、光重合開始剤１〜１０ｗｔ％含まれており、表面凹凸を積極的に形成する微粒子は含まれていない。低屈折率層は屈折率１．３５〜１．４７であり、無機微粒子５５〜８６ｗｔ％、フッ素原子を含まない活性エネルギー線硬化型樹脂９〜４０ｗｔ％含有する。低屈折率層中の無機微粒子は、シリカ微粒子又は中空シリカ微粒子である。 （もっと読む）

【課題】優れた基材とガスバリア層との密着性を有し、インラインでの処理が可能な高い生産能率のガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１００上に中間密着層１０１とガスバリア層１０２とを形成したガスバリア性フィルムの製造方法であって、基材が走行する金属ロール電極と、対向電極としてＳ・Ｎ極一対以上の磁石を設置した接地電極とを備え、両電極間の最短距離を特定範囲としたＲＩＥ処理装置を用い、前記電極間に、酸化用ガスを含む処理ガスと、気化した有機シリコン化合物を導入して、処理空間内の圧力を０．５〜２０Ｐａとして、３０ｋＨｚ以上４ＭＨｚ以下の高周波を、特定値以上となるように印加し、基材表面に厚さ３ｎｍ以上の中間密着層を形成する工程と、中間密着層面上にガスバリア層を形成する工程とを具備する製造方法。 （もっと読む）