【課題】コロナ放電処理を経て親水性を有する化粧シートを製造する方法であって、従来よりも親水性の持続性が改善された製造方法を提供する。
【解決手段】親水性を有する化粧シートの製造方法であって、
（１）熱可塑性樹脂からなる基材シートの表面に、最表面層が樹脂層となるように１又は２以上の層を積層する工程１と、工程１により得られる積層体を熱処理し、更に前記最表面層にコロナ放電処理する工程２とを有し、
（２）工程２における熱処理及びコロナ放電処理はインライン上で行われる
ことを特徴とする化粧シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 磁性層との密着性が高く、搬送時に表面にキズがつきにくい磁気記録媒体用支持体であって磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、高湿度下でも保存が可能で、耐久性の優れた磁気記録媒体とすることができる支持体を提供することにある。
【解決手段】 ポリエステルフィルムの少なくとも片面に金属または金属系酸化物を含む層（Ｍ層）が設けられ、さらにその少なくとも片面にコーティング層（Ｃ層）が設けられた積層体とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、低コストで高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、 高分子フィルムの少なくとも一方の表面に１層以上の無機物からなる蒸着薄膜層を形成する工程と、
次いで、該無機物からなる蒸着薄膜層の上に、ジメチルポリシロキサンを含むポリマーを加熱気化させてなる未硬化のポリマー薄膜層を形成する工程と、
次いで、該ポリマー薄膜層にプラズマを照射してポリマーを硬化させる工程と、を同一真空容器内で行うものである。 （もっと読む）

【課題】エッチング性がよく、耐熱ピール強度の低下も防止できるバリア層を備えたフレキシブル基材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム１の少なくとも片面に、ニッケル−クロム−マグネシウムからなる合金のバリア層２と銅層３、４とを順に積層したフレキシブル基材とした。このバリア層として、好ましくは、組成式（Ｎｉ_xＣｒ_100-x）_100-yＭｇ_yにおけるｘ（ｗｔ％）およびｙ（ｗｔ％）が、６０ｗｔ％≦ｘ≦９５ｗｔ％の範囲内であって、かつ０．０５ｗｔ％＜ｙ＜２０ｗｔ％の範囲内であるものを用いた。また、プラスチックフィルムとしてポリイミドフィルムを用いるとともに、このポリイミドフィルムを、１×１０^-2Ｔｏｒｒ以下の真空下にて５０℃以上、２００℃以下で乾燥させた後に、上記バリア層と上記銅層とを順に成膜形成するフレキシブル基材の製造方法とした。 （もっと読む）

【課題】耐熱ピール強度のさらなる改善を図ることができる銅張り積層板などのフレキシブル基材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルム１を６０℃以上、４５０℃以下の温度条件下にて真空乾燥させた後に、ポリイミドフィルムの少なくとも片面にシランカップリング剤11を塗布し、次いで、このシランカップリング剤の塗布層１１表面に金属層１２、１３、１４を形成するフレキシブル基材の製造方法とした。好ましくは、ポリイミドフィルム１の真空乾燥を、１×１０^-2Ｔｏｒｒ以下にて行うとともに、シランカップリング剤を塗布するポリイミドフィルム表面にプラズマ処理によって親水性を付与する。また、ポリイミドフィルムにシランカップリング剤の塗布層と上記金属層とが順に積層形成されて、シランカップリング剤がクロロメチル基またはイミダゾール基を含有しているフレキシブル基材とした。 （もっと読む）

【課題】ポリエチレンテレフタレートフィルムと無機酸化物層との密着を強化し、高温高湿環境下で試験を行ってもデラミネーションの発生がないガスバリア積層体を提供すること。
【解決手段】ポリエチレンテレフタレートフィルム１の少なくとも一方の面に無機酸化物層３を積層するガスバリア積層体であって、該ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも該無機酸化物層３を設ける面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理２が施されており、該処理表面を剛体振り子型物性試験器により測定（測定条件：パイプエッジ：直径２ｍｍ、フレーム重さ１４ｇ）した場合、測定温度が５０℃における対数減衰率が０．０４以上０．０６以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。 （もっと読む）

【課題】アラミド紙とＰＰＳフィルムとを接着剤無しで接着して、アラミド紙及びＰＰＳフィルムの特性を損なわずに環境適合型の積層体を製造すること。
【解決手段】
アラミド繊維とアラミドパルプとからなるプラズマ表面処理されたアラミド紙と、プラズマ表面処理されたPPSフィルムとを積層し、３０℃〜５０℃未満のロール温度で一対の鉄系金属加圧ロールによる線圧５００ｋｇｆ／ｃｍ以上の圧力下、或いは５０℃〜１００℃未満のロール温度で一対の鉄系金属加圧ロールによる線圧２００ｋｇｆ／ｃｍ以上の圧力下で無接着剤により積層接着する。 （もっと読む）

【課題】アラミド紙とＰＰＳフィルムとを接着剤無しで接着して、アラミド紙及びＰＰＳフィルムの特性を損なわずに環境適合型の積層体を製造すること。
【解決手段】アラミド繊維とアラミドパルプとからなるプラズマ表面処理されたアラミド紙と、プラズマ表面処理されたPPSフィルムとを積層し、３０℃〜１００℃未満の温度で一対の加圧ロールによる線圧５００ｋｇｆ／ｃｍ以上の圧力下或いは５０℃〜１００℃未満の温度で一対の加圧ロールによる線圧２００ｋｇｆ／ｃｍ以上の圧力下で無接着剤により積層接着することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い寸法精度で強固に接合された接合体を、低温下で効率よく製造することができる接合方法およびかかる接合方法で形成された接合体を提供すること。
【解決手段】本発明の接合方法は、第1の基材21上に第1の金属原子と脱離基とを含む第1の接合膜31を形成して第1の接合膜付き基材11を得るとともに、第2の基材22上に第1の金属原子よりも融点が低い第2の金属原子と脱離基とを含む第2の接合膜32を形成して第2の接合膜付き基材12を得る工程と、接合膜31、32に対してエネルギーを付与して、これらの表面付近に存在する脱離基を脱離させることにより、接合膜31、32に接着性を発現させる工程と、接合膜31、32とが密着するように、接合膜付き基材11、12同士を貼り合わせて接合膜31、32とが接合された接合体5を得る工程と、接合膜31、32を第2の金属原子が溶融するまで加熱することにより接合体5の接合強度を向上させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高い寸法精度で強固に接合された接合体を、低温下で効率よく製造することができる接合方法、および、かかる接合方法を用いて形成された接合体を提供すること。
【解決手段】本発明の接合方法は、第1の基板21上に第1の金属原子とこの第1の金属原子よりも融点が低い第2の金属原子と脱離基とを含む第1の接合膜31を形成して第1の接合膜付き基材11を得るとともに、第2の基材22上に第1の金属原子と第2の金属原子と脱離基とを含む第2の接合膜32を形成して第2の接合膜付き基材12を得る工程と、接合膜31、32に対してエネルギーを付与してこれらの表面付近に存在する脱離基を脱離させることにより接合膜31、32に接着性を発現させる工程と、接合膜付き基材11、12同士を貼り合わせて接合膜31、32が接合された接合体5を得る工程と、接合膜31、32を第2の金属原子が溶融するまで加熱することにより接合体5の接合強度を向上させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】より高いバリア性を有するバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有するバリア性積層体であって、有機層は下記一般式（１）で表される芳香族（メタ）アクリレートと低アクリル当量の多官能（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化してなり、かつ、有機層の膜厚は３００ｎｍ〜９００ｎｍである、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】高い寸法精度で強固に接合された接合体を低温下で効率よく製造することができる接合方法およびかかる接合方法を用いて形成された接合体を提供することにある。
【解決手段】本発明の接合方法は、第1の基板21上に第1の金属原子とこの第1の金属原子よりもイオン化傾向が大きい第2の金属原子と脱離基とを含む第1の接合膜31を形成して第1の接合膜付き基材11を得るとともに、第2の基板22上に第1の金属原子と第2の金属原子と脱離基とを含む第2の接合膜32を形成して第2の接合膜付き基材12を得る工程と、接合膜31、32に対してエネルギーを付与して接合膜31、32の表面付近に存在する脱離基をこれら接合膜31、32から脱離させることにより、接合膜31、32に接着性を発現させる工程と、接合膜31、32とが密着するように、第1の接合膜付き基材11と第2の接合膜付き基材12とを貼り合わせて、接合膜31、32とが接合された接合体5を得る工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、被膜硬度を緩和する被膜構造とその製造方法並びにそれに用いる飛翔粒子を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明１のコーティング部材は、無機繊維が無配向状態で相互に交差してなるコンポジット組織が被膜中に存在することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 極薄で耐熱性が要求されるデバイス構造体に好適なポリイミド構造体を提供する。
【解決手段】 １５〜１００μｍの厚さの厚部と、１〜１０μｍの厚さの薄部とを有するポリイミド構造体であって、該構造体の線膨張係数が１〜１０ｐｐｍ／℃であり、該構造体の全平面面積に対する前記薄部の面積率が１０〜６０％であるポリイミド構造体。また、プラズマ処理した厚さ１〜１０μｍの芳香族系ポリイミドフィルムと、プラズマ処理しかつ複数個の薄部の形状の孔を形成した厚さ１５〜１００μｍの芳香族系ポリイミドフィルムとを、両者フィルムのプラズマ処理面同士が接するように重ね合わせた後、両者フィルムを加熱圧着して積層フィルムとし、次いで、該積層フィルムから、薄部と厚部を有する所望の構造体を打ち抜くポリイミド構造体の製造方法。 （もっと読む）

太陽光による劣化に対して高い耐性を有する、乾式蒸着法を用いて、ＴｉＯ_２またはＺｎＯの透明の薄膜にて被覆された石骨材から製造された石板状または敷石状の物品であって、これらは、低い光触媒作用を有するか、または光触媒作用を有さないＴｉＯ_２および／またはＺｎＯの透明の薄膜で被覆された石骨材から製造された石板状または敷石状の形態であり、上記膜は乾式蒸着法、物理気相成長法（ＰＶＤ）またはプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって蒸着されている。上記の物品は、太陽光による劣化に対して高い耐性を有している。これは、得られた材料が外部環境に適していることを意味する。 （もっと読む）

【課題】成膜速度を増大し、大面積のフィルムに成膜することができ、かつ、緻密な成膜を得ることができる成膜装置を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜装置は、プラズマリニアソース７を有するプラズマ化学気相成長手段と、プラズマリニアソース７と所定間隔をおいて配置されているイオンエッチングローラー５を有するイオンエッチング処理手段と、プラズマリニアソース７とイオンエッチングローラー５との間においてフィルム３を通過させるフィルム搬送手段と、を具備する。前記プラズマ化学気相成長手段は、プラズマリニアソース７により発生する誘導結合プラズマによってフィルム３に成膜を行い、この成膜と同時に前記イオンエッチング処理手段はイオンエッチングローラー５からのイオンによってフィルム３にイオンエッチング処理を行う。 （もっと読む）

本発明は、基材上に蒸着されたメラムの、高湿度に対する耐性が求められる用途（レトルト処理もしくは金属堆積を含むさらなる処理等）または太陽電池やディスプレイ等の用途における使用に関する。バリア層のメラム対メラミン比（ｗ／ｗ）は、３：１〜５０：１の範囲にある。レトルト耐性を有する積層体は、２枚のプラスチックフィルムとその間に結晶性メラム層とを有し、積層体の、９０°引張試験で３０ｍｍ／分で測定されたラミネート強度は約２Ｎ／インチ以上である。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金やマグネシウム合金などに代表される金属の表面を活性化し、接着性に優れたプライマー層を強固に付着させた接合用金属部材と、その製造方法、さらには上記接合用部材を用いて成る接合部材を提供すること。
【解決手段】金属基材２の表面に、例えばレーザー処理によってエネルギーを加え、当該基材表面に金属水酸化物２ａを形成した状態で所定の化合物を含むプライマーを塗布し、当該プライマー層３中の上記化合物を上記金属水酸化物２ａの水酸基に直接共有結合させる。 （もっと読む）

基材上に無機又はハイブリッド有機／無機バリア層を形成するための方法。この方法は、蒸発させた金属アルコキシドを基材上に凝縮させて基材の上に層を形成する工程と、この凝縮した金属アルコキシド層を水と接触させてこの層を硬化させる工程とを含む。
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【課題】有機材料の表面にプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を形成する際に、目的とするガスバリア性を有するガスバリア膜を、安定して形成することを可能にする。
【解決手段】第１のプラズマ励起電力でガスバリア膜を形成し、その後、プラズマ励起電力を、前記第１のプラズマ励起電力よりも高い第２のプラズマ励起電力に変更することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）