【課題】電荷の滞留を防止し、表面抵抗率のベルト面内ムラが抑制されると共に、汚れの付着を防止した無端ベルト及びその製造方法を提供することである。また、本発明の他の課題は、当該無端ベルトを利用した中間転写ベルト、及び画像形成装置を提供すること。
【解決手段】例えば無端ベルト５０を、導電剤を含むポリイミド樹脂層から構成し、そして、無端ベルト５０の外周面と内周面とでポリイミド樹脂のイミド化率と共に表面抵抗率が異ならせる。外周面におけるポリイミド樹脂のイミド化率が前記内周面より低くなることがよく、加えて、外周面における表面抵抗率が内周面より低くさせることがよい。 （もっと読む）

【課題】ポリアミド樹脂からなる基材フィルムに対する無機酸化物層の密着性を高める。
【解決手段】本発明の透明ガスバリア性フィルム１１は、ポリアミド樹脂からなる基材フィルム１１１と、前記基材フィルム１１１の一方の主面上に形成され、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含み、リアクティブイオンエッチングによる表面処理が施された易接着層１１２と、前記易接着層１１２上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層１１３とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイの表示面からの出射光や外部からの入射光の反射を防止して、表示画面の視認性を向上させることを目的とする黒化層の形成が容易であり、且つ基材−金属層界面の密着性に優れた薄い黒化層を形成することが可能な金属黒化処理方法を提供する。
【解決手段】少なくとも透明基材、銅メッシュ層、及び黒化層が積層されてなるディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの黒化層を形成するための金属黒化処理方法であって、テルルが溶解された塩酸溶液であり、該塩酸溶液中におけるテルルの濃度（酸化物換算濃度）が０．０１〜０．４５重量％であり、塩酸濃度が０．０５〜８重量％である金属黒化処理液に、少なくとも透明基材、及び銅メッシュ層を含んでなる積層体を接触させて、当該銅メッシュ層の表面に黒化層を形成する工程を含む、金属黒化処理方法。 （もっと読む）

【課題】 昇降機等の操作パネルやドアー等のように、人の目によくさらされ、意匠性が要求され、かつ人に触られる機会の多い耐汚染性、耐指紋性に優れた表面処理鋼板を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属元素又はアルカリ土類元素をモル比で、０．０２〜０．２％含む硬質のシリカ皮膜を０．２〜２μの厚みで、ステンレス意匠鋼板の上に形成することにより、素材の質感を変えず、ステンレスの持つ意匠性を損なわずに、指紋が目立たなくするとともに、耐汚染性を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスあるいは水蒸気等に対するハイバリア性を有し、かつ、透明性に優れ、更に、印刷加工適性、ラミネ−ト加工適性、製袋加工適性等の後処理加工適性に優れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装するに有用な透明ガスバリア性フィルムの製造法を提供することである。
【解決手段】 プラスチックフィルムの上に酸化アルミニウムの蒸着膜を設け、更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜面に、インラインで酸素ガスを供給し、該酸素ガスによる処理面を設けたことを特徴とする酸化アルミニウム蒸着フィルムの製造法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】基材あるいは下地層にクラックが形成されるのを抑制しつつ、基材の上、又はこの基材表面に形成された少なくとも１層の下地層の上に有機系の反射防止層を形成できる、有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】この有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法は、反射防止層形成用混合物を調合する工程と、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製する工程と、攪拌終了後、調製された反射防止層形成用混合物を熟成させる工程とを有する。熟成させる工程は、調製する工程後の反射防止層形成用混合物を、２０℃〜４０℃の温度下で２４時間〜１６８時間保持する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】撥油性、耐水性および通気性の全てが良好である通気材を提供することを目的とする。
【解決手段】平均孔径の異なる２枚のポリテトラフルオロエチレン多孔質膜を含み、前記２枚のポリテトラフルオロエチレン多孔質膜のうち、平均孔径が大きい方のポリテトラフルオロエチレン多孔質膜のみに撥油処理が施されている撥油性通気材とする。前記２枚のポリテトラフルオロエチレン多孔質膜のうち、平均孔径が大きい方のポリテトラフルオロエチレン多孔質膜の平均孔径が、１．０μｍ以上であることが好ましく、一方、平均孔径が小さい方のポリテトラフルオロエチレン多孔質膜の平均孔径が、１．０μｍ未満であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 顔料を多く含む非常に厳しい加工を受け耐レトルト性も要求されるアルミニウム製キャップ塗膜の加工後塗膜密着性を高める。
【解決手段】 厚さ２００ｎｍ以下かつ表面のＣ量が５０ｍｇ／ｍ^２以下かつ最表面から酸化皮膜／アルミ界面までの深さ方向での最大濃度がＭｇ：５ｍａｓｓ％以下、Ｈ：１０ｍａｓｓ％以下のＡｌおよびＯを主成分とする酸化皮膜の上に、重量平均分子量１０００につき１個以上のカルボキシル基を含有するアクリル酸化合物の重合体を５ｍｇ／ｍ^２以上５０００ｍｇ／ｍ^２以下の付着量にて設け、その上に重量平均分子量５００につき１個以上のカルボキシル基を含有し、かつ重量平均分子量が１０００以上１００万以下であるアクリル酸化合物の重合体を５ｍｇ／ｍ^２以上５０００ｍｇ／ｍ^２以下の付着量にて設けた下地上に乾燥重量に対し５ｍａｓｓ％以上の顔料を含有する塗膜を設ける。
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【課題】防曇性及び透明性に優れる防曇処理剤及び防曇性樹脂シートを得る。
【解決手段】防曇性表面処理剤（防曇処理剤）は、脂肪酸アミド(A)と、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体(B)とを、脂肪酸アミド(A)／ブロック共重合体(B)（重量比）＝１／９９〜３７／６３の割合で含有する。前記脂肪酸アミド(A)は、Ｃ_８−３０脂肪酸とアミン類とのアミド又はそのエチレンオキサイド付加物であってもよい。上記表面処理剤を樹脂シートの少なくとも一方の面に塗布することにより防曇性樹脂シートを製造できる。本発明には、上記防曇性樹脂シートで形成された容器も含まれる。 （もっと読む）

【課題】透明な基材フィルムの上に透明な無機物層を真空成膜法で積層してなる透明複層フィルムの製造方法において、所望の光線透過率と透明度を有する透明複層フィルムを安定して製造することができる方法を得る。
【解決手段】真空成膜するための基材フィルム１の表面処理の条件を調整して、該表面処理面２の水滴接触の標準偏差を規定値内としてから、無機物層３を真空成膜することによって、透明複層フィルム１００の光線透過率と透明度を所望値に納めることができる。 （もっと読む）

【課題】
錆の発生を防ぎ、寿命を飛躍的に伸ばすと共にリサイクルの容易な構造にした加熱用プレート及びこれの製造方法を提供する。
【解決手段】
加熱用プレート１１は、鉄基材２と、鉄基材２の表面２ａ側に形成された鉄−アルミニウム合金層３と、鉄−アルミニウム合金層３の表面３ａ側に形成されたアルミニウムメッキ層４と、アルミニウムメッキ層４の表面４ａに形成された溶射層５と、溶射層５の表面５ａに形成された封口処理層６と、封口処理層６の表面６ａに塗布されたプライマー層７と、プライマー層７の表面７ａに形成されたフッ素樹脂層８とからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、下層との密着性に優れた低屈折率層用塗工剤およびそれを用いた耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】反射防止フィルムの低屈折率層を形成するための塗工剤において、該塗工剤がラジカル重合性化合物と、塗工剤の固形分中に０．５〜９．０重量％のエチレン性不飽和基を有する酸性リン酸エステルとを含有していることを特徴とする。更に、その塗工剤を用いた耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料が焼損することのないイオンガン処理方法を提供すること。
【解決手段】試料台上に、絶縁体およびイオンガン処理を施す試料をこの順に配置した状態で、前記試料にイオンガン処理を施すことを特徴とするイオンガン処理方法。 （もっと読む）

【課題】電解銅箔の防錆処理層にクロムを用いることなく、プリント配線板に加工して以降の回路の引き剥がし強さ、当該引き剥がし強さの耐薬品性劣化率等の良好な表面処理銅箔の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するため、絶縁樹脂基材に対する電解銅箔の張り合わせ面に防錆処理層とシランカップリング剤層とを備える表面処理銅箔において、当該防錆処理層３は、重量厚さ５ｍｇ／ｍ^２〜５０ｍｇ／ｍ^２のニッケル合金層と、重量厚さ５ｍｇ／ｍ^２〜４０ｍｇ／ｍ^２のスズ層とを順次積層したものであり、当該防錆処理層３の表面にシランカップリング剤層４を備えることを特徴とする表面処理銅箔５を採用する。また、本件発明に係る表面処理銅箔５（粗化処理を備えないものに限る）の絶縁樹脂基材に対する張り合わせ面上に、換算厚さが１μｍ〜５μｍの極薄プライマ樹脂層６を備えたことを特徴とする極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔１等を採用する。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜との密着性に優れ、絶縁膜との界面における凹凸が小さい導体層有する積層体を簡易な方法で製造しうる導体層付き絶縁層基材の製造方法、及び、該製造方法により得られた導体層付き絶縁層基材を提供する。
【解決手段】（ａ）電気的絶縁性を有する絶縁層を基材とし、該基材の片面もしくは両面に、（ｂ）絶縁層と相互作用を形成しうる化学活性点発生層を形成する工程と、該（ｂ）化学活性点発生層表面に（ｃ）化学活性点発生層および導体層と相互作用を形成しうる反応性高分子化合物含有層を形成する工程と、該（ｃ）反応性高分子化合物含有層に含まれる高分子化合物に導電性材料などを付与し、（ｄ）導体層を形成する工程を有する導体層付き絶縁層基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高温高圧処理後も耐熱性樹脂と接着剤や接着フィルム間で優れた接着性を示す表面改質処理方法、電極接続基板及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表面改質処理方法は、基板上に形成された耐熱性樹脂層上に表面改質処理液を塗布し、塗布された前記表面改質処理液を乾燥する。表面改質処理液は、アルミニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、アルミニウムアルコレート、チタニウムアルコレート及びジルコニウムアルコレートからなる群から選択される少なくとも１種の表面改質剤成分と、溶媒とを含む。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材から発生する水分を外部に逃がすことによって、ムクミの発生しない、かつ、耐擦傷性に優れたプラスチック製光学物品とその製造方法を提供すること。
【解決手段】メガネレンズ１は、レンズ基材１０の表面に、ハードコート層１１、反射防止層１２、防汚層１３が順に積層される。 反射防止層１２は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、ハードコート層１１側から順に第１膜１２１、第２膜１２２、第３膜１２３、第４膜１２４、第５膜１２５からなる５層で構成されている。第１膜１２１、第３膜１２３、第５膜１２５は二酸化ケイ素からなり、第２膜１２２、第４膜１２４は、酸化窒化ケイ素からなる。
なお、反射防止層１２は、ＣＶＤ法（化学気相成長法）により形成することができる。 （もっと読む）

【解決手段】本明細書において偏光子と支持層を有する光学素子が開示される。偏光子は、固有偏光子を有し、支持層は、（ａ）複数のペンダントフリーラジカル重合性官能基と２０℃以上のＴｇを有する５０〜９９重量部の（メタ）アクリロイルオリゴマーと、（ｂ）１〜５０重量部のフリーラジカル重合性架橋剤及び／又は希釈剤モノマーと、（ｃ）０．００１〜５重量部の開始剤との反応生成物を含む。本明細書では、光学素子を形成する方法も開示される。
【効果】光学素子は、プロジェクター・システム等の光学装置内に使用されてもよい。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性が高くてフレキシブルな有機ＥＬに適用可能なガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム上に、少なくとも１層の無機層と少なくとも１層のアクリルモノマーの重合物を主成分とする有機層とを有するガスバリア性積層フィルムであって、前記有機層に少なくとも１種類のスルホニル基またはスルホ基を有する重合性モノマーの重合生成物が含まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性が高くてフレキシブルな有機ＥＬに適用可能なガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム上に、少なくとも１層の無機層と少なくとも１層のアクリルモノマーの重合物を主成分とする有機層とを有するガスバリア性積層フィルムであって、前記有機層に少なくとも１種類のスルホニル基を有する二官能以上の重合性モノマーの重合生成物が含まれていることを特徴とする。 （もっと読む）