【課題】高精細なインプリント転写が安定して行えるインプリント方法と、このようなインプリント方法を可能とするインプリント用基板とを提供する。
【解決手段】インプリント用基板を、基板本体２と、この基板本体２の一方の面に位置する濡れ性変化層３とを備えたインプリント用基板１、あるいは、基板本体１２と、この基板本体１２の一方の面に位置する包囲構造物１３とを備えたインプリント用基板１１とすることにより、このインプリント用基板１，１１上に被加工物として供給された樹脂５１の液滴の高さが維持でき、また、モールド６１のパターン領域を押し当てたときに、樹脂はモールド全面に広がる。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く優れた離型性を具備したナノインプリント用のモールドと、このようなモールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基材２と、基材２の一方の面２ａを被覆する樹脂層３と、この樹脂層３の面３ａに位置する凹部４とを備えたものとし、樹脂層３を表面の水接触角８０°以上、ＨＶ硬度４００以上とし、このようなナノインプリント用モールド１は、塗布工程にて、基材２の一方の面２ａに少なくともオルガノポリシロキサンと光触媒とを含有してなる塗布液を塗布して濡れ性変化樹脂材料層３′を形成し、乾燥工程にて、濡れ性変化樹脂材料層３′とマスターモールド１１を圧着し、その状態で濡れ性変化樹脂材料層３′に乾燥処理を施して樹脂層３を形成し、剥離工程にて、樹脂層３とマスターモールド１１とを離間することで形成する。 （もっと読む）

【課題】精度良く高い再現性をもってナノプリントを実行することができるナノプリント方法を提供する。
【解決手段】下ステージ１１の載置面１１ａに枠体Ｒと、マスタ版Ａとを載置する。次に下ステージ１１に対して上ステージ１５を降下させ、上ステージ１５の吸着面１５ａを枠体Ｒに当接させ、エアスイベル機構２０によって上ステージ１５を３次元空間で移動させて、下ステージ１１と上ステージ１５の平行出しを行なう。次にマスタ版Ａ上に液状のシリコンゴムＳを流し込み、上ステージ１５の吸着面１５ａに保持されたスタンパ保持基板Ｃと、下ステージ１５の載置面１１ａ上のマスタ版Ａとの間でシリコンゴムＳを狭持する。シリコンゴムＳが自然硬化してスタンパＤが形成され、上ステージ１５を上昇させることにより、スタンパＤが上ステージ１５のスタンパ保持基板Ｃにより保持される。スタンパＤにインクＧが塗布され、スタンパＤ上のインクＧが被印刷基板Ｈに転写される。 （もっと読む）

【課題】連続的に生産できるモールドシートの製造方法を提供する。
【解決手段】基材が巻き取られた供給ロール及びエンボスロールを準備する（Ｓ１）。供給ロールから基材を巻きだし、基材をエンボスロールに搬送する。そして、基材とエンボスロールとの間に、シリコーン組成物からなる未硬化層を形成し、未硬化層を基材とエンボスロールとにより挟む（Ｓ２）。エンボスロールを加熱しながら回転し、未硬化層の表面に複数のエンボスパターンを転写しながら未硬化層を熱硬化する（Ｓ３）。熱硬化された未硬化層が形成された基材を、エンボスロールから剥がした後、未硬化層をさらに熱硬化してシリコーン層を形成する（Ｓ４）。 （もっと読む）

【課題】モールドの微細凹凸構造の転写性が良好であり、硬化物層に残存する気泡が抑えられ、基材としてプラスチックを用いることができ、しかも製造時間を短縮できる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】モールド４０の微細凹凸構造側の表面にアルコキシシラン、その加水分解物、縮合物の１種以上と光感応性酸発生剤とレベリング剤とを含む塗布液を塗布して塗布液層２４を形成する工程、塗布液層２４を部分硬化させてナノインデンテーション測定において、０．４ｍＮ試験荷重がかかった時の押し込み深さが、０．１８μｍ以上である部分硬化物層２６を形成する工程、部分硬化物層２６を介してモールド４０と基材１０とを重ね、部分硬化物層２６に活性エネルギー線を照射して硬化物層２０を形成する工程、モールド４０を離型する工程を有する物品１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基を有するシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有する一種又は複数種のモノマ成分と、を主に含む樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が寸法精度よく形成された硬化物質を含む微細構造体を、生産性よく、大面積で製造する方法の提供。
【解決手段】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が形成された硬化物質を含む微細構造体の製造方法において、前記硬化性物質を含む溶液が、式Ｓｉ（Ｘ^１）_４で表される４官能シラン、式ＲＳｉ（Ｘ^２）_３で表される３官能シラン、含フッ素界面活性剤、有機溶剤、および水を含み、かつ、前記４官能シランに対する前記３官能シランのモル比が、０．０３〜１である。Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒは炭素数が１〜１０の置換または非置換の１価有機基（ただし、ケイ素原子と結合する原子は炭素原子である）。 （もっと読む）

【課題】樹脂製モールドの劣化を抑制することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板と凹凸パターンが形成されたモールドとで光硬化性成分を含有する液状の被転写材層を挟み込んで成形した後、前記被転写材層を露光して光硬化層とし、該光硬化層から前記モールドを離型するパターン形成方法であって、前記モールドが有機高分子化合物からなり、前記被転写材層に含有される成分全体の数平均分子量が３５０以上であり、かつ、前記被転写材層中の全成分のうち、分子量３００未満の成分が５０質量％未満である。 （もっと読む）

【課題】本発明は一枚のシート状基材を繰り出してシート状基材の進行方向に放射状成形ガイドと押圧冶具を用いて複数列の溝成形体を製造すると共に該溝内に反応性樹脂気泡化原料を充填、反応、硬化させて同時に複数本の紐状樹脂成形体を製造するに当たり、シート状基材の幅中心部の製品から端部の製品まで良好な製品を製造すること、並びにより多列数の製品を同時に製造すること並びに他の部材との一体品を製造することを目的とする。
【解決手段】連続して繰り出す一枚のシート状基材を放射状成形ガイド並びに押圧冶具を用いて溝成形体を製造した後、複数列の進行方向に広幅で、幅方向の中心線がシート状基材の進行方向に平行な略台形状のせり上げ平行ガイドレールに沿わせた後、反応性樹脂気泡化原料を放射状成形ガイド以降からシート状基材からなる溝の上部が閉ざされる前までで吐出充填させて、溝成形体の上部を閉じ反応硬化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、かつ、硬化したパターンの耐溶剤性が良好であるナノインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、前記（Ａ）重合性化合物として、（Ａ１）フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性化合物および、（Ａ２）芳香族基を有する重合性化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】離型性と繰り返しパターニング耐性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）離型剤と、（Ｂ）重合性単量体および（Ｃ）光重合開始剤を含み、前記（Ａ）離型剤が、（１）ポリ（メタ）アクリル酸エステル構造、ポリ（メタ）アクリルアミド構造およびポリスチレン構造から選ばれる構造の少なくとも１種と、（２）ポリシロキサン構造とを有する、インプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成するレジストパターンの高さのバラツキを改善することができるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（１）被加工基板の表面を電離線照射処理し、電離線照射処理面を有する電離線照射処理基板を形成する工程と、（２）電離線照射処理面上に、光又は熱の作用により硬化する硬化性組成物からなる被形状転写層を形成する工程と、（３）被形状転写層にスタンパを圧接する工程と、（４）スタンパを圧接したまま被形状転写層を露光する工程と、（５）スタンパを被形状転写層から剥離して、レジストパターンが形成された基板を得る工程と、を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】インプリント法において使用する微細凹凸パターン形成用シートであって、使用前には保存安定性に優れ、かつ、耐擦傷性が高いハードコート層を形成するための微細凹凸パターン形成用シートを提供すること。
【解決手段】基材上に、
ａ）式（Ｉ）
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ^１のうち１以上はビニル基含有炭化水素基を表す。）で表される化合物、
式（ＩＩ）
Ｒ^２_ｎＳｉＸ_４−ｎ・・・（ＩＩ）
（式中、Ｒ^２は式中のＳｉに炭素原子が直接結合した、ビニル基含有炭化水素基以外の有機基を表す。）で表される化合物、及びそれらの加水分解縮合物からなる有機ケイ素化合物
ｂ）電磁線硬化性化合物又は一部が硬化した電磁線硬化性化合物、及び
ｃ）Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌ及びＺｒから選ばれる１種類以上の金属化合物
を含有する半硬化物からなる層を有することを特徴とするインプリント法による微細凹凸パターン形成用シートである。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント用組成物の塗布性および硬化性を向上させる。
【解決手段】実施の形態に係るナノインプリント用組成物は、シロキサンポリマー（Ａ）と、アルコキシシラン化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）と、を含有する。シロキサンポリマー（Ａ）は、光照射により重合する重合性基を有する化合物である。重合開始剤（Ｃ）は、光照射時にシロキサンポリマー（Ａ）の重合を開始、促進させる化合物である。 （もっと読む）

【課題】スループットの短縮や微細化という要望に応えつつ、モールドを押し付けた際に生じる残渣を低減することのできるナノインプリント リソグラフィを提供する。
【解決手段】実施の形態に係るナノインプリント用組成物は、アルコキシ基を含有するＳｉ化合物（Ａ）と、熱または露光によって酸を発生する酸発生剤（Ｂ）と、を含有することを特徴とする。Ｓｉ化合物（Ａ）としては、下記式（ａ１−１）で表されるアルコキシシランモノマーから選択される少なくとも１種を出発原料とする縮合物を含むことが好ましい。
Ｓｉ（ＯＲ^１）_ｍ（Ｒ^２）_４−ｍ （ａ１−１）
［式（ａ１−１）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アリールアルキル基であり、ｍは１〜４の整数である。］ （もっと読む）

【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有する微細凹凸構造体、およびその製造方法であって、生産性が高く、樹脂の一部が原版に付着する原版汚れが発生し難く良品率が高い、微細凹凸構造体、およびその製造方法、ならびに微細凹凸構造体からなる光学素子、を提供すること。
【解決手段】微細凹凸構造形成層とシールド層との複層構成を有する微細凹凸構造体であって、前記微細凹凸構造形成層は樹脂の硬化物を含み、シールド層は珪酸化合物によって構成され、シールド層の厚さが、微細凹凸構造形成層の厚さの半分以下である。 （もっと読む）

【課題】 化粧板表面のレザータッチのような触感があり、指紋が目立たないメラミン化粧板を得る。
【解決手段】 フッ素樹脂又はアクリル樹脂と、シロキサンとが複合化されたシロキサングラフト型ポリマーにプラスチックビーズを分散させた樹脂液を、プラスチックフィルムに塗布、乾燥して転写シートを得る。次いで、樹脂含浸コア紙、樹脂含浸化粧パターン紙、必要に応じて樹脂含浸オーバーレイ紙、転写シート、賦型板を順次積層し、熱圧成形する。プラスチックビーズとして、平均粒子径が６〜１４μｍのウレタンビーズを用い、シロキサングラフト型ポリマー１００重量部に対して１０〜５０重量部配合する。転写シートに塗布する際は、乾燥膜厚が５〜１０μｍとなるように塗布する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント用モールドの凹凸パターン表面に、離型性と耐久性に優れ、凹凸パターン寸法にほとんど影響を与えない離型層を有し、高精度で微細なナノインプリント用樹脂のパターン形成が可能なナノインプリント用モールド、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１表面に凹凸パターン１２を有し、前記凹凸パターンが離型層１３で被覆されているナノインプリント用モールド１０において、前記凹凸パターンの少なくとも表面がシリコン酸化膜または金属酸化膜であって、前記離型層が、両親媒性のシランカップリング剤の離型剤からなり、前記離型剤の疎水基を前記凹凸パターン側とは反対側に配向させた単分子膜で形成されたものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来利用されてきた、外周面に模様のあるローラーを塗面上に転がして、模様を形成する方法は、利用できる離型剤や離型剤の使用方法に制約があり、精細な模様の形成が困難であり、又作業者への健康影響があった。
【解決手段】建材又は建築物の塗装基材面に塗剤を塗布し、塗剤が乾燥する前に塗剤上にシリコン系離型剤を噴霧した後、外周面に模様のあるローラーを塗剤の上に転がし、塗剤上に模様を形成する方法であり、精細な模様を作業者への健康影響なしに形成出来る。 （もっと読む）