本発明は（Ａ）１つ以上の不飽和二重結合を有する活性エネルギー波−硬化型化合物、及び、（Ｂ）前記成分（Ａ）１００重量部を基準として光開始剤０．１〜２０重量部を含むパターン形成用モールドシート組成物、及び前記組成物が、活性エネルギー波−硬化型化合物を含み、所望のパターンの陰刻が形成されているパターン形成用モールドシートを提供する。
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【課題】所望の光学機能をもち、設計所自由度が大きい光学素子を高い歩留まりで製造できる光学素子製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上にＳｉＯ₂を骨格とする重縮合材料を液状で塗布する塗布工程と、塗布形成された塗布層１２０に対してプリベークを行って塗布層をゲル化してゲル層１２１とするプリベーク工程と、得られたゲル層１２１に対して、微細な凹凸構造に反転的に対応する表面形状を有する押型２００を押圧した状態で、熱および／または光によりゲル層１２１を硬化して、表面形状の反転形状をゲル層に転写する転写工程と、転写工程後に、硬化したゲル層である硬化層１２２から押型２００を型抜きする型抜き工程とを有し、プリベーク工程におけるゲル化の程度を押型２００の表面形状の転写に適したゲル化状態に調整する。 （もっと読む）

【課題】透明保護膜、スペーサなどの永久膜に好適な組成物、特に、加熱硬化後のパターン精度、弾性回復率、透過率および基板面内ムラのいずれについても優れた組成物を提供する。
【解決手段】シルセスキオキサン化合物、重合性単量体、光重合開始剤および界面活性剤を含む光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物であって、前記シルセスキオキサン化合物が少なくとも１種の反応性基を有する光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】生体分解性樹脂を用いて、微小針の先端部に欠損のない、品質の安定したマイクロアレイを大量に製造すること。更には、そのための金属母型を精度良く作製すること。
【解決手段】所望の微小針に対応する貫通孔を有するＰＤＭＳ製の鋳型を品質良く大量に作成し、生体分解性樹脂の遷移点から融点までの高温で転写加工を行い、遷移点近傍で樹脂を離型させ、それによって樹脂製の微小針を製造する方法を提供する。更に、良質なＰＤＭＳ製の鋳型を大量に作製するための金属製母型の製造方法を提供する。これらにより、製品規格的に信頼性の高い微小針が効率的に製造できることとなった。 （もっと読む）

【課題】
１つ以上の凹凸パターンが形成されたシリコーン・エラストマー・スタンプについて、印刷解像度が大幅に高められるようにその構造を工夫すること。
【解決手段】
上記課題を解決するための手段は、少なくとも１つ以上の凹凸パターンが形成されたシリコーン・エラストマー・スタンプについて、その凸部に隣接する箇所に支持パターンを設けることであり、
また、支持される凸部の線幅ａ、スタンプの凸部の高さｂとしたアスペクト比ｂ／ａが１以上の箇所に前記支持パターンを設けることであり、
また、前記支持パターンが支持される凸部の線幅ａよりも大きいことである。
さらにまた、前記シリコーン・エラストマー・スタンプが、ポリジメチルシロキサンからなること。 （もっと読む）

【課題】樹脂層が厚い場合であっても、得られる構造体の熱に対する形状安定性を効率的かつ効果的に高めることが可能な構造体の製造方法、及びそのような製造方法により製造された構造体を提供する。
【解決手段】基体上にシロキサン樹脂を含む膜形成組成物を塗布して樹脂層を形成する工程と、この樹脂層にモールドを押し付ける工程と、樹脂層からモールドを剥離する工程と、モールドを剥離した後の樹脂層に減圧下で紫外線を照射する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】モールドのプレス圧力が比較的低い場合であっても、モールドの形状が転写された構造体を得ることが可能な構造体の製造方法、及びそのような製造方法により得られた構造体を提供する。
【解決手段】本発明の構造体の製造方法は、基体上にシロキサン樹脂を含む膜形成組成物を塗布して樹脂層を形成する工程と、この樹脂層にモールドを押し付ける工程と、樹脂層からモールドを剥離する工程と、を含む。特に膜形成組成物には、質量平均分子量３００〜５０００の低分子量のシロキサン樹脂が含まれる。 （もっと読む）

【課題】優れたコントラストを有する模様を転写し得る型であって、優れた生産効率で安価に製造され得る型を提供する。
【解決手段】型１０は、シート状部材５０に凹凸模様１２を形成するための型である。型は、シート状の基材２２と、前記基材の一方の表面上に積層された金属層２４と、を備える。前記シート状部材に転写されるべき凹凸模様が、前記金属層の側の表面から前記金属層および前記基材を変形させて形成されている。 （もっと読む）

【課題】優れた利便性を有する型を提供する。
【解決手段】型１０は、被加工体５０に凹凸模様１１，１２を形成するための型である。型は、第１表面１８ａと、前記第１表面とは反対側の第２表面１８ｂと、を含むシート状の基材１８と、前記基材の前記第１表面上に積層された第１の被覆層２０と、前記基材の前記第２表面上に積層された第２の被覆層３０と、を備える。前記被加工体に転写されるべき第１の凹凸模様１１が、前記第１の被覆層の側の表面１０ａから形成されている。前記被加工体に転写されるべき第２の凹凸模様１２が、前記第２の被覆層の側の表面１０ｂから形成されている。 （もっと読む）

構造体のナノファブリケーション、特に、多層スタックの製作における残留物形成の低減に関する技術を提供する。インプリントリソグラフィのための多層スタックは、第１の重合性組成物を基板に付加し、第１の重合性組成物を重合させて第１の重合層を形成し、第２の重合性組成物を第１の重合層に付加し、かつ第２の重合性組成物を重合させて第１の重合層上に第２の重合層を形成することによって形成される。第１の重合性組成物は、約２５℃未満のガラス転移温度を有する重合性成分を含み、第１の重合層は、第２の重合性組成物に対して実質的に非浸透性である。
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酸化したパターン化表面及びペルフルオロエーテル５シラン離型剤の層を含むシリコーン成形型を記載する。この成形型により、第２世代シリコーン成形型を複製する、すなわち、シリコーン成形型からシリコーン成形型を複製することが可能になる。 （もっと読む）

本発明は、コーティング工程において、流体を基板の表面と接触させるステップと、接着プライマー層が基板の表面に接着するように、流体中の成分と基板の表面との間で共有結合を形成する化学反応を開始させるステップとを含むインプリント・リソグラフィー法のための接着プライマー層を塗布する方法を提供する。ポリマー層は、その接着プライマー層で被覆した基板の表面に接着させることができる。この方法により、パターニングした磁気媒体を含めた両面インプリント用途のための接着プライマーコーティングが可能となる。
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【課題】モールドの形状を高精度に転写することができ、且つ、基体との密着性、モールドの剥離性が良好なナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び製造された構造体を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ−１）で表される構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂（Ａ）を含有する膜形成組成物をナノインプリント用に用いる。


［式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ^２は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表す。］ （もっと読む）

【課題】安価で容易な方法で連続的な凹凸を有するエンボス版用シートを製造する方法を提供すること。
【解決手段】シリコーンゴム製シートにレーザーを照射し、照射箇所を熱により蒸発させることで賦型を行ってエンボス賦型板を作成し、前記エンボス賦型板の賦型面上にエポキシ樹脂を塗工して熱圧成形後剥離してエンボス版用シートを作成すること、あるいはエポキシ樹脂製シートにレーザーを照射し、照射箇所を熱により蒸発させることによる賦型を行うことでエンボス版用シートを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温・低圧・短時間の単一条件下で、高アスペクト比でナノメートルからマイクロメートルオーダーの微細パターンを一括形成する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターン形成方法は、ポリシランとシリコーン化合物とを含むパターニング材料を基板に塗布する工程と；所定の微細パターンが形成されたモールドを、該塗布されたパターニング材料に圧接する工程と；該モールドと該パターニング材料とを圧接した状態で、該基板側からエネルギー線を照射する工程と；該モールドを離型する工程と；該パターニング材料に、該モールドが圧接されていた側からエネルギー線を照射する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント成形によって微細パターンを好適に形成することができる転写材料を提供する。
【解決手段】ナノインプリント成形に用いる転写材料において、有機ケイ素化合物と周期律表の３族〜１４族の金属化合物とを含有する微細パターン樹脂組成物。前記有機ケイ素化合物が、ポリシルセスキオキサン化合物である。前記金属化合物が、式Ｍ（ＯＲ）nで表される微細パターン転写材料。（式中、Ｍは周期律表第３族〜１４族に属する金属元素、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基もしくはフェニル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】レジストとモールドの離型性を改善するナノインプリント方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント方法は、加圧気体又は超臨界流体に、低分子の撥水剤を溶解する工程と、前記撥水剤が溶解した加圧気体又は超臨界流体を加圧浸透させて、前記樹脂薄膜が塗布された基板からなる被処理体の前記樹脂薄膜を柔軟にする工程と、前記被処理体の前記樹脂薄膜側に、ナノオーダーのパターンが形成されたモールドを押し付けて前記パターンを前記柔軟化された樹脂薄膜に転写する工程と、該転写後に前記加圧気体又は前記超臨界流体を減圧することにより前記樹脂薄膜を固化する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しモールドを押し付けてもレリーフパターンの形状が維持され、かつレリーフパターン表面が界面活性剤等の離型剤等で汚染されないナノインプリント用組成物が求められている。
【解決手段】炭素数１〜１００の有機基を有するフルオロシルセスキオキサンであるフッ素含有化合物（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物、および、当該組成物を基板に塗布し加熱することによって塗膜を形成し、当該塗膜にモールドを押し当て、モールドに刻まれたパターンのネガ像が形成されたレリーフパターンを形成する、レリーフパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】イトロ処理における添加剤の吐出量を調整して、適正で安定した燃焼状態を維持するようにしたイトロ添加剤吐出量制御装置を提供する。
【解決手段】燃料ガスおよび空気が供給されることによりワーク１１の火炎処理を行なうバーナー１３に対して、バルブから導入されるイトロ添加剤の添加量を調整するイトロ添加剤吐出量制御装置２０であって、バーナーの炎の色を撮像する撮像手段２１と、撮像手段２１からの撮像信号に基づいて、炎の色からイトロ添加剤の添加量を演算し、この演算結果であるイトロ添加剤の添加量に基づいて、イトロ添加剤の添加量が適正範囲内にあるかを判定する制御手段２２と、制御手段２２による判定結果に基づいて、バルブを調整することにより、イトロ添加剤の添加量を調整する調整手段と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】基板と、パターンを担持する硬化した無機ゾルゲルとからなるインプリントテンプレートを提供する。
【解決手段】インプリントテンプレートを作成する方法は、マスタインプリントテンプレートのパターン付き表面に硬化性材料を塗布し、硬化性材料を硬化し、それによってマスタインプリントテンプレートのパターン付き表面の逆であるパターン付き表面を有する第二インプリントテンプレートを形成し、マスタインプリントテンプレートから第二インプリントテンプレートを除去し、無機ゾルゲルを基板に塗布し、第二インプリントテンプレートで無機ゾルゲルにインプリントし、無機ゾルゲルを硬化させ、無機ゾルゲルがマスタインプリントテンプレートのパターン付き表面に対応するパターン付き表面を有する第三インプリントテンプレートを形成するように、硬化した無機ゾルゲルから第二インプリントテンプレートを除去する。 （もっと読む）