【課題】シートが加圧ツールや被圧着物に密着せず、圧着工程の作業性を改善することができると共に、シート自体の耐久性が良く周囲を汚染しにくい熱圧着用シリコーンゴムシートを提供すること。
【解決手段】ＪＩＳ Ｋ ６２２１に基づく揮発分の測定による水分以外の揮発分が０．５重量％以下であるカーボンブラックを含有してなる、厚さが０．１〜１０ｍｍのシリコーンゴムシート。該シートの少なくとも一方の表面は、エンボス加工によって設けられた算術平均表面粗さが０．８μｍ〜５μｍの凹凸を有する。また、前記凹凸は、未硬化のシリコーンゴムシートをエンボスの付いたロールに押し付けて、該エンボスを未硬化のシリコーンゴムシートに転写させ、次いで該未硬化のシリコーンゴムシートを硬化させることによって設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 精度劣化無く凹凸パターンを有する円筒状金型を製造すること。
【解決手段】 図１（Ａ）に示すように、母型である円筒１の表面には、第１の凹凸パターン２が形成されている。図１（Ｂ）に示すように、第１の凹凸パターン２が形成された円筒１のレジスト表面上にシリコーン樹脂層３を形成する。次に、図１（Ｃ）に示すように、シリコーン樹脂層３の周囲に円筒状のホルダー４を設置する。次に、図１（Ｄ）に示すように、円筒状のホルダー４を利用して円筒１と第１の凹凸パターン２をシリコーン樹脂層３から剥離する。次に、シリコーン樹脂層３をホルダー４の内部に固定する。次に、図１（Ｅ）に示すように、シリコーン樹脂層３の内周面に導電膜（導電層）５を形成する。次に、図１（Ｆ）に示すように、導電膜５上に電鋳し、金属層６を析出させる。次に、図１（Ｇ）に示すように、ホルダー４とシリコーン樹脂層３を除去し、円筒状の金型６を得る。 （もっと読む）

【課題】 空気層を持つ熱伝導率の低い、あるいは合成皮革を積層した、深い凹凸を形成するエンボス加工が困難な積層シートに凹凸模様を深くはっきりと形成させることができ、生産効率の高い凹凸模様を有する車輌の座席用表皮材及びその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、織物、編物から選ばれる少なくとも一種の表地と、軟質ポリウレタンフォーム材、織物、編物から選ばれる少なくとも一種のクッション層となる基材を積層一体化して得られた、空気層を持つ積層シート、あるいは合成皮革からなる表地と繊維質基材を一体化して得られた積層シートを、１００℃から２５０℃に温度設定された、所定の間隔で設置された一対のエンボスロールとヒートロールとの間を、加工スピード０．３ｍ／分から１０ｍ／分で押圧された状態で通過させることにより、表面に凹凸模様が深くはっきりと形成される車輌の座席用表皮材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐久性と、光学性能に優れるフレネルレンズ、生産性の高いその製造方法及びそれを用いた集光式太陽電池装置などを提供する。
【解決手段】フレネルレンズ成型層（Ａ）と透明な支持基板（Ｂ）とを有するフレネルレンズであって、フレネルレンズ成型層（Ａ）は、透明な軟質シリコーンゴムシートをマスター金型によりヒートプレスすることによって、フレネルレンズのノコギリ状の微細パターン条を転写形成してなることを特徴とするフレネルレンズ、その製造方法及びそれを用いた集光式太陽電池装置などを提供した。 （もっと読む）

【課題】可視光の波長（３８０ｎｍ）以下の微小パタンを有する構造体を、原版よりもはるかに大面積に拡大されている状態で製造する、広幅のロール式ナノインプリント装置用のインプリントロールの製造方法を提供する。
【解決手段】サブ波長構造体のポジ（又はネガ）パタンが形成されている小面積原版のパタン転写層を有する転写媒体による転写操作を繰り返すことによって転写面積を拡大することからなるロール式インプリント装置用の広幅ナノインプリントロールの製造方法であって、前記転写媒体として、原版のポジ（又はネガ）パタン面を紫外線硬化性又は電子線硬化性のポリシロキサン層に直接押圧転写した後、紫外線又は電子線を照射して形成されているサブ波長構造体のネガ（又はポジ）パタンを有する硬化ポリシロキサン層をロール表面に形成した小幅ナノインプリントロールを使用する。 （もっと読む）

【課題】インプリントリシグラフィにおいて基板の目標領域に対してインプリントテンプレートをアライメントする方法を開示する。
【解決手段】目標領域内に所定の体積のインプリント可能媒体１０６を堆積させ、インプリント可能媒体１０６が圧縮されるようにインプリントテンプレートをインプリント可能媒体１０６に接触させ、インプリントテンプレート、目標領域、またはそれらの両方が、目標領域とインプリントテンプレートの間の界面張力下で、相互に対して横方向に動くことを許容することからなり、そこで、基板より濡れない材料１０４が、基板の目標領域を少なくとも部分的に囲む構成で設けられる。 （もっと読む）

パターン化特徴部を調製する方法は、Ｉ）マスターに対して硬化性シリコーン組成物を鋳造する工程と、ＩＩ）硬化性シリコーン組成物を硬化してシリコーンモールドを形成する工程と、ＩＩＩ）マスターとシリコーンモールドとを分離する工程と、ＩＶ）パターン化表面を有するシリコーンモールドを硬化性エポキシ処方物で充填する工程と、Ｖ）硬化性エポキシ処方物を硬化してパターン化特徴部を形成する工程と、ＶＩ）シリコーンモールドとパターン化特徴部とを分離する工程と、任意にＶＩＩＩ）パターン化特徴部をエッチングする工程と、任意にＩＸ）シリコーンモールドを洗浄する工程と、Ｘ）任意にシリコーンモールドを再利用して工程ＩＶ）〜ＩＸ）を繰返す工程とを含む。 （もっと読む）

本発明は表面を構造化する方法、すなわち、剛性ガラス要素（１）及び該ガラス要素（１）に付着された少なくとも一つの層（１ａ）を含む製品の平表面上にサブミクロンスケールの横方向の特性寸法を有するパターン（ｆｅａｔｕｒｅ）のアレイを少なくとも一つ形成する方法に関し、構造化は前記層（１ａ）上で行われ、塑性変形又は粘塑性変形による表面構造化はマスク（１０）と呼ばれる構造化された要素との圧力下での接触によって行われ、構造化は製品の表面と平行な連続的な運動及び製品の表面の平面に平行な軸の周りのマスクの運動によって行われる。本発明はさらに、構造化された表面を持つガラス製品、及びその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】繊細な凹凸形状を有し、高級感のある緻密な賦型をすることができ、離型性に優れ、被賦型体に含まれるパール顔料等の意匠性付与顔料が脱離することなく、化粧板の装飾性に不具合が生じず、また、繰り返し使用しても、被賦型から脱離した意匠性付与顔料による鏡面金属板及び賦型シートの表面の汚れない化粧板の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に表面賦型層を有する賦型シートを用いて、被賦型体に賦型する化粧板の製造方法であって、被賦型体が意匠性付与顔料を含有し、表面賦型層が反応性シリコーンを含む電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化したものであることを特徴とする化粧板の製造方法である。 （もっと読む）

ナノ成形法は、７ｎｍ未満の特徴サイズを複製するインプリント法を包含する。ナノ成形法は、複製した特徴のエッジ粗さが２ｎｍ未満である。ナノ成形法は、以下の工程：ａ）その上にナノスケール特徴を形成させた第１の基板を形成し；ｂ）少なくとも１種のポリマーを第１の基板へ流し込み；ｃ）少なくとも１種のポリマーを硬化させて鋳型を形成し；ｄ）第１の基板から鋳型を取り外し；ｅ）その上に成形材料を適用した第２の基板を準備し；ｆ）鋳型を第２の基板へ押し付けて成形材料を鋳型の形状と一致させ；ｇ）成形材料を硬化させ；そしてｈ）第１の基板の複製を示す硬化した成形材料を有する鋳型を第２の基板から取り外すことを包含する。 （もっと読む）

本発明のナノパターニング方法は、レジストフィルム(12)を形成する工程、及び該レジストフィルム(12)にパターンを形成する工程を含む。該レジストフィルム(12)は、少なくとも2つのビニル基を持つ有機シリコーン化合物、該有機シリコーン化合物とは異なる、有機シリコーン架橋剤、触媒、及び触媒阻害剤を含む。硬化されたレジストフィルム(12)は、該触媒及び該触媒阻害剤の存在下で生成された、該有機シリコーン化合物と、該有機シリコーン架橋剤との間の反応生成物を含む。本発明の物品(10)は、基板(14)を含み、また該硬化されたレジストフィルム(12)は、該基板(14)上に設けられる。該レジストフィルム(12)における該触媒阻害剤の存在のために、該レジストフィルム(12)は、硬化を伴うことなしに、室温にて何時間にも渡り、取扱うことができる。同時に、該レジストフィルム(12)は、工業的に価値あるものと考えられる、十分に短い期間内に硬化する。 （もっと読む）

マイクロ構造体を形成する方法は、シリコン含有エラストマーの表面の一部分を選択的に活性化するステップと、その活性化された部分を物質に接触させるステップと、その活性化された部分と物質とを結合させて、その表面の活性化された部分及びその活性化された部分に接触する物質が不可逆に接着されるようにするステップと、を備えている。前記選択的な活性化は、シリコン含有エラストマーの表面にマスクを配置し、そして前記露出部分にＵＶ放射線を照射することにより達成できる。 （もっと読む）

本発明はサブミクロンのデカール転写リソグラフィの方法を提供する。この方法は、第１のシリコン含有エラストマー２００の表面内に第１のパターンを形成する段階と、第１のパターンの少なくとも一部分を基板２１０に接着する段階と、第１のシリコン含有エラストマー及び基板のうちの少なくとも１つの一部分をエッチング２２０する段階とを含む。
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【課題】高解像度インプリントを可能にするリソグラフィ方法を提供する。
【解決手段】インプリント可能媒体で実質的に覆われた基板４０において、基板上のインプリント可能媒体から成る離隔した第一および第二ターゲット領域を、第一および第二テンプレート（４１、４２）にそれぞれ接触させて、平行かつ隣接して動かし、テンプレート４１、４２で定められたパターンをインプリント可能媒体にインプリントした後、第一および第二テンプレートをインプリント済み媒体から分離する。 （もっと読む）

本発明では、ソフトリソグラフィー用スタンプ（30）、およびそのようなスタンプ（30）を製作する方法が提供される。本発明によるスタンプは、ブロック領域（37）およびプリント領域（38）を有する。ブロック領域（37）は、プリント領域（38）を構成する材料とは異なる材料で構成され、プリント化合物に対する透過率、拡散率、吸収率または吸着特性が抑制されており、これにより、ブロック領域から被パターン化基板もしくは被プリント基板への、プリント化合物の化学的もしくは物理的な輸送もしくは転写が防止され、または有意に抑制される。この方法では、スタンプ（30）にプリント化合物を含浸させると、プリント化合物は、プリント領域（38）にのみ拡散するため、プリント化合物は、被パターン化基板のプリント領域（38）にのみ転写され、突出素子（32）同士の間の空気ボイド（33）を介したプリント化合物の拡散は、実質的に生じない。
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本発明は、基板表面上にパターン、特に一、二または三次元の選択された長さのマイクロサイズおよび／またはナノサイズの特徴部を有する構造を含むパターンを作製するための方法、デバイスおよびデバイスコンポーネントを提供する。本発明は、各種基板表面および表面形態上に高解像度パターニングを与えるために、ヤング率および曲げ剛性等の選択された機械的特性、厚さ、表面面積およびレリーフパターン寸法等の選択された物理的寸法、および熱膨張係数等の選択された熱的特性をそれぞれが有する複数のポリマー層を備える複合パターニングデバイスを提供する。 （もっと読む）

本発明は、転写パターン層とは異なる材料からなるベースによって支持された、ポリマー材料からなるポジ型突起パターン表面を備えた転写パターン層を有する転写用成形型に関する。転写パターン層は、周囲温度で硬化可能な組成物から形成される。本発明はまた、転写用成形型のポジ型又はネガ型複製品を製造する方法ならびに転写用成型型の成形後の複製品（レプリカ）から微細構造体（例えば、プラズマバリアリブ）を製造する方法に関する。
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物質表面上への三次元ミクロ構造形成方法、その使用及び得られたミクロ構造化製品。詳細にはサポートの平面上に三次元ミクロ構造を形成する方法であり、上記サポート表面上への平らで均一な第一シリコーン層の適用ステップ及び上記第一シリコーン層上への三次元的にミクロ構造化された第二シリコーン層の適用ステップを含み、上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層は積層的に結合されて、サポート表面上に規則的に分散され抗粘着性を確保する通常の三次元ミクロ構造を形成し、基板のフレキシブル表面、特に上記シリコーン層上に配置された粘着材の表面も２個のシリコーン層により形成された三次元ミクロ構造の逆転写によりミクロ構造化され、上記シリコーン層は、加熱、紫外線若しくは電子線照射等による硬化により固定される方法、その使用及びミクロ構造化されたフィルム、特に自己粘着性フィルム。
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本発明は、（ｉ）形状を含有する種型の表面が硬化されたシリコーン樹脂基材に面するように、種型と該シリコーン樹脂熱硬化性基材とを重ねること；（ｉｉ）該種型の軟化点よりは低いが該シリコーン樹脂のＴｇよりもわずかに高い温度での加圧下で（ｉ）の生成物に圧力をかけること；（ｉｉｉ）（ｉｉ）の生成物を冷却して、かつ該型への圧力を維持すること；および（ｉｖ）該基材を剥離して、それゆえ該形状が該シリコーン樹脂基材上に刻まれること；を含む、硬化されたシリコーン樹脂熱硬化性基材をエンボス加工して種型から該基材上にパターンを刻む方法に関する。硬化されたシリコーン樹脂熱硬化性基材は、非常に滑らかな表面を提供することによって熱エンボス加工リソグラフィーに有機熱可塑性プラスティック以上の利点を提供し、マイクロメーターおよびナノメーターの領域内で複製の高忠実性を促進し、離型のための剥離剤が必要ない。

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