【課題】基体からの剥離のおそれがほとんどない、高い精度の凹凸パターンを有するインプリント用モールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平坦化剤の塗布により基体主表面の凸凹４を埋めた上で、最表面には所望の凹凸パターン６’が形成されている平坦化剤層６を有することを特徴とするインプリント用モールド。 （もっと読む）

【課題】塗布された反転材の段差を小さくし、反転マスクプロセスにより所望のパターンを形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上の第１領域に第１パターンを形成する工程と、前記第１パターンを覆うように前記被加工膜上に感光性化合物を有する反転材膜を形成する工程と、前記反転材膜を露光及び現像し、前記被加工膜上の前記第１領域とは異なる第２領域において、前記反転材膜を第２パターンに加工する工程と、前記反転材膜を露光及び現像した後、前記第１パターンの上面が露出するように前記反転材膜をエッチバックし、前記第１領域において前記反転材膜を第３パターンに加工する工程と、前記第２パターン及び前記第３パターンをマスクとして前記被加工膜をエッチングする工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に予め存在するパターン領域に形成されるパターンと、新たに形成する樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置１は、型８に形成されているパターンを基板１０上の樹脂１４に転写する。このインプリント装置１は、型８に力を加え、型８に形成されているパターン領域を変形させるモールド形状補正機構２０１と、基板１０上に形成されている基板側パターン領域２０を加熱し、基板側パターン領域２０を変形させるウエハ加熱機構６と、型８に形成されているパターン領域８ａと、基板側パターン領域２０との形状の差に関する情報を得、得られた情報に基づいて、型８に形成されているパターン領域８ａと基板側パターン領域２０との形状の差を低減するように、モールド形状補正機構２０１およびウエハ加熱機構６を制御する制御部７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 モールドの表面に励起光を照射することなく、モールドのパターン欠陥を検知するインプリント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、型に形成されたパターンと、基板に供給されたインプリント材とを接触させることで、インプリント材にパターンを転写するインプリント装置であって、発光物質を発光させる励起光を照射する照射部と、発光物質から発光する光を検出する検出部と、発光物質を含む型を保持する型保持部と、を備え、インプリント材にパターンが転写された後、照射部はインプリント材に転写されたパターンに励起光を照射し、検出部はインプリント材に残留した発光物質から発光する光を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の上のインプリント材から型を離型するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上のインプリント材を型で成形して硬化させ、硬化したインプリント材と前記型とを離すことで前記基板にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型を保持して移動する保持部と、前記基板を保持して移動するステージと、前記インプリント処理を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記基板のショット領域のうち外周ショット領域に前記インプリント処理を行う際には、前記外周ショット領域に対して供給されたインプリント材のうち前記基板の半径方向に沿って最も外側の部分の少なくとも一部が前記型と最後に離れるように、前記保持部及び前記ステージの少なくとも一方を制御することを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く、かつ安価な複製モールドを提供する。
【解決手段】本発明に係る複製モールド１は、ナノインプリント用の複製モールド１であって、基体１０と、基体１０上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体２０とを具備する。複製モールド構造体２０は、押し込み弾性率が４０００Ｎ／ｍｍ^２以上、７４０００Ｎ／ｍｍ^２以下であり、線熱膨脹係数が１０×１０^−５Ｋ^−１未満であり、かつ、３６５ｎｍにおける透過率が７０％以上である。 （もっと読む）

【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン刑生体を提供することを目的とする。
【解決手段】レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 （もっと読む）

【課題】低反射特性に優れた表面微細構造を成型する。
【解決手段】原版の基板材料として、ニオブ酸リチウム単結晶基板４１を用い、この基板４１の表面上に、ドライエッチング用のマスクとしてＣｒなどの金属薄膜４２を成膜してこの上に樹脂微細パターン４４を生成し、これをマスクとしてエッチングを行って、金属微細パターン４５を得る。この金属微細パターン４５をマスクとして金属微細パターン４５を収縮しながら、ニオブ酸リチウム単結晶基板４１をエッチングすることで、微細構造中に平坦な面の殆ど存在しない構造を生成する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン１３を表面に有するモールド本体１２と、この表面に形成された離型層１４とを備えたナノインプリント用のモールド１において、離型層１４が、主鎖を構成する原子数が２０未満である短鎖離型剤２０と、主鎖を構成する原子数が２０以上である長鎖離型剤２２とを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、インプリント部材の剛性によらず、いかなるインプリント部材を使用しても、モールドの凹凸パターンをその中央部分からレジストに接触させることを可能とする。
【解決手段】ナノインプリント装置１０において、インプリント部材１が所定の撓み状態を維持するように、インプリント部材１に外力を作用させてそのインプリント部材１に永久歪みを付与する歪み付与デバイス２０と、歪み付与デバイス２０によって永久歪みが付与されたインプリント部材１を使用して、モールド１の凹凸パターン２を基板６上に配置されたレジスト７に押し付けて、レジスト７に上記凹凸パターン２を転写するインプリントユニット４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】モールドを樹脂に押し付けたときの圧力によって凝縮する気体の樹脂に対する溶解量の不均一性を低減し、転写されるパターンの均一性の向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上にモールドのパターンを転写するインプリント装置であって、前記基板の上に供給された樹脂に前記モールドを押し付けた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板の上に前記モールドのパターンを転写するインプリント処理を行う処理部を有し、前記樹脂には、フッ素化合物を含む気体又は液体が溶解されていることを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】実施形態によれば、下地段差に起因するパターン加工不良を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上に第１のインプリントレジストを形成し、第１のテンプレートの平坦面を第１のインプリントレジストの表面に接触させた状態で第１のインプリントレジストを硬化させ、第１のインプリントレジストの表面を平坦化する工程を備える。また、第１のインプリントレジストの平坦面上に形成された中間転写膜上に第２のインプリントレジストを形成し、第２のテンプレートの凹凸を第２のインプリントレジストに接触させた状態で第２のインプリントレジストを硬化させ、第２のインプリントレジストに凹凸パターンを形成する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】光インプリント材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）及び／又は式（２）で表されるシリコーン骨格を有する化合物および光重合開始剤を含む光インプリント材料。


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【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型８は、被処理体１３に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部８ａを有する。パターン部８ａが設置されている側の面は、パターン部８ａが配置された第１面と、パターン部８ａが配置されていない第２面８ｂとを含む。型８は、第２面８ｂの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜４０（４２、４５）を有する。 （もっと読む）

【課題】繰り返してパターン形成しても、パターン形成性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および非重合性化合物（Ｃ）を含有するインプリント用硬化性組成物であって、該インプリント用硬化性組成物に対する前記非重合性化合物（Ｃ）の溶解が発熱的であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】レプリカモールドの製造に際し、ブランクモールドの凸部に対してパターン部を形成するのに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置１は、被処理部材７を保持しつつ移動可能とする部材保持部３と、原版１３を保持しつつ移動可能とする原版保持部４と、原版保持部４に設置され、被処理部材７の表面との距離を計測する計測部１６と、被処理部材７に対して原版保持部４を平面駆動させつつ計測部１６が計測した計測値に基づいて凸部７ａの位置を特定し、凸部７ａとパターン部１３ａとの位置合わせを実施させた後、部材保持部３または原版保持部４の少なくともいずれか一方を駆動させることで接触を実施させる制御部６とを有する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段１０を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段１０により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段１２を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段１２により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段１３を具備する。 （もっと読む）