【課題】 両面インプリント装置においてディスクを選択的に剥離できる光インプリント方法を提供する。
【解決手段】 前記方法は、両面インプリント装置において、下面側スタンパ装置を上面側スタンパ装置に対峙させた後、下面側スタンパ装置に載置された、両面にレジストが塗布された被転写体に上面側スタンパ装置を押圧しながら、前記被転写体のレジストに下面側スタンパ装置のＵＶ光源及び上面側スタンパ装置のＵＶ光源から紫外線を照射して前記レジストを硬化させ、硬化レジストに前記スタンパのパターンを転写する際に、下面側スタンパ装置に配設されたＵＶ光源の照射時間を上面側スタンパ装置に配設されたＵＶ光源の照射時間よりも短くすることにより、転写済みディスクを下面側スタンパ装置から選択的に剥離させることができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂のパターン形成部に混入する気泡を減少させつつ、パターン形成部の欠陥の発生を抑えることが可能なインプリント装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板５上の未硬化樹脂５２とモールド３とを互いに押し付けて、基板５上に樹脂５２のパターンを形成するインプリント装置１に係る。ここで、モールド３は、基板５に対向する側の中央部に、樹脂５２と接触する凹凸パターン３ｃが形成される平板部３ａと、外周側に壁部３ｂとを有する箱形の形状を有する。このインプリント装置１は、壁部３ｂの垂直面３ｄを引き付けて保持する保持部２４を有するモールド保持装置４を備え、該モールド保持装置４は、平板部３ａの中央部と壁部３ｂとの間の形状を変形させるモールド変形機構５０を備える。 （もっと読む）

【課題】コンタクト・リソグラフィ・プロセスで使用されるインプリンティングの方法を改善する必要がある。
【解決手段】 本発明は、モールド（１３６）を含むテンプレート（２１４）内に変形を形成することを含む、固化したインプリンティング材料からモールドを分離する方法を提供する。変形（Ｐ２）は、固化したインプリンティング材料とモールドの間の接着力よりも大きな戻り力を生み出すのに十分なものである。例えば変形は、ポンプ・システム（５４６）によって、モールドと、モールドとは反対側のテンプレートの側面との間に生み出される圧力差から生じ得る。このようにして、歪みが、上に固化したインプリンティング材料が配設された基板に接触するのに十分な大きさの、テンプレート内の起伏になることができる。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写した後、被成型品に貼り付いているシート状モールドを被成型品から剥がすモールド剥離装置において、装置の構成を簡素化する。
【解決手段】転写装置５から離れた箇所に位置しお互いがくっついているモールドＭＡと被成型品Ｗとのうちの被成型品Ｗを保持する被成型品保持体１９と、被成型品保持体１９で保持された被成型品Ｗに貼り付いているモールドＭＡが巻き掛けられ被成型品保持体１９に対して移動することで、被成型品ＷからモールドＭＡを剥がす剥離ローラ２３とを有するモールド剥離装置７である。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射し、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。続いて、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面にテンプレートの表面に紫外線を照射しながら、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する（工程Ａ３）。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する（工程Ａ４）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）

【課題】熱インプリントリソグラフィー技術を用いて、ベンゾシクロブテン樹脂のパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記式（２）：


で表されるジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテンを重合して得られるベンゾシクロブテン樹脂を含む層を基板上に形成する工程、前記ベンゾシクロブテン樹脂を含む層に、加熱及び加圧しながらモールドを押しつけ、該ベンゾシクロブテン樹脂を含む層にパターンを形成する工程、及び冷却後に、前記パターンが形成されたベンゾシクロブテン樹脂を含む層を前記モールドから離型する工程を有し、前記加熱の温度が１５０℃乃至３５０℃である。 （もっと読む）

【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド１を、基体２と、この基体２の一方の面２ａに位置する転写形状部３と、少なくとも転写形状部３上に位置する濡れ性変化層４とを備えたものとし、濡れ性変化層４は第１の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第２の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 （もっと読む）

【課題】微細構造が転写成形された被成形体を付着基体から剥離する際に、剥離の部分や順序を制御し、転写成形された微細構造に損傷を与えることなく迅速に被成形体を付着基体から剥離することができる剥離治具本体、剥離治具及び剥離方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る剥離治具本体は、プレス式の微細構造転写成形装置により、前記微細構造が転写成形された被成形体をこれが付着したスタンパ、上金型又は下金型から剥離する剥離治具本体であって、前記被成形体の開放面側の縁部を保持固定する保持手段と、前記保持手段の前記被成形体を保持固定する保持部15を前記スタンパ、上金型又は下金型に対して垂直方向に上下動させるアクチュエータ20と、前記被成形体の縁部に空気を吹き付ける空気噴射手段と、前記保持手段、アクチュエータ20及び空気噴射手段の作動を制御する制御手段と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸パターンを転写する側のモールドと、転写される側の転写用基板とを剥離する際に、転写用基板のレジスト層に転写された微細凹凸パターンが損傷を受けることを効果的に防止できる。
【解決手段】基板上にレジスト層が形成された転写用基板１４のレジスト層１２に、モールド１０の微細凹凸パターン１０Ａを転写して硬化した後、転写用基板１４とモールド１０とを剥離する剥離工程を備えた微細凹凸パターンの形成方法において、剥離工程は、転写用基板１４の周縁部を固定した状態で転写用基板１４の基板裏面側を加圧して転写用基板１４を湾曲状に撓ませることにより、該撓みによって転写用基板１４とモールド１０との剥離を開始する第１の剥離工程と、基板裏面側を加圧した圧力を徐々に減少させて転写用基板１４に撓みの戻り力を作用させることにより、転写用基板１４の微細凹凸パターンのうちの第１の剥離工程で剥離されなかった微細凹凸パターン１２Ａを剥離する第２の剥離工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置の構成の複雑化を抑えながらインプリント処理のスループットおよび／または収率を向上させる。
【解決手段】インプリント装置は、基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させる。前記型は、ポーラス層を有する。前記インプリント装置は、前記型を保持するチャックと、前記チャックによって保持された前記型の前記ポーラス層から気体が排出されるように前記ポーラス層に気体を供給する供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜する。
【解決手段】成膜ユニットは、テンプレートＴの転写パターンＣの凸部Ｃ_１上面のみに離型剤Ｓを成膜する離型剤供給部１１２を有している。離型剤供給部１１２は、支持部材１２０を有している。支持部材１２０には、凸部Ｃ_１上面に当接して、当該凸部Ｃ_１上面に離型剤Ｓを塗布する第１のローラ１２１と、第１のローラ１２１と同軸方向に延伸し、当該第１のローラ１２１と当接する第２のローラ１２２と、第２のローラ１２２の表面に液体状の離型剤Ｓを供給する離型剤ノズル１２３と、凸部Ｃ_１上面に塗布された離型剤Ｓに気体を供給し、当該離型剤Ｓを乾燥させる乾燥ノズル１２４と、が支持されている。 （もっと読む）

【課題】パターン形成において成形材と被成形材とを迅速に剥離させることが可能な、新規かつ改良されたインプリント方法を提供する。
【解決手段】所望のパターンが形成されたモールド１０をレジスト３０に圧着させることによりモールド１０の反転パターンをレジスト３０に転写する転写工程と、加熱または光の照射によりレジスト３０を硬化させる硬化工程と、硬化工程によりレジスト３０が硬化した後、モールド１０とレジスト３０とを剥離する剥離工程と、を含み、剥離工程は、モールド１０をレジスト３０の圧着方向と反対方向に引き離す引離し工程と、レジスト３０をモールド１０の圧着方向と同方向に押し付ける押付け工程と、を含むことを特徴とするインプリント方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、従来よりも効率良く転写をする。
【解決手段】被成型品Ｗの正確な位置に、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写すべく、型Ｍと被成型品Ｗとの相対的な位置の調整を行う位置調整装置５と、相対的な位置の調整がされた型Ｍで被成型品Ｗを押圧して型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写する転写装置７と、転写装置７を用いた転写がされた後にお互いにくっついている型Ｍと被成型品Ｗとを分離する離型装置９とを有する転写システム１である。 （もっと読む）

【課題】インプリントにおいて、モールドと被加工基板上の樹脂とを離型するに際して、離型速度を制御して離型時の欠陥発生を低減したモールドおよびそのモールドを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】凹凸のパターンを形成したモールドを被加工基板上の樹脂に押し付け、前記樹脂を硬化させるとともに前記樹脂に前記パターンを転写した後、前記モールドを前記樹脂から離型するインプリント法に用いるインプリント用モールドであって、前記モールド上の前記パターンが、転写すべき主パターンと、離型する際の離型力調節用のダミーパターンとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】離型時の欠陥を抑制したナノインプリント方式のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】凹凸１２が設けられた転写面１０ａを有する型１０の転写面を、被処理基板２０の主面２０ａに設けられた転写材３０に転写するパターン形成方法であって、転写面と転写材との間、及び、被処理基板と転写材との間、の少なくともいずれかに、光の照射によって形状が変化する光変形層４０を介在させた状態で、凹凸の凹部に転写材を充填させる充填工程と、凹部に転写材を充填させた状態で転写材を硬化させる硬化工程と、転写面に平行な平面内で強度が変化する光を光変形層に照射して、光変形層を変形させ、転写面と、硬化した転写材と、を離型させる離型工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスク基板とモールドの中心位置合わせを簡単かつ高精度に行うことができるインプリント装置およびインプリント方法を提供する。
【解決手段】中央部に貫通孔を有する基板とモールドとを密着させて、前記モールドの凹凸パターンを前記基板に転写するインプリント装置であって、前記基板を、前記基板の貫通孔の周縁部に当接させて支持する支持手段と、前記支持手段に支持された基板と前記モールドとが密着するように前記基板に押圧を加える加圧手段と、前記支持手段に支持された基板を前記モールドから離型させる方向に付勢を与える付勢手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】針状、円錐あるいは台形状等種々の形状の貫通孔を明けることができ、バリや穴底の丸まりや形状不良がほとんど無く、形状・寸法精度に優れ、大面積にわたり均一な性状の微細孔を有する樹脂シートを製造する方法を提案する。
【解決手段】本発明に係る樹脂シートの微細貫通孔成形方法は、微細突起を有する加熱されたスタンパ上に樹脂シートを供給する段階と、前記樹脂シート上に溶融樹脂媒体を供給する段階と、前記溶融樹脂媒体を介して軟化した前記樹脂シートを押圧し、前記微細突起によりその樹脂シートを穿孔する段階と、前記溶融樹脂媒体及び前記樹脂シートを押圧しつつ冷却する段階と、固化した前記溶融樹脂媒体及び前記加工された樹脂シートを前記スタンパから剥離する段階と、前記加工された樹脂シートと前記固化した溶融樹脂媒体とを剥離する段階と、を有している。 （もっと読む）

【課題】 離型に有利な転写装置を提供する。
【解決手段】 転写装置は、型１０１を接触させることにより基板１０２上の被転写物にパターンを転写する。該装置は、基板を保持する基板ステージ４０２と、型を保持する型ステージ３０１と、基板ステージと型ステージとの相対的な位置決めを行う駆動手段３０２と、制御手段とを有する。また、型ステージは、型のパターン領域の外側にある型の所定領域が被転写物からの離型が開始する開始領域となるように被転写物に接触している型の所定領域を加熱する加熱手段（５０１〜５０３，６０３〜６０６）を含む。また、制御手段は、加熱手段により開始領域で離型が開始され、その状態から駆動手段により離型が行われるように、加熱手段および駆動手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れ、成形不良を改善できる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】サブマスター２０のガラス基板３の一方の面に対向する対向面の外形面積が、ガラス基板３の一方の面の外形面積よりも小さい。ガラス基板３とサブマスター２０との間に光硬化性樹脂５Ａを滴下又は吐出し、その後、樹脂５Ａをサブマスター２０又はガラス基板３に対して押圧する。その後、樹脂５Ａに光を照射させて樹脂５Ａを硬化させ、硬化により形成された凸レンズ部５をサブマスター２０から離型する。硬化工程では、サブマスター２０の周囲の樹脂５Ａを硬化させないように照射光を遮蔽しつつ、ガラス基板３とサブマスター２０の間の樹脂５Ａに光照射させた後、未硬化の樹脂５Ａを除去し、離型工程ではガラス基板３とサブマスター２０との外形面積の差により生ずる隙間部Ｓを介してガラス基板３を保持した状態でサブマスター２０を、硬化した樹脂５Ａから離型する。 （もっと読む）

【課題】 改善された安定剤を含むビニルエーテル・レジストを提供すること。
【解決手段】 本発明のレジスト組成物は、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する少なくとも１つのビニルエーテル架橋剤と、単官能性ビニルエーテル化合物を含む少なくとも１つの希釈剤と、上記単官能性ビニルエーテル化合物及び上記少なくとも１つのビニルエーテル架橋剤のうちの選択された一方又は両方に可溶性の少なくとも１つの光酸発生剤と、エステル位置、又はアルファ位置及び前記エステル位置、のいずれかで置換基で選択的に置換されたエステル化合物を含む少なくとも１つの安定剤とを含む、ＵＶインプリント・リソグラフィ用途に適したコーティング組成物である。当該レジスト組成物を用いたインプリント・プロセスによる像形成方法も開示される。 （もっと読む）