【課題】インプリント時のスタンパの均一な撓みとその復元力を利用してインプリント後にスタンパから基板を速やかに分離できると同時に、基板およびスタンパのパターン面に欠陥が入りにくくすることで、量産化に対応できるインプリント用スタンパおよびインプリント装置を提供する。
【解決手段】ヤング率が５０ＧＰａ以上５００Ｇｐａ以下、厚さが２００μｍ以上１０００μｍ以下であって、曲率が２×10^-5以上２×10^-3以下である反りを有する板状体からなり、その一面に転写すべき微細構造パターンが設けられているスタンパ。 （もっと読む）

【課題】複数のテンプレートに対して離型剤を連続的に成膜する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ラインＡに沿ってテンプレートＴを搬送する複数の搬送ローラを備えている。搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 インプリント・リソグラフィにおいて、インプリント中、基板を所定位置に保持する。
【解決手段】 インプリントすべき基板に接触するために、それ自体から延びて実質的に平らな上面に至る構造を有するチャック体と、前記基板を前記構造と接触した状態で保持する吸引力を生成するために、前記体を通って前記上面に延びる真空流システムとを設けた。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの交換を効率よく行い、複数の基板に対して所定のパターンを連続的に形成する。
【解決手段】インプリントシステム１は、テンプレート搬入出ステーション２、処理ステーション２００、インターフェイスステーション２０１、インプリントユニット３、ウェハ搬入出ステーション４とを一体に接続した構成を有している。インプリントユニット３では、テンプレートＴを用いてウェハＷ上にレジストパターンを形成する。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つインプリントユニット３側に所定のタイミングでテンプレートＴを搬入出する。ウェハ搬入出ステーション４は、複数のウェハＷを保有可能で、インプリントユニット３に連続的にウェハＷを搬入出する。処理ステーション２００では、テンプレートＴの表面に離型剤を成膜すると共に、テンプレートＴの表面を洗浄する。 （もっと読む）

インプリントリソグラフィシステムにおいて、テンプレートチャック上の引っ込んだ支持体が、上部に配置されたテンプレートの形状を変化させ、ナノインプリントリソグラフィプロセスにおいてテンプレートの外縁が早期に下方偏向するのを最小限に抑え、及び／又はこれを排除することができる。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの交換を効率よく行い、複数の基板に対して所定のパターンを連続的に形成する。
【解決手段】インプリントシステム１は、テンプレート搬入出ステーション２、処理ステーション３、インプリントユニット４、ウェハ搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。インプリントユニット４では、テンプレートＴを用いてウェハＷ上にレジストパターンを形成する。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つインプリントユニット４側に所定のタイミングでテンプレートＴを搬入出する。ウェハ搬入出ステーション５は、複数のウェハＷを保有可能で、インプリントユニット４に連続的にウェハＷを搬入出する。処理ステーション３は、テンプレートＴを搬送する複数の搬送ローラを備え、搬送中のテンプレートＴに所定の処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】精度良く微細なパターンを検査することが可能なナノインプリント用テンプレートの検査方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成されたナノインプリント用のテンプレート１００の裏面側からテンプレート１００に光を照射する工程と、光の照射によってテンプレート１００の表面近傍に発生する近接場光を検出する工程と、検出された近接場光に基づいてテンプレート１００の検査を行う工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】プレス機構などを使用せず、エアバブルによる転写欠陥の発生が無く、しかもスタンパの剥離が容易な微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】ベース板３の上面に第１の支柱９と第２の支柱が立設されており、前記第１の支柱の上端面に長尺スタンパ７の一端が固定されており、前記長尺スタンパの他端は前記第２の支柱に配設された昇降装置により上下に昇降可能に支持されており、前記長尺スタンパの下面側の微細パターンが存在する位置に対応する位置であって、前記第１の支柱と第２の支柱の間のベース板上面に、被転写体載置用ステージが配設されており、前記長尺スタンパの上面側であって、前記長尺スタンパの長手方向に沿って往復動する加圧装置が配設されている微細構造転写装置。 （もっと読む）

【課題】型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、簡素な構成で、転写不良の発生を防止する。
【解決手段】被成型品Ｗに、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写する転写装置３であって、水平方向を向いていて仮組立体ＴＡが面接触する平面である設置面３３を備えた設置体１３と、設置面３３から水平方向に突出し、仮組立体ＴＡの中央貫通孔に嵌まることで、仮組立体が重力で落下することを防止する支持体２７と、両端面が軸方向に垂直な平面に形成され、支持体が仮組立体の中央貫通孔に嵌まることで仮組立体の落下を防止しているときに、仮組立体が嵌まっている位置よりも支持体の先端側に仮組立体と並んで嵌まることで、支持体からの仮組立体の外れを防止するリング状の外れ防止体１８と、設置面と平行に対向し、仮組立体の他方の面を外れ防止体を介して押圧するための押圧体１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の上に形成した樹脂層の表面に、凹凸形状のパターンの変更、凸部の高さの変更が容易な凹凸形状を形成する凹凸形成方法の提供。
【解決手段】基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を有する塗布液を塗布し、形成された塗膜の表面に凹凸形状を形成させる凹凸形状形成方法において、前記基材上に、重合開始剤及び前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含む凹凸形状形成用塗布液を塗布し、塗膜を形成した後、前記基材の凹凸形状を形成させる所定位置に重合開始剤を含有した液体を局所塗布し、活性エネルギー線を照射することで前記凹凸形状を形成させることを特徴とする凹凸形状形成方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント後に媒体基板表面のレジストに押し付けられたスタンパを容易に剥離することができるインプリント装置を提供する。
【解決手段】凹凸パターンが形成されたディスク状のスタンパを保持する第１の金型と、レジストが塗布されたディスク状の基板を、前記第１の金型に保持された前記スタンパと対向させて保持する第２の金型と、前記第１の金型の周囲に配置され、前記第１の金型に保持された前記スタンパの外周部を真空吸引するための外側溝と前記スタンパの外周部を大気開放するための内側溝とが形成された吸着リングとを有することを特徴とするインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】面方向の圧力ないし衝撃に対して緩衝能力を有する、簡易な緩衝材料として使用可能なエンボス加工したラミネートを提供すること、および、このエンボス加工したラミネートを使用した緩衝封筒を提供すること。
【解決手段】紙（１１）にポリエチレン（１２）を積層したラミネート（１）をエンボス加工してなり、ラミネートの面に対し垂直で、紙の層からポリエチレンの層の方向に向かって、一定の高さで突出したエンボス（２）を多数設けて、エンボス加工したラミネート（３）とする。または、エンボスの表面側すなわち紙の層の側に、クラフト紙を表ライナ（４）として貼って、エンボス加工したラミネート（５）とする。緩衝封筒（７）は、このエンボス加工したラミネート（３または５）を材料として使用し、その２枚を、ポリエチレン（１２）の層を向かい合わせて重ね、両側および底部の三方をヒートシールして得る。 （もっと読む）

エンボス加工ウェブの作製プロセス。前駆体ウェブを成形構造体と静圧プレナムとの間に供給する。成形構造体は複数の離散型突出要素を有する。圧力は、前駆体ウェブを成形構造体の離散型突出要素と適合させるために、前駆体ウェブ及び成形構造体に対して静圧プレナムによって提供されて、エンボス加工ウェブを形成する。得られるエンボス加工ウェブは、開口近位端部を有する複数の離散型伸長要素を有する。
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【課題】ロール金型の外周面に形成された加工パターンを保護することができるロール金型の保護方法、及びこのようなロール金型を用いた光学シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ロール金型３の周囲にシート基材９を配置し、ロール金型３を回転させシート基材９の搬送を開始し、ロール金型３に紫外線の照射を開始し、ロール金型３とシート基材９との間にモノマーを供給し紫外線によりモノマーを硬化させ、加工パターンに相補的な光学パターンをシート基材９上に形成することにより、光学シートを製造する方法において、ロール金型３の外周面には、加工パターンを保護する保護膜２１が予め配置されており、保護膜２１は、供給されたモノマーによって、シート基材９に接着されてロール金型３から除去され、保護膜２１がロール金型３の外周面から除去された後に、光学パターンが連続して形成される。 （もっと読む）

【課題】 低コストで構成でき、能率的であるほか、小さなスペースにも設置しやすい、好ましいナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】 ナノインプリント装置１は、ワークＷの表面にモールドの微細パターンを転写する装置である。同装置１には、複数の保持部１１にそれぞれワークＷを保持することができ一定の停止角度位置で各保持部１１を停止させながら回転する回転テーブル１０を設ける。また、ワークＷへの樹脂塗布手段３０、ワークの加熱手段４０、およびワークへの転写手段６０を、それらの順序が上記回転テーブル１０の回転向きに一致するよう当該回転テーブル１０の回りに配置する。そして、停止角度位置にある各保持部１１とそれら各手段との間で、直線動作機構を用いてワークの受け渡しが行えるよう構成する。 （もっと読む）

マイクロ構造物品を作るのに有効であるキャスト成形法及びモールド成形法に関する。物品の表面に複数のマイクロ特徴部を含むことによって、他の特性、例えば高い疎水性を対象物に与えることができる。本明細書で説明するキャスト成形法及びモールド成形法の幾つかにより、マイクロ特徴部及びマクロ特徴部の両方を有する物品、例えば、マクロ特徴部又は選択したマクロ特徴部領域上に又はその中にマイクロ特徴部を有する物品を製造することがさらに可能になる。 （もっと読む）

【課題】低廉な設備費と少ないスペースでスループットを向上する。
【解決手段】本発明によれば、モールド２の転写面を基板１の被転写面に押し付けて転写面の凹凸パターンを被転写面に転写するインプリント装置において、モールド２の押し付けを行うためのバネ部材４６が備えられる。装置自身のバネ部材４６により押し付け力Ｆｉを付与できるので、外部のプレス装置を必要とせず、低廉な設備費と少ないスペースでスループットを向上することができる。 （もっと読む）

【課題】スタンパや被転写体を破損することなく、同一のスタンパで繰り返し転写を可能とする微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】微細な凹凸パターン６が形成されたスタンパ２を被転写体１に接触させ、前記被転写体１の表面に前記スタンパ２の微細な凹凸パターンＰを転写する微細構造転写装置Ａ１において、前記被転写体１の外周部の全周を保持する保持機構３を備え、前記被転写体１と前記スタンパ２との距離に対して、前記保持機構３と前記スタンパ２との距離が略等しくなるか、又は前記保持機構３よりも前記被転写体１の方が前記スタンパ２寄りに位置するように、前記保持機構３が前記被転写体１を保持している。 （もっと読む）

【課題】原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、高速で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供する。
【解決手段】エンボス装置１０は、エンボスロール２０およびバックアップロール３０から原反５０の進行方向に沿ってずれた位置に配置された第１案内ロール３５および第２案内ロール４０を有する。エンボスロール２０およびバックアップロール３０の少なくとも一方の径は、原反５０の幅方向中央部分５１ａに対面する位置において、原反５０の幅方向両端部５１ｂに対面する位置よりも、太くなっている。第１案内ロール３５および第２案内ロール４０は、原反５０の端部分５１bを圧しながら回転する。 （もっと読む）

【課題】型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置において、簡素な構成で、転写不良の発生を防止する。
【解決手段】被成型品Ｗに、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写する転写装置３であって、斜め上方を向いている所定の大きさの平面であって仮組立体ＴＡが面接触する平面である設置面３３を備えた設置体１３と、仮組立体ＴＡを設置面３３に面接触させて設置するときに、仮組立体ＴＡの一部と当接して、仮組立体ＴＡが重力で落下することを防止する支持体２７と、設置体１３の設置面３３と平行で対向している所定の大きさの平面であって、仮組立体ＴＡの他方の面が面接触する平面である押圧面４５を備え、設置体１３に設置されている仮組立体ＴＡを設置体１３と協働して挟み込んで押圧する押圧体１５とを有する。 （もっと読む）