【課題】 圧力損失が低く、高い強度を有するハニカムを製造することができるハニカム構造体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 炭化ケイ素粉末、バインダ及び添加材を含む原料組成物を成形することにより、多数のセルがセル壁を隔てて長手方向に並設された柱状のハニカム成形体を作製した後、上記ハニカム成形体を脱脂処理することによりハニカム脱脂体を作製し、さらに、上記ハニカム脱脂体を焼成処理することによりハニカム焼成体からなるハニカム構造体を製造するハニカム構造体の製造方法であって、上記原料組成物は、上記炭化ケイ素粉末として、炭化ケイ素粗粉末と上記炭化ケイ素粗粉末より平均粒子径（Ｄ５０）の小さい炭化ケイ素微粉末とを含むとともに、上記添加材として、金属酸化物粉末を含み、上記金属酸化物粉末の上記原料組成物中の配合量は、０．８〜４．０重量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温における全放射率が高く、基板載置装置に適した窒化アルミニウム焼結体を提供し、また、高温域においても充分な熱応答性を有する低パーティクル性の基板載置装置を提供する。
【解決手段】２００℃における全放射率が６０％以上であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体を用いた基板載置装置。発熱抵抗体を備える基体と、前記基体の表面に形成された突起部と、を具備する基板載置装置であって、前記基体の２００℃における全放射率が６０％以上である。 （もっと読む）

【課題】亀裂の発生を抑制して靱性の高い表面硬化高強度セラミックスを提供する。
【解決手段】アルミナ、ムライト、TiO₂、ZrO₂、Si₃N₄、SiC及びAlNの群から選ばれる１種以上の無機材料からなるマトリクスに炭化物の微細粒子を１vol％以上分散させた複合焼結体又は前記炭化物単体の焼結体を、１０００〜１４００℃で１〜３００時間の範囲内で熱処理後、電子線を照射して表面を硬化してなる表面硬化高強度セラミックスである。 （もっと読む）

【課題】 母基板の熱伝導率を向上できる回路基板およびその製法を提供する。
【解決手段】 窒化珪素質焼結体からなる母基板に導体層を形成してなる回路基板であって、基板が、Ｌｉを全量中０．００９〜０．０４６質量％含有することを特徴とする。このような回路基板の母基板は、窒化珪素粉末にＬｉ化合物をＬｉ_２Ｏ換算で全量中０．３〜１．５質量％添加した混合粉末を成形し、焼成し、Ｌｉを全量中０．００９〜０．０４６質量％含有せしめて作製される。 （もっと読む）

【課題】ＡｌＮ基板の高放熱特性を活かした上で、金属薄膜との密着性や金属薄膜の形成精度等を向上させることによって、マイクロ波集積回路等の薄膜デバイスの信頼性を高めることを可能にする。
【解決手段】ＡｌＮ結晶粒の平均粒径が３〜５μｍの範囲で、かつ粒径分布の標準偏差が２μｍ以下であり、かつ常温での熱伝導率が１６０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるＡｌＮ焼結体を作製する。ＡｌＮ焼結体の表面を、加工後の表面のスキューネスＲskが−１以上となるように中仕上げ加工する。中仕上げ加工されたＡｌＮ焼結体の表面を、算術平均粗さＲaが０．０５μｍ以下となるように鏡面加工し、加工表面のスキューネスＲskを０以上１以下に仕上げ加工する。ＡｌＮ基板の加工表面上に金属薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】高周波領域における低い誘電損失とともに高い熱伝導を有する低損失誘電体材料とその製造方法及び部材を提供する。
【解決手段】窒化ケイ素を主体とし、周期律表第３ａ族化合物、及び、不純物的酸素を含有する窒化ケイ素質焼結体からなり、該焼結体の粒界が結晶化され、かつ２ＧＨｚと３ＧＨｚにおける誘電損失が２×１０^−４以下であり、熱伝導率が９０Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上の高周波用低損失誘電体材料、その製造方法及び部材。
【効果】２ＧＨｚと３ＧＨｚにおける誘電損失が２×１０^−４以下で、かつ熱伝導率が９０Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上である高熱伝導・低誘電損失の高周波用低損失緻密質誘電体材料及び部材等を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる自在継手用トルク伝達部材およびその製造方法、さらに当該自在継手用トルク伝達部材を備えた自在継手を提供する。
【解決手段】固定ジョイント１を構成する自在継手用トルク伝達部材であるボール１３は、βサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成されている。そして、ボール１３の接触面であるボール転走面１３Ａを含む領域には、内部１３Ｃよりも緻密性の高い層であるボール緻密層１３Ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる摺動部材とその製造方法、および当該摺動部材を備えた摺動装置を提供する。
【解決手段】摺動装置である球面滑り軸受１を構成する摺動部材である外輪１１および内輪１２は、Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−Ｚの組成式で表され、０．１≦ｚ≦３．５を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成されている。そして、内輪１２および外輪１１と接触する面である外輪滑り面１１Ａおよび内輪滑り面１２Ａを含む領域には、内部１１Ｃ，１２Ｃよりも緻密性の高い層である外輪緻密層１１Ｂおよび内輪緻密層１２Ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる転動部材およびその製造方法、さらに当該転動部材を備えた転がり軸受を提供する。
【解決手段】深溝玉軸受１を構成する外輪１１、内輪１２および玉１３は、βサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成されている。そして、外輪１１、内輪１２および玉１３の転走面である外輪転走面１１Ａ、内輪転走面１２Ａおよび玉転走面１３Ａを含む領域には、内部１１Ｃ，１２Ｃ，１３Ｃよりも緻密性の高い層である外輪緻密層１１Ｂ、内輪緻密層１２Ｂおよび玉緻密層１３Ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】窒化ケイ素焼結体の強度や摺動特性の低下を抑制しつつ、加工性を向上させて製造コストの低減を図る。
【解決手段】窒化珪素焼結体は、窒化珪素結晶粒子と、２質量％以上１５質量％以下の範囲の焼結助剤成分とを含有する、窒化珪素焼結体を構成する窒化珪素結晶粒子は、短径Ｓに対する長径Ｌの比（Ｌ／Ｓ比）が５以上の針状結晶粒子を面積比で１０％以上含む。このような針状結晶粒子はＬ／Ｓ比の平均値が６〜８の範囲で、Ｌ／Ｓ比の標準偏差が０．８以上である。窒化珪素焼結体は例えばベアリングボール２として用いられる。 （もっと読む）

【課題】流動性の高い射出成形用窒化アルミニウム組成物、保形性が良好かつ脱脂性に優れるグリーン成形体、および寸法精度の高い窒化アルミニウム焼結体の実現に好適な射出成形用窒化アルミニウム粉末を提供すること。
【解決手段】下記条件（１）および（２）を充足する射出成形用窒化アルミニウム粉末；
（１）Ｄ₉₀／Ｄ₁₀≦３．５
（２）Ｄ₅₀≦１．０μｍ
〔Ｄ₉₀は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積％が９０％のときの粒子径であり、Ｄ₁₀は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積％が１０％のときの粒子径であり、Ｄ₅₀は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積％が５０％のときの粒子径である。〕。 （もっと読む）

【課題】 内部に流体を流すための流路を有するウエハ保持体について、長期にわたって使用しても液漏れのない、信頼性の高い接続構造を提供する。
【解決手段】 内部に流体を流すための流路が形成されたウエハ保持体であり、流路に接続して外部から流体を供給し排出するためのパイプ部材と、流路の両端部付近の内周面に形成された雌ネジ部と、パイプ部材の先端部付近に形成された雄ネジ部と、雄ネジ部のパイプ部材先端と反対側の端部に設けたフランジ部と、パイプ部材の先端から挿入されてフランジ部に当接するＯ−リングとを有する。ウエハ保持体及びフランジ部のＯ−リングと接触する各接触面の表面粗さは、Ｒａで２.０μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】反応焼結窒化ケイ素基焼結体を作製する際に、低温短時間で従来製品と同等の反応焼結窒化ケイ素基焼結体を作製する方法及びその製品を提供する。
【解決手段】ケイ素原料に対して、窒化触媒の効果を有するＺｒＯ_２を添加するとともに従来法に比べて低温短時間で反応焼結を行うことで、従来製品の反応焼結窒化ケイ素と同等の機械的特性を有する反応焼結窒化ケイ素基焼結体材料を作製する。
【効果】従来法と比べて低温かつ短時間の反応焼結によって、窒化ケイ素基反応焼結体が作製可能なため、低エネルギー消費で従来品と同等の機械的特性を有する反応焼結窒化ケイ素基焼結体を作製し、提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 水に触れながら摺動する水潤滑下で優れた耐摩耗性を示す耐摩耗性部材を提供する。
【解決手段】 水潤滑下で使用される耐摩耗性部材において、前記耐摩耗性部材は、窒化けい素を７５〜９７質量％、Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏの少なくとも１種を０．２〜５質量％、残部をＳｉ−Ｒ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ化合物（ただし、Ｒは希土類元素）を主とする粒界相を有する窒化けい素焼結体を具備すると共に、前記Ｓｉ−Ｒ−Ａｌ−Ｏ−Ｎ化合物の焼結体内部の存在比率Ｍ１と表面の存在比率Ｍ２との比Ｍ２／Ｍ１が０．９〜１．１の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来技術の問題を軽減するセラミック切削インサートを製造する方法およびセラミック切削インサートブランクの焼結後処理の効率的な方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、すぐに加圧成形できるセラミック粉末を準備する工程、すぐに加圧成形できる粉末を所望の形状の加圧成形体に加圧成形する工程、加圧成形体を高密度のセラミックブランクに焼結する工程およびセラミックブランクをタンブリングして焼結表皮を除去し且つ刃先丸めを行なう工程から成る粉末冶金処理を含んでなるプロセスにおいて、任意にウィスカを含む、酸化物セラミックまたは窒化物セラミックまたは混合セラミック材料に基づくセラミック切削インサートを製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生が少ない耐食性部材、例えばガスノズルを提供すること。
【解決手段】窒化アルミニウム質焼結体からなる基体の表面の一部をなす複数の柱状の窒化アルミニウム結晶粒子を有し、前記柱状の窒化アルミニウム結晶粒子の頂点と、該頂点を中心とした２０μｍ四方における柱状以外の窒化アルミニウム結晶粒子の頂点との最大高低差が４μｍ以上である領域を有すること。 （もっと読む）

【課題】 筒状部材は、上部より下部の方が析出したシリコンが堆積しやすく、下部の損傷が進むと全体を交換しなければならなかった。また、交換作業が容易ではなく、捕集効率が低下しシリコンを安価に製造することが困難であった。
【解決手段】 その内面でシラン系ガスを接触させてシリコン５を析出させる複数の反応部材６ａ〜６ｄが上下に積み重なって構成されているとともに、その内面が下方に拡がって傾斜している筒状部材６である。上側の反応部材に析出したシリコン５は下側の反応部材に接触しながら落下することがほとんどなくなり、そのまま鉛直方向に落下するため、下側の反応部材の損傷が抑制され長寿命化が図れる。また、反応部材６ａ〜６ｄの交換は損傷が進んだもののみを取り替えればよいため、部品コストが低減でき、短時間で容易に交換することができるので稼働率を低下させることなくシリコン５を安価に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】安価でありながら、十分な耐久性を安定して確保することが可能なβサイアロン焼結体からなる自在継手用トルク伝達部材とその製造方法、および当該自在継手用トルク伝達部材を備えた自在継手を提供する。
【解決手段】自在継手である固定ジョイント１は、軸１６に接続されたアウターレース１２と、アウターレース１２に接触し、アウターレース１２のアウターレースボール溝１２Ａを転走可能に配置されたボール１３と、ボール１３およびアウターレース１２を介して軸１６に接続された軸１５とを備えている。そして、ボール１３は、Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−Ｚの組成式で表され、０．１≦ｚ≦３．５を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体から構成される。 （もっと読む）

【課題】産業上有用な窒化硼素含有複合セラミックス焼結体を安価に提供しうる新規な製造方法を提案する。
【解決手段】水に対して不活性な有効量の結晶性乱層構造窒化硼素微粉末を窒化硼素以外のセラミック原料と混合したセラミック混合物を成形し、焼結する。 （もっと読む）

【課題】金属好ましくは耐熱超合金を機械加工するのに最適な組成を有し、良好な境界摩耗、許容できる逃げ面摩耗および十分な靭性を有する、金属切削工具用の窒化ケイ素系セラミック材料を提供する。
【解決手段】β−サイアロン（Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−Ｚ）と、結晶多形１２Ｈの相と、非晶質または部分的に結晶質の粒界相とから成り、イットリウムを含むセラミック材料であって、
ＳＥＭ写真の全面積に対する粒界相の面積の割合として測定される粒界相の量が５〜１５％であり、
Ｚ値が０．７以上で１．５未満であり、
Ｃｕ−ＫαＸ線回折図形中の２θ値＝３４°での結晶多形１２Ｈの相のピーク高さと、同じ回折図形中の２θ値＝３３°でのβ−サイアロンのピーク高さの比として測定される結晶多形１２Ｈの相の量が２〜２０％であり、
イットリウム含有量が３．５〜５重量％、好ましくは３．９〜４．５重量％であることを特徴とするセラミック材料。 （もっと読む）