【課題】 冷却効率が良好で、密着強度が高く信頼性に優れた半導体製造装置用部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体製造装置用部材は、窒化アルミニウム質基体１の表面に水酸化アルミニウムからなる被膜（水酸化アルミニウム膜２）が設けられていることを特徴とするものである。これにより、水酸化アルミニウム膜２は水分との濡れ性がいいので、水酸化アルミニウム膜２から窒化アルミニウム質基体１への伝熱が良くなり、冷却効率が良好な半導体製造装置用部材を実現できる。また、水酸化アルミニウム膜２と窒化アルミニウム質基体１との界面へのクラックの発生が抑制され、密着強度が高く信頼性に優れたものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＣＢＮ成形体であって、それの表面に耐熱性物質層が結合されている該ＣＢＮ成形体を製造するその場（ｉｎ−ｓｉｔｕ）方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、ＣＢＮ（立方晶窒化ホウ素）成形体であって、その表面に耐熱性物質層が結合されている該立方晶窒化ホウ素成形体を製造する方法において、ＣＢＮ粒子塊を、前記耐熱性物質層を形成することのできる材料と接触させて配置することによって、反応集合体を作る工程と、前記反応集合体を、ＣＢＮ成形体を形成するのに適した高温高圧条件にさらす工程と、を含む、上記方法である。 （もっと読む）

【課題】窒化珪素製の転動体を用いた電食防止効果に優れる転がり軸受において、更なる長寿命化を図る。
【解決手段】内輪と、外輪と、転動体と、保持器とを備える転がり軸受において、前記転動体が、焼結助剤で緻密化された窒化珪素からなり、表面の焼結助剤の偏析物の最大径が２０μｍ以下であり、かつ、残留焼結影響層の厚さが、該転動体の半径に対して１．０％以下であることを特徴とする転がり軸受。 （もっと読む）

【課題】 加工効率が高く、しかも欠けにくい窒化珪素質焼結体およびこれを用いた装飾部品を提供する。
【解決手段】 β−窒化珪素を主成分としてなり、Ｘ線回折法を用いて得られる、β−窒化珪素の（101）面および（210）面のそれぞれの回折強度をＩ（101），Ｉ（210）としたとき、内部における回折強度の比Ｉ（101）／Ｉ（210）は１よりも小さく、研磨された表面における回折強度の比Ｉ（101）／Ｉ（210）は１よりも大きい窒化珪素質焼結体である。回折強度の比Ｉ（101）／Ｉ（210）を上述のようにすることによって、内部から表面に向かって結晶の配向性が変化するので、内部および表面における回折強度の比Ｉ（101
）／Ｉ（210）が１よりも小さい場合に比べて、表面における破壊靱性は低くなり、加工
効率が高くなる。 （もっと読む）

【課題】比抵抗値を広い範囲内で調整することができると共に、比抵抗値の温度依存性を調整することが可能な導電性セラミックス焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】非導電性セラミックスの粗大粒子、微細粒子、及び／または、加熱により非導電性セラミックスを生成する原料を含む混合原料から成形体を得る成形工程、及び、成形体を焼成する焼成工程を具備し、成形工程でドーパントを含む化合物が添加された混合原料から成形体を得ることにより、及び／または、焼成工程をドーパントが存在する雰囲気下で行うことにより、微細粒子及び／または非導電性セラミックス生成原料に由来しドーパントとしてアクセプター及びドナーを含む半導体セラミックスの第一相１０と、粗大粒子に由来する非導電性の第二相２０とを備える焼結体を製造し、第一相におけるアクセプター及びドナーの濃度により、焼結体の比抵抗値及び比抵抗値の温度依存性を変化させる。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性を向上でき、またそのばらつきを効果的に抑制することができる窒化珪素質焼結体を提供する。
【解決手段】 単結晶試料についてラマン分光分析を行ったときの１２００ｃｍ^−１での散乱強度を基準散乱強度レベルＸ0として、その基準散乱強度Ｘ0からの増分散乱強度にて表した、５００〜５３０ｃｍ^−１に出現する最強の散乱ピークの高さをＹkとし、また、焼結体のラマン分光分析を行ったときのスペクトルプロファイルの、１２００ｃｍ^−１における基準散乱強度Ｘ0からの増分散乱強度Ｙ1として、Ｙ1のＹkに対する比Ｙ1／Ｙkを０．４以上とする。これにより、窒化珪素質焼結体の耐摩耗性を向上させることができ、また、そのばらつきも抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、伸縮性やドレープ性に優れ、高強度、高弾性率で、かつ複雑な形状を有する型に追随できる炭素繊維構造物、及び、衝撃強度、耐摩耗性、耐熱性、軽量性に優れ、厚肉成形品を得るのに適した炭素繊維強化炭化ケイ素複合材料（Ｃ／ＳｉＣ複合材料）を提供することを目的とする。
【解決手段】
炭素繊維強化炭化ケイ素系複合材料において、炭化ケイ素系材料の強化用炭素繊維構造物が、丸編みされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】クレータ摩耗の発生を低減し、耐チッピング性の向上を図った立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料を工具基体とする立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具、表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】 立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料からなる工具基体を超硬合金母材にろう付け接合した立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具、あるいは、さらに、工具基体と超硬合金母材の表面に硬質膜を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料の構成成分である立方晶窒化ほう素粒子の表面を、該粒子の平均直径の１／２以下の平均被覆厚さの酸化アルミニウムによって均一に切れ間なく被覆しておくことにより、クレータ摩耗発生の低減、耐チッピング性の向上を図り、また、蒸着時の高温によるろう付け部からの刃先の脱落防止を図る。 （もっと読む）

【課題】溶融金属めっき浴に浮遊する異物が付着し難い溶融金属めっき浴用の浸漬部材を提供する。
【解決手段】セラミックス複合材の全質量基準で、窒化硼素（ＢＮ）を２０質量％以上７０質量％以下配合した窒化珪素（Ｓｉ_３Ｎ_４）基セラミックス複合材を用いて溶融金属浴用の浸漬部材７４２を形成する。この浸漬部材７４２を溶融金属めっき装置１に付設される異物除去装置（ガスリフトポンプ７）に用いると、浸漬部材７４２に対する異物（ドロスＤ）の付着や固着が起こり難くなるので、浸漬部材７４２の交換頻度を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】窒化アルミニウム焼結体の表面に、高い密着強度及び高い反射率を有する酸化層が形成された窒化アルミニウム基板を提供することを目的とする。
【解決手段】窒化アルミニウム焼結体２の表面に窒化アルミニウムの酸化層３が形成された窒化アルミニウム基板１において、酸化層３は、酸化アルミニウムのマトリックス５中に窒化アルミニウム結晶粒子４が含有され、窒化アルミニウム結晶粒子４の含有率が酸化層３の表層側から焼結体２側へ近づくにつれて増加する構成である。酸化層３中の酸化アルミニウムのみからなる仮想の層の厚みが５〜２０μｍであり、焼結体２中の希土類元素の酸化物換算での含有量が３〜６質量％であり、カルシウムの含有量が０．００３質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】本質的にモリブデンケイ化物及びこの基本材料の合金を含有し、そしてその表面にアルミニウムオキシドを形成する加熱エレメント製造方法の提供。
【解決手段】シリコン、及びモリブデン化合物の混合物をアルミニウム化合物と混合することにより、実質的にＭｏ（Ｓｉ_１−ｘＡｌ_ｘ）_２及びＡｌ_２Ｏ_３を含む材料を製造することを特徴とし、シリコン及びモリブデン化合物はいずれも、Ｍｏ（Ｓｉ_１−ｙＡｌ_ｙ）_２を含み、そしてＡｌ_２Ｏ_３又はＡｌ（ＯＨ）_３から成るアルミニウム化合物のいずれかと混合され、所望によりＳｉＯ_２、Ｓｉ、及びＭｏ_３の１種以上と、あるいは又ＭｏＯ_３及びＡｌそしてＳｉ及び／又はＳｉＯ_２を含むシリコン及びモリブデン化合物と混合され、投入成分は共に少なくとも９８％に対応する純度を有する。混合物は発熱性の反応を起こし、そして／又は焼結される。（ｘ：０．４〜０．６の範囲） （もっと読む）

【課題】超硬合金層とサーメット層とが積層された複合焼結体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】原料に超硬合金層を構成する超硬粉末と、サーメット層を構成するサーメット粉末とを用意し、これらの粉末を積層した成形体を作製し、この成形体を焼結して超硬合金層12とサーメット層11とが積層された複合焼結体10を製造する。サーメット粉末には、Ti及びWを含み、有芯構造である固溶体の粉末を10質量％以上用いる。原料に、特定の組成からなる有芯構造の固溶体の粉末を利用することで、有芯構造となっていない固溶体の粉末や固溶体となっていない粉末を利用する場合と比較して、結合相との濡れ性を高められ、焼結性を向上することができる。その結果、超硬合金とサーメットとにおける焼結時の収縮挙動の差による変形を抑制して、適正な形状の複合焼結体を得易い。 （もっと読む）

本発明は、多結晶の立方晶窒化ホウ素（ＰＣＢＮ）の本体を固体のインサートとして又は支持体に取り付けられるものとして含む、その上に硬質かつ耐摩耗性のＰＶＤコーティングが堆積された、チップ除去による機械加工のための切削工具インサートに関する。前記コーティングは、Ａ層及びＢ層の互層の多結晶のナノ積層構造を含み、ここで、Ａ層は（Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｅ１）ＮでありＭｅ１は周期表の３、４、５又は６族からの金属元素の１種以上であり、Ｂ層は（Ｔｉ、Ｓｉ、Ｍｅ２）Ｎであり、Ｍｅ２は、Ａｌを含む周期表の３、４、５又は６族からの金属元素の１種以上であり、厚さは、０．５〜１０ｍである。本発明のインサートは、高温を発生する金属切削用途、例えば、鋼、鋳鉄、超合金及び硬化鋼の高速加工において特に有用である。
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【課題】製造工程が簡素でコストが安価であり、剛性が高い熱処理用ヒータを提供する。
【解決手段】本発明による熱処理用ヒータ１は、炭化ケイ素の多孔体を仮焼した仮焼体３と、仮焼体３の外表面を被覆した、絶縁材料からなる被覆材５とを備えている。従って、剛性が低い多孔体の仮焼体３を絶縁材からなる被覆材５で被覆することによって、耐久性および輻射効率が高く、製造工程がシンプルで低コストの熱処理用ヒータ１を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の態様は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、炭化硼素の有する高い比剛性率を持ちながら、炭化硼素とシリコンを反応させ表層部の状態を変化させることで研削性に優れた構造部材の作製を可能とした複合材料を提供する。
【解決手段】炭化硼素、炭化珪素、シリコンを主成分とする複合材料であって、前記炭化硼素の粒子にシリコンを含んでいることを特徴とする炭化硼素・炭化珪素・シリコン複合材料が提供される。 （もっと読む）

【課題】ＧａＡｓ単結晶等の成長に使用されるＢＮるつぼを低コストで製造する方法の提供。
【解決手段】
高分子フィルムを硼素と窒素を含む雰囲気で熱処理することにより窒化硼素（ＢＮ）に転化させてＢＮるつぼを製造する方法であり、より具体的には、高分子フィルムを硼素及び窒素を含むガス中で１２００℃〜２０００℃の温度で処理して少なくとも表面部が硼素及び窒素からなる中間体を生成させる第一の工程と、得られた中間体を２０００℃以上３０００℃以下の温度範囲で本焼成してＢＮるつぼを得る第二の工程とを含むＢＮるつぼの製造方法。 （もっと読む）

本明細書において、窒化アルミニウム製バッフルに関する方法及び装置が提供される。幾つかの実施形態において、半導体プロセス・チャンバで用いるためのバッフルが、窒化アルミニウムと金属酸化物結合剤とを含む本体を含むことができ、本体の表面上における金属酸化物に対する窒化アルミニウムの比は、該本体内における該比より大きいか又はこれと等しい。幾つかの実施形態において、本体は、中央ステムと、該中央ステムの下部に結合され、そこから半径方向外方に延びる外側環とを有することができる。幾つかの実施形態において、バッフルを製造する方法は、アルミニウム、窒素、及び金属酸化物結合剤を焼結して、その表面上に過剰な金属酸化物結合剤が配置されたバッフルの本体を形成し、表面から過剰な金属酸化物結合剤のバルクを除去するステップを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】セラミックスの曲げ強度及び接触強度を向上できる技術の提供。
【解決手段】ＳｉＣ微粒子１２を１０〜３０ｗｔ％含有するセラミックス焼結体１あるいはＳｉＣ製のセラミックス焼結体にショットピーニング処理によって圧縮残留応力を導入するとともに前記セラミックス焼結体１に亀裂２を形成した後、酸素含有雰囲気下で、前記ショットピーニング処理にて導入した圧縮残留応力を全て除去できる加熱温度よりも低い温度での熱処理によってＳｉＣを酸化させＳｉＯ_２を生成する熱処理工程を行うことを特徴とするセラミックス製品の製造方法、セラミックス製品５を提供する。 （もっと読む）

【課題】新規のＳｉＣセラミック材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は新規のＳｉＣセラミック材料とその製造方法に関する。本発明の炭化硅素（ＳｉＣ）材料は、炭化硅素（ＳｉＣ）セラミック材料であって、セラミック材料が炭化硅素粒子及び１又は複数の酸化物結合相から成り、炭化硅素がセラミック材料の全重量に基づき少なくとも７０重量％、好ましくは８０重量％、より好ましくは８０〜９５重量％の範囲で存在し、炭化硅素粒子の粒度分布が、ＳｉＣ細粒の少なくとも一部と非凝集ＳｉＣ大粒の少なくとも一部を含む少なくとも二峰性であることを特徴とするセラミック材料二峰性である。 （もっと読む）

【課題】 製品コストの低減化が容易に実現し得る安価なボールねじを提供する。
【解決手段】 ねじ軸１０の螺旋溝１２とナット２０の螺旋溝２２との間にボール３０を配してねじ軸１０とナット２０間で回転動力を軸方向推力に変換するボールねじにおいて、ボール３０は、Ｓｉ_６−ＺＡｌ_ＺＯ_ＺＮ_８−Ｚの組成式で表され、０．１≦ｚ≦３．５を満たすβサイアロンを主成分とし、残部不純物からなる焼結体で構成されている。 （もっと読む）