【課題】平衡厚さ未満の厚さを有する結晶化可能なガラスのフロートプロセス及び対応するフロートガラスを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックへ転移可能な板ガラスの製造方法において、ガラスストリップを、平衡厚さ以下の厚さで引き出し、結晶化可能ガラスの結晶成長速度がその最大（ＫＧ_ｍａｘ）である温度から、以下の式に対応する冷却速度でこれ以上結晶成長が行われない温度（ＵＥＧ）まで冷却する板ガラスの製造方法：


この式でＫＲは℃／分の冷却速度であり、ＫＧ_ｍａｘは最大結晶形成速度をμｍ／分で示している。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の表面の少なくとも一部分に結晶化層を積層している結晶化層積層ガラス、およびガラス基材の表面に積層された結晶化層の少なくとも一部分の厚みが他の部分とは異なっている結晶化層積層ガラス、および結晶化層積層ガラスを用いた磁気ディスク用ガラス基板、および端面部位の少なくとも一部に結晶化層を持つ磁気ディスク用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラスの母材となる出発原料と必要に応じて添加剤とを所定量電子天秤にて計量して混合して、るつぼで溶融し冷却してガラスとし、再加熱によりガラス表面に結晶化層を積層させて、主表面を部分的に研磨することにより結晶化層積層ガラスを製造する。これを用いて磁気ディスク用ガラス基板などとする。 （もっと読む）

【課題】 安価なマイクロレンズ及びマイクロレンズアレイを提供する。
【解決手段】 マイクロレンズアレイ１０は、レンズ部１と基質部２とを備えたマイクロレンズ３が二次元的に複数配列されて構成され、全体として平板状の外観を呈している。レンズ部１は、それぞれ、所定径の円柱状形態をなし、マイクロレンズアレイ１０の一方の表面側に位置する非晶質ガラスからなる非晶質部１ａと、他方の表面側に位置する結晶化ガラスからなる結晶質部１ｂとで構成される。非晶質部１ａの表面は、基質部２の表面の位置よりも湾曲状に隆起して、凸曲面状レンズ表面１ａ１を形成している。基質部２は、レンズ部１の結晶質部１ｂと同じ結晶化ガラスからなり、レンズ部１の周囲を包囲している。 （もっと読む）

【課題】ガラス中に着色剤を使用していないため、リサイクルが容易となる結晶化ガラス、結晶化ガラス建築材料及び結晶化ガラス物品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、ガラス相とガーナイト（ＺｎＯ・Ａｌ₂Ｏ₃）結晶とを有し、実質的に着色剤を含まない結晶化ガラスの部位が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、Ｌ＊が２０〜７０かつａ＊が０〜−５かつｂ＊が−１２〜−２５であること特徴とするものである。また、本発明の結晶化ガラス物品の製造方法は、ガラス原料を溶融してガラス成形体を形成する工程と、該ガラス成形体を熱処理して結晶を析出させる結晶化工程とを有する結晶化ガラス建築材料の製造方法であって、前記結晶化工程におけるガラス成形体の最高熱処理温度を７３０〜９５０℃にすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性マイエナイト型化合物を、安定してかつ低コストで製造することが可能な、工業化に適した製造方法を提供する。
【解決手段】前駆体を熱処理して導電性マイエナイト型化合物を製造する製造方法において、ＣａまたはＳｒと、Ａｌとを含有し、酸化物換算した、ＣａＯとＳｒＯの合計と、Ａｌ_２Ｏ_３とのモル比が１２．６：６．４〜１１．７：７．３で、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＡｌ_２Ｏ_３の合計が５０モル％以上である前駆体に対して、含有するＣａ、Ｓｒ、およびＡｌの合計原子数に対する原子数比で０．２〜１１．５％の炭素を含有させた炭素含有前駆体を、酸素分圧１０Ｐａ以下の雰囲気下で９００〜１４７０℃まで加熱して保持し次いで所定の冷却速度で冷却する熱処理を施すことにより、前記炭素含有前駆体を結晶化させて導電性マイエナイト型化合物を生成させる。 （もっと読む）

【課題】二枚の偏光ガラスを張り合わせる高性能のアイソレータ用の偏光ガラスを得る。
【解決手段】均一な方向に配向して分散した延伸金属粒子を含む偏光ガラスの製造方法であって、ハロゲン化金属粒子を内部に析出させた短冊形状のガラス母材を準備する準備工程と、ガラス母材の周囲に配したヒータでガラス母材を過熱し所定の応力を加えながら、ガラス母材の長手方向の外側に設けられた引張手段で引っ張ることにより、ハロゲン化金属粒子を延伸する延伸工程とを備え、延伸工程において、ガラス母材から生成した延伸ガラスの幅を均一に保ちつつ延伸する。 （もっと読む）

本発明は、ガラス、ガラスセラミック材料、ランプリフレクタおよびその製造方法に関する。ガラス材料は、全組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ₂、１９〜２２％のＡｌ₂Ｏ₃、３．４〜３．８％のＬｉ₂Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ₂、０〜２．５％のＺｒＯ₂、１．５〜３％のＢ₂Ｏ₃、０〜６％のＰ₂Ｏ₅、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ、および少なくとも一種類の清澄剤の効果的な量から生じる成分を有してなる組成を有する。本発明のガラスセラミック材料は、主結晶相としてβ石英固溶体を含有し、これはガラスセラミック材料の適切な熱処理によって得ることができる。このガラスセラミック材料は、７５ｎｍ未満の高い表面粗さＲａ、２０から３００℃の間で１０×１０^-7Ｋ^-1未満の低ＣＴＥ、および３ｍｍの厚さで８０％を超える約１０５０ｎｍでのＩＲ透過率を必要とする耐熱性ランプリフレクタに特に適している。
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【課題】 １０００℃以下の温度で焼成でき、しかも、０．１ＧＨｚ以上の高周波領域における誘電損失が低く、かつ銀導体と同時焼成を行っても多層基板が変形しないガラスセラミックス焼結体及びマイクロ波用回路部材を提供することである。
【解決手段】 本発明のガラスセラミックス焼結体は、質量百分率で、ＳｉＯ₂ ３５〜６５％、ＣａＯ １０〜３０％、ＭｇＯ １０〜２０％、ＺｎＯ １５〜３５％の組成を含有する結晶性ガラス粉末４０〜１００％と、セラミックス粉末０〜６０％を含むガラスセラミックス誘電体材料を焼成して、主結晶としてディオプサイド（ＣａＭｇＳｉ₂Ｏ₆）、ハーディストナイト（Ｃａ₂ＺｎＳｉ₂Ｏ₇）及びウイレマイト（Ｚｎ₂ＳｉＯ₄）の結晶を析出させたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は良好な光拡散性を有する乳白色または白色の低膨張結晶化ガラス、それを用いた結晶化ガラス部材、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２５０〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３２２〜２６％、Ｌｉ_２Ｏ３〜５％、の各成分を含有し、結晶相の平均結晶粒子径が１００ｎｍを超え、平均線膨張係数が０〜５０℃の温度範囲で３０×１０^−７／℃以下であることを特徴とする結晶化ガラス。また、ガラス原料を溶融する工程と、溶融したガラスを成形する工程と、成形したガラスを徐冷する工程と、徐冷後６５０〜７５０℃で０．１〜２００時間第１の熱処理をする工程と、第１の熱処理後８００℃〜１０００℃で０．１〜５０時間第２の熱処理をする工程を含むことを特徴とする結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉドープガラスを用いて、レーザ発振あるいは光増幅作用を示す波長範囲が格段に広く、その中心波長が光通信波長域にとって重要な１．１〜１．７μｍ帯にあるようなレーザあるいは光増幅器に使用できる光学特性を備えた広帯域光増幅媒体および光増幅器を提供する。
【解決手段】（ａ）ＳｉＯ₂が４０モル％以上、（ｂ）Ｌｉ₂Ｏが４０モル％以下、（ｃ）Ｇａ₂Ｏ₃とＬｉ₂Ｏを合わせた組成分が１５モル％以下で、（ａ）（ｂ）（ｃ）の合計が１００モル％となる組成のガラスを使用し、発光種として添加したＮｉを取り込む微小領域だけを限定的に結晶化する。 （もっと読む）

口腔疾患の治療において使用するための粒状、生物学的活性又は再吸収性バイオシリケートの製造のための方法及び組成物
ガラス質プレート又はフリットを単一の又は二工程の熱処理工程で、制御された温度と時間、熱処理し、ついで、結晶化ガラスを微粉砕して、所望の生物学的活性を有する、鋭利でかつ傷をつける端部のないそして体液と接触したとき、歯を再生させるヒドロキシカーボネート相を生じさせるか又は歯の組織によって徐々に置換され、吸収される結晶化、生物学的活性又は再吸収性のバイオシリケート粉末を得ることからなる、生物学的活性又は再吸収性バイオシリケートの製造方法。別法においては、最初、ガラス質粉末を取得し、ついで、これを熱処理して鋭利な、傷をつける端部のない結晶質、生物学的活性又は再吸収性のバイオシリケート粉末を得る。種々のプロセス条件について、種々の結晶相を取得し、その結果、そのまま又は組合せて、歯の過敏症、歯の亀裂及び口内乾燥症のごとき種々の口腔疾患の治療に使用し得る。バイオシリケート粒子の粒度分布は0.1〜30ミクロンである。 （もっと読む）

【課題】コンピュータ支援ミリングプロセスおよびコンピュータ支援トリミングプロセスによって容易に成形され得、その後、高い化学的耐性と優れた光学特性とを示す高強度の歯科用製品へと変換され得、そして上記最終変換の間に示す収縮がかなり小さく、そしてこれらの特性全てが、ＺｎＯを必要とせずに達成される材料を提供すること。
【解決手段】ケイ酸リチウム材料であって、機械加工によって、その器具が過度に磨耗することなく歯科用製品へと容易に加工可能であり、その後、高い強度を示すケイ酸リチウム製品へと変換され得る、ケイ酸リチウム材料。 （もっと読む）

ＳｉＯ_２，Ｂ_２Ｏ_３，Ｎａ_２Ｏ，Ｋ_２Ｏ，ＭｇＯ，Ａｌ_２Ｏ_３からなり、部分結晶を含み、温度５０℃から１５０℃までの範囲の平均熱膨張係数が１２５×１０^−７Ｋ^−１のガラスは、熱膨張係数が高い。そのため多層膜フィルタ用基板に適用すると、フィルタ特性の温度変動が十分に小さくなる。
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【課題】成形しやすく、曲げ強度が高い結晶化ガラス、およびそれを用いた光通信用デバイスを提供する。
【解決手段】β−石英固溶体またはβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶として析出し、−４０℃〜１００℃における平均熱膨張係数が−１６〜−４５×１０^-7／℃であって、質量％でＴｉＯ₂とＺｒＯ₂とＰ₂Ｏ₅の合量が０．５〜２．９％であり、モル比（Ｌｉ₂Ｏ＋ＺｎＯ）／ＳｉＯ₂が０．１５〜０．３５である結晶化ガラス。また、本発明の光通信用デバイスは、β−石英固溶体またはβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶として析出し、−４０℃〜１００℃における平均熱膨張係数が−１６〜−４５×１０^-7／℃である結晶化ガラスであって、質量％でＴｉＯ₂とＺｒＯ₂とＰ₂Ｏ₅の合量が０．５〜２．９％であり、モル比（Ｌｉ₂Ｏ＋ＺｎＯ）／ＳｉＯ₂が０．１５〜０．３５である結晶化ガラスを温度補償用部材に使用してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電界印加による帯電が発生しにくく、また破壊靭性が高く欠けやクラックが発生しにくいフィールドエミッションディスプレイ用結晶化ガラススペーサーの提供。
【解決手段】ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２系ガラスに、水素中または水素および窒素混合雰囲気中で６００〜９００℃で還元結晶化熱処理を施すことにより、モル百分率表示で本質的に、ＳｉＯ_２：２０〜５０％、ＴｉＯ_２：２５〜４５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ：２０〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３＋Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１０％、およびＺｒＯ_２：０〜１０％を含有し、主結晶として、Ｂａ_ＸＴｉ_８Ｏ_１６系結晶（Ｘ＝０．８〜１．５）、Ｂａ_２ＴｉＳｉ_２Ｏ_８系結晶およびＴｉＯ_２系結晶のうち少なくとも１つの結晶を含むことを特徴とするＦＥＤ用結晶化ガラススペーサーを提供する。 （もっと読む）

少なくとも６０重量％のＡｌ_２Ｏ_３および０．５〜１０重量％の範囲内のＳｉ０_２を含んでなる、ガラスおよびガラス−セラミックを製造するための方法。本発明に従って製造されるガラスは、ガラスビーズ、物品（例えば皿）、繊維、粒子、および薄層コーティングとされ、それらとして成形し、またはそれらに変換することができる。ガラスはフレームまたはプラズマ溶融によって製造される。本発明に従って製造されるガラス−セラミック粒子のいくつかの実施形態は、研磨粒子として特に有用であることができる。
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強度が増加したガラスまたはガラスセラミック材料を得るために、本発明は、ガラスまたはガラスセラミックの製品を製造する方法であって、原ガラス本体（１１）を製造する工程と、浮揚支持体（１）と原ガラス本体（１１）の間のガスクッション（１３）上に原ガラス本体（１１）を載置する工程と、浮揚支持体（１）上の原ガラス本体（１１）を少なくとも部分的にセラミック化する工程とを含む。前記浮揚支持体は、ガスクッション（１３）用の浮揚ガスを浮揚支持体から供給する少なくとも１つのガス供給領域（１５１、１５２、１５３）、およびガスクッション（１３）からのガスを浮揚支持体中に少なくとも部分的に排出する少なくとも１つのガス排出領域（１７１、１７２、１７３）を備える少なくとも１つの連続表面領域（３）を備える。
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【課題】シリコン単結晶引上げの高温使用下において機械的強度に優れ、引き上げ初期の有転位発生がほとんど無く、かつ単結晶化率の高い石英ガラスルツボを提供する。
【手段】シリコン単結晶引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、ルツボ底部を除くルツボ直胴部に、ルツボ内層とルツボ外層によって結晶化促進層を挟み込んだ構造を形成し、ルツボ底部には結晶化促進層を設けないことを特徴とし、例えば、結晶化促進層を有する部分が、ルツボ上端部から直胴部長さの５％以上の範囲であり、結晶化促進成分としてアルミニウム、またはアルカリ土類金属を５０〜５００ppm含有し、結晶化促進層の厚さが１mm以上である石英ガラスルツボ。 （もっと読む）

ガラスセラミック基板に装飾を焼き付ける際のハローイングを回避するために、本発明は、ガラス基板が製造又は用意され、酸化ケイ素を含有する層が基板上に付着され、装飾インクが酸化ケイ素を含有する層上に施され、そして装飾インクが焼き付けられる、装飾ガラスセラミック基板の製造方法であって、酸化ケイ素を含有する層が、基板の表面の少なくとも１つの領域を火炎により掃引すると共に、火炎に添加されたケイ素化合物を加水分解することによって火炎熱分解的に付着される、装飾ガラスセラミック基板の製造方法を提供する。
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【課題】
【解決手段】本発明はガラスセラミック複合成形体の製造方法であり、少なくとも二つのガラス状構成片、すなわちガラス状の鋳造体を接合、特に接着によって製造する方法に関する。上記ガラス状構成片は接合領域にて重なり合う方法で配列され、そこでは結合される接触表面が接触しており、結晶核形成段階においてガラス転移温度Ｔｇより高い温度Ｔ２に加熱され、その温度において結晶核が析出し、その後核形成段階において熱処理によって結晶化する。結合されるガラス状構成片と最適に事前核形成された構成片とは、粘性流の間に結晶化温度範囲にて材料に応じて相互に結合し、その接合表面の領域において拡散コンポジットが形成される。 （もっと読む）