【課題】材料の微細な熱処理加工に用いる熱源に適する材料を提供する。
【解決手段】光吸収能力に優れ、吸収した光を効率的に熱へ変化させることが可能な結晶化ガラスを提供する。具体的には、ガラスを熱処理することにより製造される結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量％で、Ｖ_２Ｏ_５、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＭｎＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ_２、Ｐｒ_２Ｏ_３、Ｓｍ_２Ｏ_３、Ｅｕ_２Ｏ_３、Ｔｂ_２Ｏ_３、及びＥｒ_２Ｏ_３から選ばれる１種以上の成分を１〜１０％含有する、結晶化ガラスを提供する。好ましくは所望の物性、特に低熱膨張性に優れた結晶化ガラスを提供する。かかる結晶化ガラスは、レーザを用いた微細な熱処理加工の熱源として利用することができる。 （もっと読む）

【課題】、酸化物ガラス中の広い領域に結晶を析出させることができ、酸化物ガラスの表面近傍や内部等の所望の領域に選択的に結晶を析出させることを可能とする結晶化ガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム及び銅からなる群から選択される少なくとも１種の赤外線吸収元素を含む酸化物ガラスを含有する結晶化ガラス用材料に赤外線を照射して、前記結晶化ガラス用材料中の少なくとも一部の前記赤外線吸収元素を結晶化温度以上に加熱することにより、前記結晶化ガラス用材料中に金属酸化物の結晶を部分的に析出せしめて結晶化ガラスを得ることを特徴とする結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

障壁材料で作製された少なくとも１つの容器であって、複数のガラス粒子が中に収容される内部空間を提供する、容器を含む、成形可能な物品。ガラスは、ガラス転移温度及び結晶化開始温度を有し、ガラス転移温度と結晶化開始温度との間の差異は、少なくとも約５°Ｋ（−２６８℃）であり、ガラスは、少なくとも２つの金属酸化物、０〜２０重量％未満のＳｉＯ₂、０〜２０重量％未満のＢ₂Ｏ₃、及び０〜４０重量％未満のＰ₂Ｏ₅からなる。成形可能な物品は、成形作業の前に、それらを清潔にかつ水分を含まないように保つことによって、ガラス粒子を保護する。成形可能な物品を作製する方法は、複数のガラス粒子から、捕捉された水分を除去する工程と、レセプタクルの中にガラス粒子を配置する工程と、物品を形成するためにレセプタクルを密封する工程と、を含む。成形可能な物品は、成形型に配置されてもよく、成形プロセス中に、ガラス粒子が成形物品に合着する際に、障壁材料は、本質的に燃焼する。
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【課題】リチウムイオン伝導性結晶化ガラスにおいて、リチウムイオン伝導性を低下させる微細な空孔が非常に少なく、緻密でリチウムイオン伝導性に優れた結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ＬｉＴｉ_２Ｐ_３Ｏ_１２の構造を有する結晶を少なくとも含む結晶化ガラスであって、前記結晶はＸ線回折測定を行ったときに得られる面指数１０４（２θ＝２０〜２１°）に帰属されるピーク強度の比Ｉ_Ａ１０４と、面指数１１３（２θ＝２４〜２５°）に帰属されるピーク強度Ｉ_Ａ１１３の比が、１＜Ｉ_Ａ１１３／Ｉ_Ａ１０４≦２であることを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】現在用いられているＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスよりも、高い透明性と曲げ強度を有する結晶化ガラスを得る。
【解決手段】Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスからの結晶核生成速度が最大となる温度で熱処理を施し、結晶化度を質量％で１０〜７０％にすることで、得られた結晶化ガラスの曲げ強度が３００ＭＰa以上となることを特徴とする結晶化ガラス。結晶相の平均粒径が０．１〜１．０μｍ、可視光透過率が板厚１ｍｍの時に９０％以上である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上の酸化チタン結晶相を有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上９０．０％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上８５．０％以下含有するものである。また、ガラスセラミックスの製造方法は、原料を混合してその融液を得る溶融工程と、前記融液を冷却してガラス体を得る冷却工程と、前記ガラス体の温度をガラス転移温度を超えた領域まで上昇させる再加熱工程と、前記温度を前記温度領域内で維持して結晶を生じさせる結晶化工程と、を有するものである。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上の酸化チタンを表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、ＺｒＯ_２成分及びＳｎＯ成分からなる群より選択される１種以上の成分を０．１％以上２０．０％以下含有するものである。 （もっと読む）

本発明は、高温石英混合結晶を主な結晶相として有し、避けることのできない極微量を除いては、清澄剤用の酸化ヒ素及び／又は酸化アンチモンを含まないガラスセラミックからなる、カラー表示能力が改善された透明な有色クックトップ又はハブであって、４５０ｎｍより大きい可視光の全波長範囲における０．１％を超える透過率、０．８％〜２．５％の可視光透過率、及び４５％〜８５％の１６００ｎｍの赤外線における透過率を特徴とする、クックトップ又はハブに関する。 （もっと読む）

ガラス微粒子の靭性を増加させるためのプロセスが提供される。本プロセスは、概して球体の形態を有するガラス微粒子を準備することと、該ガラス微粒子を所定の時間６００℃を超える温度に加熱することとを含む。その後、該ガラス微粒子を周囲温度に冷却することができ、該加熱ステップは、一般的に微細粉末を生成する高エネルギー破壊から、一般的に大きな破片を生成するより低いエネルギー破壊へと、該ガラス微粒子の破壊機序を変更することができる。ガラス微粒子は、非晶質ガラス微粒子であってもよく、流紋岩、玄武岩、ソレアイト、カンラン石、及び／又は安山岩に相当する組成式を有していてもよく又は有していなくともよい。 （もっと読む）

【課題】短時間で高いイオン伝導性を有するＬｉイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスを製造できるＬｉイオン伝導性硫化物ガラスの製法、前記Ｌｉイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製法、及びＬｉイオン伝導性硫化物ガラスの製法に好適な硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置を提供する。
【解決手段】ＬｉとＰとＳとを含むＬｉイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法であって、原料を６０℃〜１６０℃でメカニカルミリング処理してガラス化させるＬｉイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法である。また、上記Ｌｉイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法により製造されたＬｉイオン伝導性硫化物ガラスを２００℃以上３６０℃以下で加熱するＬｉイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製造方法である。粉砕容器とボールと粉砕容器内の温度を６０℃〜１６０℃にする温度調整手段を備える硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置である。 （もっと読む）

【課題】化学的にも安定で、リチウムイオンの伝道を阻害するような空孔が無く、高いリチウムイオン伝導性を示すガラスセラミックスを高い歩留まりで安定して取得することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスを熱処理し結晶化するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法であって、結晶化を行なう熱処理において、結晶化開始温度の昇温速度を５℃／ｈ〜５０℃／ｈとするリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】人体及び環境に対して悪影響をおよぼす砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずとも、垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備えた結晶化ガラスを提供すること。とりわけ、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や化学的耐久性をも兼ね備えた、溶融温度が低く、プレス成形等に適した生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ｌｉ_２Ｏ成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、結晶相として二ケイ酸リチウムを含有し、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｗ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｓ、Ｃｌ、およびＦから選ばれる１種以上の元素を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

本発明は、結晶相を含むガラス組成物、及びそれから製造されるガラスフレークに関する。これらのガラスフレークは、効果顔料におけるベースとなる基材として使用できる。ガラスフレークはさらに、塗料、コーティング、印刷用インク、プラスチック及び化粧品配合物において使用できる。ガラスフレークはガラス−セラミックに転換され、質量％による以下の組成範囲Ｉ又はＩＩのうちの１つで存在する：Ｉ：４０〜５０ ＳｉＯ₂、１０〜２０ Ｂ₂Ｏ₃、１０〜２０ Ｎａ₂Ｏ、１５〜３０ ＴｉＯ₂；ＩＩ：１０〜６０ ＳｉＯ₂、５〜３０ Ｂ₂Ｏ₃、５〜４０ ＴｉＯ₂、２〜２０ Ｎｂ₂Ｏ₅、２〜２０ Ｆｅ₂Ｏ₃、５〜４０ Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ。 （もっと読む）

【課題】 偏光ガラス製品を製造する方法において、ハロゲン化物相を表面層に生じさせるが、中央相には存在させない。
【解決手段】 銀または銅のハロゲン化物を沈澱させることのできるハロゲン化物を含有するガラスバッチを溶融する。溶融物をガラス製品に成形しかつ冷却する。ガラス製品の表面中に銀または銅の金属をイオン交換する。ガラス製品の表面層中に銀または銅のハロゲン化物の結晶を生成し、沈澱させるのに十分な期間に亘り、製品を高温にさらす。ガラス製品を、ガラスのアニール点よりも高い温度で応力下において伸張して、結晶を応力の方向に引き延ばす。伸張されたガラス製品を高温で還元雰囲気に露出して、銀または銅のハロゲン化物の結晶の少なくとも一部の、銀または銅の金属への還元を開始させる。 （もっと読む）

【課題】ガラスに対して、短時間で効率よく、かつ大面積領域に加熱処理を行うことが可能であり、それにより、例えば結晶性ガラス中に結晶を容易に大面積領域に析出させることが可能なガラスの加熱方法を提供する。
【解決手段】５００〜２５００ｎｍのいずれかの波長における吸光係数が１．０ｃｍ^−１以上であるガラスに、近赤外線ランプを用いて波長５００〜２５００ｎｍの範囲に発光ピークを有する光を照射することを特徴とするガラスの加熱方法。 （もっと読む）

【課題】従来のチタン酸バリウムは、原料粉末を焼結法によって作製しているため、１０００度以上の高温を必要として、割れ等の原因により大きな緻密体や精密な形状の作製が困難であった。また、焼結に必要とする分散材などの影響も大きく、性能が分散材に依存するといえる。
【解決手段】ホウ酸（１５−４０ｍｏｌ％）、酸化チタン（２５−４０ｍｏｌ％）、酸化バリウム（２５−４０ｍｏｌ％）、酸化カリウム（０−２０ｍｏｌ％）の組成のガラスを作製し、結晶化温度で熱処理することにより、チタン酸バリウムを析出させることができる。酸化チタンと酸化バリウムが等しいモル数のところに、酸化カリウムを酸化チタンと置換することで様々な特性を有するチタン酸バリウムを作製できる。また、ガラス中に様々な化合物を導入することができ、光学を含む幅広い工学分野へのデバイスとして利用できる。 （もっと読む）

【課題】光学非線形性の高いフレスノイト型の結晶を選択的に結晶化でき、しかも十分に高い光学非線形性を発揮できる結晶化ガラスを効率よく製造でき、かつ、ファイバ形状に線引き可能なガラス、そのガラスを用いて得られるフレスノイト型の結晶が析出した結晶化ガラス及びその結晶化ガラスの製造方法、並びに、光学部材を提供する。
【解決手段】光導波用の光学部材を形成するためのガラスであって、アルカリ土類金属の酸化物を２０〜３５モル％、チタン酸化物を１０〜１５モル％、ゲルマニウム酸化物を１０〜４０モル％、ケイ素酸化物を１０〜６０モル％の割合で含有し、結晶化温度とガラス転移温度との差が１００℃以上であるガラス、およびそれらのガラスを熱処理して得られる結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】耐久性の問題がなく、比較的容易な方法で所望の形状に成形でき、更に光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】光触媒としての活性を持ちえる結晶相として、ＴｉＯ_２、Ｃａ_２Ｔｉ_５Ｏ_１２、Ｃａ_２Ｔｉ_２Ｏ_６、ＣａＴｉＳｉＯ_５又は、これらの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含み、ＳｉＯ２成分を含むガラス相を有し、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ２成分を５〜６０％、ＳｉＯ２成分を１５〜８０％含有するガラスセラミックスである。 （もっと読む）

【課題】 第１のガラス部材や第２のガラス部材を破損させ得る入熱過多の状態となるのを回避することができるガラス溶着方法を提供する。
【解決手段】 溶着予定領域Ｒに沿ってガラス層３にレーザ光Ｌ２を照射することにより、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着するに際し、予めガラス層３の各曲部３ａに結晶化部８を形成する。このとき、結晶化部８におけるレーザ光の吸収率がガラス層３におけるレーザ光の吸収率よりも低いため、溶着予定領域Ｒに沿って結晶化部８からレーザ光Ｌ２を移動させた際にはガラス層３が徐々に加熱され、一方、溶着予定領域Ｒに沿って結晶化部８までレーザ光Ｌ２を移動させた際にはガラス層３が徐々に冷却されることになる。これにより、ガラス層３の各曲部３ａが、ガラス部材４，５を破損させ得る入熱過多の状態となるのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】結晶の大きさおよび結晶相の比率と相組成が予め決定可能及び調整可能なコンデンサ又は高周波フィルタにおける使用に適したガラス・セラミックの製造方法を提供する。
【解決手段】最大直径２０〜１００ｎｍの強誘電性微結晶が得られガラス・セラミック中の強誘電性微結晶の比率が少なくとも５０容積％、ガラス・セラミック中の非強誘電性微結晶の比率が１０容積％未満、ガラス・セラミック内に有るポアが０．０１容積％未満であり、且つｅ’・Ｖ^２_maxの値が少なくとも２０（ＭＶ/ｃｍ）^２であるガラス・セラミック（ここで、ｅ’は１ｋＨｚにおけるガラス・セラミックの比誘電率、Ｖ_ｍａｘは絶縁破壊電圧/ガラス・セラミック厚さである）であり、出発ガラスを生成する工程と、該出発ガラスをセラミック化中少なくとも１０Ｋ/ｍｉｎの加熱又は冷却速度でセラミック化してガラス・セラミックを生ずる工程を含んで成る方法。 （もっと読む）