【課題】比抵抗が非常に低く、耐湿熱性試験後の比抵抗の変化率が極めて小さくて耐湿熱性に優れた酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット及びこれを用いて製造した透明導電性酸化亜鉛系薄膜を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛にガリウムおよびインジウムを含有させた焼結体からなる透明導電性酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット及びこれを用いて製造した透明導電性酸化亜鉛系薄膜であって、ガリウム元素とインジウム元素の質量比率（Ｉｎ／Ｇａ）は０．０１以上０．６以下、且つ、ウルツ鉱型単一相の結晶構造を有するものであり、透明導電性薄膜は、耐湿熱性を損なう原因となる格子間亜鉛及び亜鉛欠損を減少させ、可視光に対する吸収係数αを小さくし、吸収係数が極小となる波長領域を視感度に有効な５００〜６００ｎｍにシフトさせたものである。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法により透明導電性酸化物を成膜する際のノジュールの発生を抑制し、安定にスパッタリングを行うことのできるターゲット、このようなターゲットからなる透明導電性酸化物、およびこのようなターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）で表わされる原子比が、０．７５〜０．９７の範囲であるとともに、Ｉｎ₂Ｏ₃ （ＺｎＯ）_ｍ（ただし、ｍは２〜２０の整数である。）で表される六方晶層状化合物を含有し、かつ、該六方晶層状化合物の結晶粒径が５μｍ以下の値であるスパッタリングターゲットから成膜してなる透明導電性酸化物。 （もっと読む）

【課題】可視光領域だけでなく赤外領域においても透過性に優れ、耐熱性の高い酸化物透明導電膜、その膜を成膜しうるスパッタリングターゲット、そのターゲットに使用しうる複合酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】主として、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、
・焼結体中の元素の原子比が、Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｍｇ）＝０．００５〜０．１、Ｍｇ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｍｇ）＝０．００１〜０．０５であり、
・焼結体が酸化亜鉛を含有し平均粒径が１０μｍ以下の六方晶系ウルツ型構造を有する粒子（ａ）と、アルミニウムを含有し平均粒径が５μｍ以下のスピネル構造を有する粒子（ｂ）からなる
焼結体から成るスパッタリングターゲットを用いて成膜する。 （もっと読む）

【課題】高透光性アルミナ焼結体の原料として有用な高純度アルミナ粉末およびその製造方法、並びにそれを用いた高透光性アルミナ焼結体の製造方法の提供。
【解決手段】純度９９．９％以上、比表面積が１６〜２５ｍ^２／ｇ、粒子径０．１μｍ以下の一次粒子が４０〜８０％（個数基準）のアルミナ粉末を、成型、一次焼結した後に熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）処理することにより、測定波長６００ｎｍ、試料厚さ１ｍｍにおける全光線透過率が６０％以上の透光性アルミナ焼結体を得る。 （もっと読む）

【課題】ノジュールの発生を抑制できる導電性酸化物を提供する。
【解決手段】導電性酸化物は、結晶質の導電性酸化物であって、インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素および窒素を含み、窒素の濃度が７×１０¹⁹（ａｔｏｍ／ｃｃ）以上であることを特徴とする。インジウムの濃度とガリウムの濃度と亜鉛の濃度との合計の濃度に対するインジウムの濃度の比が０．３以上０．６以下であることが好ましい。導電性酸化物は、スパッタリング法のターゲットに用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率とともに高い発光効率を有する透光性セラミックを提供する。
【解決手段】 ペロブスカイト型化合物ＡＢＯ₃（ただし、ＡはＢａを含む）を主成分とし、希土類元素Ｒ（ＲはＣｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂから選ばれる少なくとも一種）を含む組成を有する透光性セラミックであり、希土類元素ＲがＡサイトに含まれる。 （もっと読む）

【課題】 酸化亜鉛（Ｂ_２Ｏ_３）粉末の使用しない新しい酸化亜鉛系焼結体―ゲットを提供する。
【解決手段】 本発明は酸化亜鉛（ＺｎＯ）粉末と窒化硼素（ＢＮ）粉末とが焼結されてなる酸化亜鉛系焼結体ターゲットである。好ましくは焼結体の窒素（Ｎ）量を０．０１ｍａｓｓ％以下、好ましくは０．００５ｍａｓｓ％以下とする。また、焼結体中の硼素（Ｂ）量は、０．０５〜１ｍａｓｓ％とすることが望ましい。
本発明のターゲットは、例えば酸化亜鉛粉末と窒化硼素粉末との混合し、温度範囲１０００〜１２００℃の窒素雰囲気で焼結することより得ることができる。 （もっと読む）

【課題】粒径（一次粒子径）を所定範囲に調製でき、言い換えればＢＥＴ法比表面積を所定範囲に調製でき、それでいて高温でない温度で焼成可能な新たな酸化インジウム粉末を提供する。
【解決手段】Ｆｅ元素を３ｐｐｍ〜１００ｐｐｍ含有する酸化インジウム粉末を提案する。焼成前にＦｅを添加すると、酸化インジウム粉末の一次粒子径を大きくすることができる。この際、Ｆｅ含有量３ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの範囲で有意な効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】インジウムの含有量を低減させているにも拘らず、十分に高い光透過性及び十分に低い抵抗率を有する導電性酸化物を提供すること。
【解決手段】酸化インジウム及び酸化スズからなるインジウムスズ複合酸化物と、前記インジウムスズ複合酸化物にドープされたアンチモンとを含有する導電性酸化物であって、前記インジウムスズ複合酸化物中のインジウム及びスズの合計量に対するスズの含有量の原子比率が２．６〜４７．２ａｔ％であり、且つ、前記導電性酸化物中のインジウム、スズ及びアンチモンの合計量に対するアンチモンの含有量の原子比率が２．７〜１４．５ａｔ％であることを特徴とする導電性酸化物。 （もっと読む）

【課題】抵抗率が低く、光透過性に優れる複合酸化物結晶質膜を提供すること。
【解決手段】主として、インジウム、ストロンチウム及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、上記複合酸化物焼結体中のインジウム、ストロンチウム及び錫の総原子数に対する、錫及びストロンチウムの原子数の比が、それぞれ０〜０．３及び０．０００１〜０．０５であり、相対密度が９７％以上であり、平均粒径が７μｍ以下である、複合酸化物焼結体。 （もっと読む）

【課題】より強度の高い、透明基板などの透光性構造体を形成する材料としての透光性スピネルセラミックス、および当該透光性スピネルセラミックスを用いた透光性スピネルセラミックス構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】透光性スピネルセラミックス構造体を形成するための透光性スピネルセラミックス２０は、スピネル粒子と、α型アルミナ粒子２２とを備えており、スピネル粒子中に、ＴｉＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５からなる群から選択される少なくとも１種をさらに含む。透光性スピネルセラミックス２０におけるα型アルミナ粒子は、スピネル粒子とα型アルミナ粒子２２との質量の和の３ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲットの強度が高く、スパッタ膜の非晶質性が安定であり、青色波長領域で透過率が高く、また屈折率も高い膜を形成できるスパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜を得る。これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び薄膜の品質を大幅に改善しかつ安定化する。
【解決手段】ZnSを主成分とし、ZrO₂とY₂O₃を含み、ZnS：50〜95mol%、ZrO₂：4〜49mol%、Y₂O₃：0.1〜10mol%であることを特徴とするZnSを主成分とするスパッタリングターゲット及びZnSを主成分とし、ZrO₂とMgO及び又はCaOを含み、ZnS：50〜95mol%、ZrO₂：4〜49mol%、MgO及び又はCaO：0.1〜10mol%であることを特徴とするZnSを主成分とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】容易に低コストで高品質のスピネルセラミックス構造体を形成する製造方法、および当該製造方法を用いて形成したスピネルセラミックス構造体を提供する。
【解決手段】透光性スピネルセラミックス２０の製造方法には、Ｍｇ、Ｚｎからなる群から選択される少なくとも１種を含むＡｌ合金の基板を準備する工程と、上記基板を陽極酸化処理により、上記基板の一方の主表面上に酸化物層が形成された積層体を形成する工程と、上記積層体から上記酸化物層を取り出すために上記基板を除去する工程と、上記基板が除去された上記酸化物層を熱処理する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法に用いられる酸化物焼結体タブレットを歩留まりよく安定して量産できる製造方法を提供すること。
【解決手段】原料粉を湿式混合しかつ噴霧乾燥して造粒粉を製造する第一工程と、造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第二工程と、圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第三工程と、成形体用粉末を金型中で加圧成形して成形体を製造する第四工程と、成形体を焼成して酸化物焼結体タブレットを製造する方法であって、第二工程の造粒粉に対する加圧条件を５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下に設定して第三工程で得られる成形体用粉末のタップ密度が理論密度の２５％以上４５％以下となるように調整し、かつ第四工程において上記タップ密度に調整された金型中の成形体用粉末に対する加圧条件を５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下に設定して所定形状の成形体を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蛍石と同程度の高いアッベ数を有すると共に、蛍石より高い屈折率を有するＣａ−Ｇｄ−Ｆ系材料を、透光性セラミックスとして提供する。
【解決手段】ＣａＦ_２微粒子と、該ＣａＦ_２微粒子とは別に作製されたＧｄＦ_３微粒子とを混合して微粒子混合物を調整し、前記微粒子混合物を焼結し、透明化することで透光性セラミックスを製造する。 （もっと読む）

【課題】成膜時にスプラッシュ現象などが発生せず、放電を安定させることができ、しかも機械的強度が高く、自動搬送時などに破損しにくい酸化亜鉛系焼結体タブレットを提供する。
【解決手段】常圧焼結体タブレットを、圧力１×１０^-3Ｐａ以下の真空中にて、９００℃〜１３００℃の温度で還元処理することにより、その相対密度が５０〜７０％でありながら、圧縮強さが１５０ＭＰａ以上であり、かつ、表面と内部における比抵抗がそれぞれ１×１０²Ω・ｃｍ以下、特にガリウムを含む酸化亜鉛系焼結体タブレットにおいては１×１０^-2Ω・ｃｍ以下であって、表面と内部の酸化亜鉛濃度差が０．５質量％以下である構造を実現する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗かつ高屈折率の透明導電酸化物膜を直流スパッタリング法により工業的に生産可能な酸化インジウムスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】酸化インジウムを主原料とし、酸化タンタルおよび酸化チタンを合計量で５．２〜９．２質量％含有し、酸化チタン／酸化タンタルの質量比が０．０２２〜０．１６０である酸化物からなる成形体を、酸素含有雰囲気下、１５３０〜１６３０℃で焼結することにより、相対密度が９７％以上で、比抵抗が５×１０^-4Ω・ｃｍ以下であり、成膜により比抵抗が５×１０^-4Ω・ｃｍ以下、可視光領域における光の屈折率が２．０以上、透過率が９６％以上の透明導電酸化物膜を得られる、スパッタリングターゲットを得る。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率とともに高い発光効率を有する透光性セラミックを提供する。
【解決手段】透光性セラミックは、組成式Ｂａ｛Ｚｒ_ｘ，Ｍｇ_ｙ，Ｔａ_ｚ｝_ｖＯ_３で表される化合物を主成分とし、この主成分に対して、副成分としてＮｄＯ_１．５がαモル部（ただし、αは０．００２≦α≦０．０２を満たす）添加されている（ただし、ｘ、ｙ、ｚ、ｖは、すべてモル比を示し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、３．９８０−α≦４ｘ＋２ｙ＋５ｚ≦４．０００、１．０００（１＋α）≦ｖ≦１．０５０（１＋α）、０．１２５≦ｘ≦０．４００をそれぞれ満たす）。 （もっと読む）

【課題】大規模なターゲットを製造するため、相対密度が大きい圧粉体を生じるスリップキャスト成形のための型を提供する。
【解決手段】スリップキャスト成形のための型は、底面板１０、不透水性の側壁２０、および、成型スペース３０を有する。底面板１０は、水を吸収する多孔性材料でできている。不透水性の側壁２０は、底面板１０に取り付けられる。成型スペースは、底面板１０および不透水性の側壁２０によって定められる。型は、底面板１０によって水を吸収するのみである。すべてのスラリーは、乾燥の間型に連続的に注入されるよりはむしろ型に注入される大きさである。したがって、型において形成される圧粉体は均一であり、高い相対密度を有する。圧粉体は、亀裂または変形を引き起こさずに焼結されることができるので、大きいサイズのスパッタリングターゲットの製造に適している。 （もっと読む）

【課題】可視光線の透過率が高く、しかも常圧焼結法というセラミックス分野で通常用いられている方法で製造可能な透光性セラミックス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透光性セラミックスは、結晶性金属酸化物粒子からなる焼結体であり、平均粒子径は１ｎｍ以上かつ２０ｎｍ以下、平均細孔径は１ｎｍ以上かつ７ｎｍ以下、可視光線透過率は８０％以上、相対密度は８０％以上である。 （もっと読む）