【課題】安定した一定量の酸素欠陥を導入することができ、光透過率が良好であり、低い電気抵抗及び良好な導電性を有する透明導電膜を形成するスパッタリング複合ターゲット及びこれを用いた透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング複合ターゲット１は、酸化亜鉛を含む酸化物系成分２と、炭素系成分３ａ〜３ｄとを有し、酸化物系成分２と炭素系成分３ａ〜３ｄが各々別体の場合は、酸化物系成分２の表面の少なくとも一部に炭素系成分３ａ〜３ｄを積層して用いる。
透明導電膜の製造方法は、酸化亜鉛を含む酸化物系成分と、炭素系成分とを有するスパッタリング複合ターゲットを用いて、基板上に透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基体上での抵抗率分布を大幅に改善するスパッタリングターゲットの作製方法及びそれを用いる透明導電膜形成方法を提供する。
【解決手段】亜鉛、および、Ａｌ、Ｉｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｓｃ、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＭｏおよびＶからなる群より選ばれた２種以上の元素をそれぞれ０．１から８原子％、および、Ｃを０．１〜１０原子％含有されてなる複合物、もしくは、Ａｌ、Ｉｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｓｃ、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＭｏおよびＶからなる群より選ばれた１種以上の元素をそれぞれ０．１から８原子％含有してなるＺｎＯ系複合酸化物に、炭化珪素、炭化硼素、炭化バナジウム、炭化モリブデン、炭化ハフニウムおよび炭化チタンからなる群より選ばれた１種もしくは２種以上の炭化物を０．１〜５重量％添加されてなる複合物焼結体を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スパッタ時のノジュールの発生を抑制できるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】金属スズ及び酸化インジウムを含む焼結体であって、前記金属スズが焼結体中で分散している酸化インジウム焼結体。そのバルク抵抗が０．５ｍΩｃｍ以上で、密度が６．８ｇ／ｃｍ^３以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、帯電防止導電膜コーティング、ガスセンサー、太陽電池などに用いられる透明導電膜およびこの透明導電膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】（１）Ｇａ：０．２〜４．０質量％、Ｃｅ：４０ｐｐｍ〜２．５質量％、Ｚｎ：７４．０〜８０．１質量％、残部：酸素からなり、前記Ｃｅは常に前記Ｇａよりも少なく含む成分組成を有する透明導電膜、（２）Ｇａ：０．２〜４．０質量％、Ｃｅ：４０ｐｐｍ〜２．５質量％、Ｚｎ：７４．０〜８０．１質量％、残部：酸素からなり、前記Ｃｅは常に前記Ｇａよりも少なく含む成分組成を有する透明導電膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】分散性に優れるともに、不純物汚染の少ないコーディエライトフィラーを提供すること。
【解決手段】ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系のコーディエライトを主成分として含有するコーディエライトフィラーであって、平均粒径が０．１〜２μｍ、最大粒径が２〜５μｍであり、Ｎａ_２ＯおよびＦｅ_２Ｏ_３の含有量が０．０５質量％以下であるコーディエライトフィラー。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウムスズターゲットおよびこの製造方法、酸化インジウムスズ透明導電膜およびこの製造方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムスズターゲットは、酸化サマリウムおよび酸化イッテルビウムからなる群から選択された少なくとも１つの酸化物を含み、酸化物の含量がターゲットの重量対比０．５〜１０重量％である。 （もっと読む）

【課題】ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】金属亜鉛、酸化亜鉛及び酸化インジウムを含むスパッタリングターゲットであって、前記金属亜鉛がスパッタリングターゲット中で分散しているスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 スプラッシュ、更にはパーティクルの発生を顕著に抑制でき、しかも高強度で低コストなＳｉＯ焼結蒸着材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 析出ＳｉＯからなる原料粉末を蒸着材料形状に成形する。ＳｉＯの成形体を酸素含有雰囲気中で低温焼結する。低温焼結体を非酸化性雰囲気中で高温焼結する。ＳｉＯ₂ からなる標準試料をＥＰＭＡにより定量分析したときのＯ／Ｓｉ比ａの理論値ａ₀ （≒１．１４）に対する比（ａ／ａ₀ ）を補正係数Ｋとし、ＥＰＭＡによるＯ／Ｓｉ比の実測値Ａを前記補正係数Ｋにより補正して得たＯ／Ｓｉ比の補正値Ａ₁ （＝１／Ｋ・Ａ）から求めた酸素定量分析値Ｏ₁ 〔＝１００／（１＋１／Ａ₁ ）〕が、酸素含有雰囲気中での低温焼結により４４〜４９％となる。高温焼結での析出Ｓｉの弊害が抑制されることにより、焼結温度の上昇が可能となり、圧縮破壊強度が１５ＭＰａ以上に上り、３０ＭＰａ以上も可能となる。 （もっと読む）

【課題】 可視光及び波長３μｍ以下の赤外光の透過率を大幅に低減し、波長８〜１２μｍ帯の赤外光に対する高い透過率を持つ可視光遮光性の多結晶硫化亜鉛光学部品を提供する。
【解決手段】 微細で高純度の硫化亜鉛粉末を非酸化性雰囲気中、９００〜１０００℃の温度、１５０〜８００ｋｇ／ｃｍ^２の圧力下で熱間圧縮成形して形成される多結晶硫化亜鉛焼結体からなり、厚み２ｍｍでの光の透過率が、可視光波長域で０％以上３％以下、２.５〜３μｍ波長域で０％以上２０％以下であり、８〜１２μｍ波長域では３０％以上７５％以下、又反射防止膜を形成することにより同波長域で５０％以上９０％以下である。 （もっと読む）

【課題】実質的に透明な、電気的に伝導性のフィルムを形成するための方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）実質的に球状の形を有する金属または金属酸化物の一次粒子を含むナノ結晶性材料を水に加え；（ｂ）前記ナノ結晶性材料および前記水を混合して、実質的に安定な水性ディスパージョンを形成し；（ｃ）基材に適用された際に、前記ディスパージョンが、一様な欠陥の無いフィルムであって、且つ１０⁵Ω／□未満のシート抵抗を有するフィルムを与えるために効果的な量で、フィルム形成剤を前記水性ディスパージョンに加え；（ｄ）希釈剤を前記水性ディスパージョンに加えて、処方を作製し、（ｅ）前記処方を基材に適用し；及び（ｆ）フィルム内でナノ結晶性粒子を硬化させるために基材を加熱し、該加熱が、約３００℃〜約８００℃の間の温度で行われる、ステップを含む、実質的に透明な、電気的に伝導性のフィルムを形成するための方法。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム蒸着法にて、ＭｇＯ蒸着材の蒸発速度・成膜速度の改善を図る。
【解決手段】多孔質焼結体とされ、平均気孔径が０．１〜５００μｍ程度に設定されるＭｇＯ蒸着材の製造方法であって、ＭｇＯ粉末と溶媒とを含むスラリーに気体を混入して原料となし、焼結法によりペレットとする。または、ＭｇＯ粉末と溶媒とを含むスラリーに発泡材を混入して原料となし、焼結法によりペレットとする。または、ＭｇＯ粉末と溶媒とを含むスラリーに、加熱時にガスを発生する添加剤を混入して原料となし、焼結法によりペレットとする。または、粒間に間隙を形成するような粒度分布の狭い粉末原料を使用し、焼結法によりペレットとする。 （もっと読む）

【課題】スパッタ膜の膜応力を絶対値で小さくし、スパッタカソードの周辺構造物からの膜剥離が少ないＳｎＯ_２系焼結体ターゲットの提供。
【解決手段】本発明のＳｎＯ_２系スパッタリングターゲットは、１０ｐｐｍを越え１質量％未満のＳｂ_２Ｏ_３と、合計質量が２０質量％以下であるＴａ_２Ｏ_５および／またはＮｂ_２Ｏ_５と、残部としてのＳｎＯ_２および不可避不純物とからなる焼結体からなる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、帯電防止導電膜コーティング、ガスセンサー、太陽電池などに用いられる透明導電膜およびこの透明導電膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃｅ：０．２〜５原子％をドープし、さらに必要に応じてＡｌをＡｌ：０．００５〜０．５原子％でかつＡｌドープ量＜Ｃｅドープ量となるようにドープした酸化亜鉛からなる透明導電膜であって、この透明導電膜に不可避不純物として含まれる炭素が４０ｐｐｍ以下に限定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のアルミナ焼結体では曲げ強度、靭性及び透光性を全て兼ね備えたものが得られず、強度と審美性の両方を要求される歯科材料に適する透光性アルミナ焼結体が得られていなかった。
【解決手段】破壊靭性が４．５ＭＰａ・ｍ^０．５以上、曲げ強度３５０ＭＰａ以上、なおかつ波長６００ｎｍの可視光に対する全光線透過率（試料厚さ１ｍｍ）が６０％以上である透光性アルミナ焼結体を提供する。焼結結晶粒子が平均アスペクト比１．５以上、平均長軸長さ１５μｍ以下の細長板状及び／又は柱状粒子の焼結体であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】異種成分と複合化されたアルミナ焼結体では、アルミナ焼結体の異種成分との界面での光散乱により高い透光性を有する焼結体を得ることが困難であった。
【解決手段】アルミナと同等の屈折率を有するβ−アルミナ構造型アルミネート化合物とアルミナの複合焼結体において、β−アルミナ構造型アルミネート化合物を１〜５０ｗｔ％とすることにより試料厚み１ｍｍにおける６００ｎｍ波長の全光線透過率４５％以上、曲げ強度は５００ＭＰａ以上の高透光性、高強度のアルミナ焼結体を得る。焼結粒径は１０μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、帯電防止導電膜コーティング、ガスセンサー、太陽電池などに用いられる透明導電膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。

【解決手段】Ａｌ：０．５〜８原子％、Ｃｅ：０．００３〜０．５原子％をドープした酸化亜鉛からなり、不可避不純物として含まれる炭素が４０ｐｐｍ以下に限定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素のＹと第二添加元素とを含み、該第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、Ｙの含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、Ｙの含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましくは、第一添加元素のＹと第二添加元素の合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】
成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】
透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＡｌを含み、Ｃｅ含有量がＡｌ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＡｌ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＡｌの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素と第二添加元素とを含み、第一添加元素がＰｒ、Ｎｄ、ＰｍおよびＳｍの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、第一添加元素の含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、第一添加元素の含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とするＺｎＯ蒸着材、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＧａを含み、Ｃｅ含有量がＧａ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＧａ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＧａの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）