【課題】本発明は、結晶性の低い金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が、金属酸化物膜の結晶性を低下させるホウ素化合物を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】金属化合物またはその金属化合物膜を製造するための金属化合物含有ゲルまたは金属化合物含有液体を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】本金属化合物含有ゲルの製造方法は、金属酸化物および金属水酸化物の少なくともいずれかを含む金属化合物含有ゲル１３の製造方法であって、金属アルコキシド１１にアルコキシ基含有液体と第１の過酸化水素含有水性液体を加えて金属水酸化物１２を生成させる工程と、金属水酸化物１２を含水状態で母液から分離する工程と、分離された含水状態の金属水酸化物１２に第２の過酸化水素含有水性液体を自己熱反応させて金属化合物含有ゲル１３を生成させる工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】従来困難とされてきた高品質の酸化物を低温域の条件下で位置選択的乃至は空間選択的に形成できる手法を確立する。
【解決手段】波長１９０ｎｍ以下の光３を、マスク２を被覆した被酸化固体材料１に対して照射する。そして、被酸化固体材料１の露光した部分に、高品質の酸化物４に改質する。また、光３を集光レンズ５を介して被酸化固体材料１に集光照射することで、被酸化固体材料１に対して酸化物４を位置選択的に形成する。 （もっと読む）

表面を有する基材、基材の表面の少なくとも一部分上に配置したナノスケールの無機酸化物粒子の層（該ナノスケールの無機酸化物粒子の層は、第１の極性の電荷を有する部位を含む。）、およびナノスケールの無機酸化物粒子の層の少なくとも一部分上に配置されたポリマーの単層（ポリマーの該単層は、第２の極性の電荷を有する部位を有し、ここでこの第２の極性は、この第１の極性と反対である。）を含む、表面改質された基材。
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【課題】火炎の燃焼状態が安定で、均一な品質の金属酸化物を製造できる金属酸化物製造装置を提供する。
【解決手段】バーナ２から金属元素を含有する原料を噴出させ、火炎を利用して金属酸化物を製造する装置であって、原料をバーナ２に供給する原料供給手段３，３ａ，３ｂと、酸化性ガスを、原料と共にバーナ２から噴出させる酸化性ガス供給手段４，４ａ，４ｂと、予め可燃性ガスと支燃性ガスとを混合した混合ガスをバーナ２に供給する混合ガス供給手段５，５ａとを備え、バーナ２に、原料及び酸化性ガスを噴出する原料噴出孔９を備えると共に、原料噴出孔９の周囲に混合ガスを噴出する混合ガス噴出孔８を設ける。 （もっと読む）

湿式工程の可能な金属酸化物溶液の製造方法およびこれを用いたフィルムの製造方法を提供する。光触媒剤として広く用いられる金属酸化物を改善して、新しい機能を有する金属酸化物溶液を形成する。金属酸化物溶液は、透明であり、湿式工程が可能で、電子の伝達が容易な特性を有する。よって、電子素子において多様な形態で適用が可能で、特に有機物を用いた電子素子に高い適用性を有する。また、金属酸化物溶液の中、チタン酸化物溶液を用いたフィルムは、酸素と水分を遮断して除去する機能を有するため、酸素と水分に弱い有機物を用いる電子素子に適用する場合、素子の寿命を改善しうる効果がある。
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【課題】２００℃以下の低温度での金属酸化物薄膜の製造、および均質な有機−無機複合体の製造に適した金属酸化物ゾルを提供するとともに、各種機能を有する金属酸化物薄膜および有機−無機複合体、特に高屈折率、高透明性を有する有機−無機複合体を提供すること。
【解決手段】有機溶媒中、酸、塩基、及び／または分散安定化剤の非存在下、金属アルコキシドに対し０．５〜１倍モル未満の水を用いて加水分解、または、−２０℃以下で金属アルコキシドに対し１．０〜２．０倍モル未満の水を用いて加水分解することで、有機溶媒中凝集せずに安定に分散している金属−酸素結合を有する分散質が得られ、該分散質を用いることで２００℃以下の低温度での製造される金属酸化物薄膜、および均質な有機−無機複合体が得られる。 （もっと読む）

【課題】厚さ方向の断面が凹曲面である窪みを複数有する有機重合体を含む表面多孔構造体の、該窪みの内面が金属酸化物で被覆されている表面多孔構造体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】金属酸化物をゾル−ゲル反応でつくる過程において、金属酸化物溶液を有機重合体溶液と混合し、さらに必要に応じて水を添加した後、製膜して乾燥することで、表面に窪みを有し、該窪みの内側が金属酸化物で被覆されている表面多孔構造体が提供できる。 （もっと読む）

【課題】基材の大きさに制限がなく、製造に真空チャンバー等の高価な機器を必要としない絶縁体微粒子膜やその製造方法、ならびに絶縁性微粒子膜を用いたコンデンサーを提供する。
【解決手段】絶縁性微粒子膜１は、第１の官能基を有する第１の膜化合物の形成する被膜で被覆された導電性の基材１４の表面に、第１の官能基とカップリング反応により結合を形成する第１のカップリング反応基を有する第１のカップリング剤の形成する被膜で被覆された反応性微粒子４２が配列した絶縁性の微粒子層が、第１の官能基と第１のカップリング反応基とのカップリング反応により形成される結合を介して１層結合固定されている。あるいは、さらにその上に第１のカップリング反応基と反応する膜化合物の被膜で被覆された微粒子２４および反応性微粒子４２が交互に結合固定されている。 （もっと読む）

【課題】有機金属化合物を原料として、室温で、簡便、効率よくナノ粒子を作製する方法及びその製品を提供する。
【解決手段】ナノメートルサイズの金属化合物ナノ微粒子を製造する方法であって、基板上に成膜した前駆体の有機金属化合物原料膜に２００ｎｍより短波長の紫外線を照射することにより粒子の生成及び粒子径の増大を図り、粒径がナノメートルサイズのナノ粒子を製造することを特徴とする金属化合物ナノ粒子の製造方法、及びそのナノ粒子膜。
【効果】本発明により、低温、特に室温で、粒径の制御されたナノメートルサイズのナノ粒子及びナノ結晶膜を作製することが実現可能であり、高い機能性を有するナノ材料の提供並びにその作製プロセスの効率化に貢献できる。 （もっと読む）

【課題】結晶性の高い柱状セラミックスを短時間で効率よく作製することが可能な製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板表面に複数のセラミックスの結晶核を形成する初期核形成工程と該基板表面にめっき法を用いて柱状セラミックス結晶を成長させる工程とを有することを特徴とするセラミックス膜の製造方法である。また前記初期核形成工程を大気開放型ＣＶＤ法で行うことが好ましい。さらに前記セラミックス膜が、多孔質膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、セラミックス微粒子を用いた湿式コーティング法によるセラミックス膜の製造において、平滑で良好な特性を有する膜を得ることのできるセラミックス膜の製造方法を提供する。
【解決手段】塗布液組成物を基体上に塗布し加熱焼成してセラミックス膜を形成する湿式コーティングと焼成による膜製の造方法であり、分散媒中にセラミックス粒子を分散させてなる塗布液組成物（Ａ）を基体上に塗布し、乾燥および／または焼成して得られた被膜基体上の最上層に有機酸金属誘導体を溶解させてなる塗布液組成物（Ｂ）を塗布し、焼成する工程によるセラミックス膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学特性の変化を抑制可能な位相差フィルムを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、基板の表面に無機材料の粒子を供給して、基板の表面に位相差フィルムを形成する動作と、形成された位相差フィルムにシランカップリング剤を供給する動作と、を含む。 （もっと読む）

【課題】湿式コーティング法による金属酸化物膜の製造において、好適に使用できる安定な塗布液組成物および金属酸化物膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】炭素数６〜１２の脂肪族有機酸金属化合物の少なくとも１種類を含有してなるプレカーサ成分と、炭素数６〜１２の脂肪族有機酸の酸無水物と、有機溶剤とを含有してなることを特徴とする塗布液組成物、および該組成物を塗布する塗布工程と、５０〜２００℃に加熱する乾燥工程と、４００〜９００℃に加熱する焼成工程とを経ることを特徴とする金属酸化物膜の製造方法。 （もっと読む）

少なくとも１つの遷移金属酸化物で形成されたコーティングを有する、ポリスチレン若しくはポリアクリレートを含んでなる単分散ポリマー微粒子、又は、少なくとも１つの遷移金属酸化物で形成されたコーティングを有する、ポリスチレン若しくはポリアクリレートを含んでなる多孔性ポリマー微粒子を開示する。リン酸化タンパク質を含んでなるサンプルからリン酸化タンパク質を単離するための方法、又は、核酸を含んでなるサンプルから核酸を単離するための方法における、このような粒子の使用も記載する。

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【課題】形成しようとする酸化物系ナノ構造物と同じ組成を持つナノ核を利用してナノ構造物を成長させる酸化物系ナノ構造物の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｍ（Ｍは、遷移金属元素または半金属元素）を含む有機物前駆体が有機溶媒に溶解されている混合溶液を基板の表面にコーティングするステップと、混合溶液がコーティングされた基板を熱処理して、基板上にＭｘＯｙ（ｘは１〜３の整数、ｙは１〜６の整数）組成を持つナノ核を形成するステップと、Ｍを含む反応前駆体をナノ核に供給しつつナノ核を成長させて、ＭｘＯｙ（ｘは１〜３の整数、ｙは１〜６の整数）組成を持つナノ構造物を形成するステップと、ナノ構造物を熱処理するステップと、を含む酸化物系ナノ構造物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高周波イオンプレーティング法を用い複合酸化物膜を形成する複合酸化物膜の製造方法であって、安定した組成の複合酸化物膜が容易に得られる方法、及びこの製造方法により得られる複合酸化物膜を構成要素とし、安定した性能を有する水素透過構造体を提供する。
【解決手段】９．９×１０^−４Ｐａ以下の真空度で、複合酸化物の原料元素の固体粉末からなる蒸発源を、固体粉末状態を保ちながら加熱する加熱工程、前記蒸発源をさらに加熱して溶融し、９．９×１０^−４Ｐａ以下の真空度で蒸発源を５分以上溶融状態に保つ溶かし込み工程、及び、前記溶かし込み工程の終了後に開始する高周波イオンプレーティング法による成膜工程、を有する複合酸化物膜の製造方法、及びこの製造方法により形成された酸化物プロトン導電性膜を有する水素透過構造体。 （もっと読む）

【課題】 ３００℃以上といった高温での加熱焼成処理を行うことなく、結晶化した金属酸化物微粒子を製造可能な方法を提供すること。
【解決手段】 金属含有化合物または金属含有化合物溶液（Ｒ）を、それらの沸点温度付近にて、水または水−アルコール混合溶液を媒体として加水分解する（Ｓ１）。加水分解の温度は７０〜１０５℃が望ましい。得られる金属化合物沈殿やスラリーをろ過等により分離し（Ｓ２）、結晶一次粒子のサイズが１〜５０ｎｍの一次金属酸化物Ｍを得ることができる。一次金属酸化物Ｍは、必要に応じ粉体化（Ｓ３、Ｐ１）、分散液化（Ｓ４、Ｐ２）して用いる。 （もっと読む）

【課題】フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液を用いた新規な金属酸化物薄膜の製造方法とその表面微構造を紫外線照射により制御する方法を提供する。
【解決手段】フォトクロミズムを示す金属酸化物前駆体溶液を原料として用い、薄膜作製プロセスに紫外線照射の過程を加えることで、焼成後の金属酸化物薄膜の表面微構造を簡便に制御する方法、該方法による表面微構造を制御した金属酸化物薄膜の製造方法、及びその表面微構造を制御した金属酸化物薄膜。
【効果】光化学反応を積極的に取り入れて調製したフォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液を用いて、薄膜作製プロセス中において紫外線照射の効果を利用した、新規な金属酸化物薄膜の表面微構造制御技術を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液と紫外線照射及び電場印加を用いた新規な金属酸化物薄膜の製造方法とその表面微構造を紫外線照射と電場印加により制御する方法を提供する。
【解決手段】フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液を用いて基板に表面微構造を制御した金属酸化物薄膜を製造する方法であって、２枚の導電性基板を電極として電場を印加しながら、フォトクロミックな金属酸化物前駆体溶液に基板を浸漬して、ディップコーティング、乾燥、仮焼、そして急速加熱処理して製膜することを特徴とする、金属酸化物薄膜の製造方法、該方法により製造した表面微構造を制御した金属酸化物薄膜及びその金属酸化物薄膜部材。
【効果】表面微構造を制御した金属酸化物薄膜とその製造方法を提供することができる。 （もっと読む）