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Fターム[4G042DD02]の内容

Fターム[4G042DD02]に分類される特許

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【課題】残留有機物を減少させることができ、しかも、高い温度での処理を必要としない金属酸化物薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物薄膜の形成方法は、ハロゲン化カルボン酸アニオンを配位子とする金属錯体を溶媒に溶解した溶液に基体を浸漬することで、基体上に金属酸化物薄膜を形成し、あるいは又、配位子の20゜Cにおける蒸気圧が6.7×103Pa以上(50mmHg以上)である金属錯体を溶媒に溶解した溶液に基体を浸漬することで、基体上に金属酸化物薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】所定パターンを有するとともに、表面抵抗率や光透過率等のばらつきが少ない金属酸化膜の形成方法およびそのような金属酸化膜を提供する。
【解決手段】基材上に、所定パターンを有する金属酸化膜の形成方法等であって、基材に対して、金属塩を含有する液状物を塗布して金属塩膜を形成する第1工程と、金属塩膜に対して、所定パターンを設ける第2工程と、金属塩膜に対して、熱酸化処理または所定のプラズマ酸化処理を行い、金属酸化膜とする第3工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】無機粒子由来の表面硬度を有しつつ、脆さやはがれやすさの軽減された無機粒子複合体を提供する。
【解決手段】塑性変形可能な金属2と、該金属が塑性変形する条件では塑性変形しない無機粒子1との混合物からなる無機粒子複合体を製造する方法であって、前記金属と前記無機粒子との混合物からなり、内部に空隙を有する無機粒子構造体を用意する工程、及び該構造体に含まれる金属を塑性変形させる工程を含む方法。前記無機粒子構造体において、前記無機粒子の体積が前記金属の体積よりも大きい前記の方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、感光性プレポリマーレジンを使用せずに、感光性金属有機物前駆体溶液を基板に塗布して、ナノインプリント方式で直接パターニングする金属酸化薄膜パターンの形成方法、当該形成方法によって直接パターニングされた金属酸化薄膜パターン、および、当該形成方法によって光結晶層を含むLED素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板に感光性金属有機物前駆体溶液をコーティングして感光性金属有機物前駆体コーティング層を形成する段階と、凹凸構造を有するようにパターン化されたモールドで前記感光性金属有機物前駆体コーティング層を加圧する段階と、前記加圧された感光性金属有機物前駆体コーティング層に紫外線を照射して硬化された金属酸化薄膜パターンを形成する段階と、前記パターン化されたモールドを前記金属酸化薄膜パターンから除去する段階とを含むナノインプリントを利用した金属酸化薄膜パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】耐プラズマ性に優れ、安定した酸化物膜を提供する。
【解決手段】大気開放型CVD法により、加熱した基材10の表面に金属酸化物原料5を吹き付けて酸化物膜を成膜する。その際、XRR法によって測定した膜密度が理論密度(TD)の75.0〜98.0%未満の範囲となるように成膜条件を設定する。 (もっと読む)


【課題】 優れた物理的強度(鉛筆硬度および耐摩耗性)、耐薬品性を具備しながら、かつ、画面の視認性が良好で、LCDやPDPのディスプレイ用途にも好適に使用することができる金属酸化物微粒子、その金属酸化物微粒子を使用した塗料、およびその塗料を使用した光学積層体並びにその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 金属酸化物微粒子を表面処理した後、有機高分子化合物とミキシング処理したことを特徴とする金属酸化物微粒子。 (もっと読む)


【課題】抵抗率の低い金属酸化物薄膜及び金属酸化物半導体を提供する。
【解決手段】膜中の水素濃度が3×1021/cm以下であることを特徴とする金属酸化物薄膜。 (もっと読む)


金属酸化物前駆体、溶媒およびエポキシドの混合物からゾルを製造すること、およびゾルから金属酸化物材料を調製することにより調製される誘電体酸化物材料。種々の形態において、混合物は、共溶媒、1以上の追加の金属酸化物前駆体、水、またはガラス形成酸化物の前駆体、またはこれらの任意の組合せをも含み得る。調製された誘電体酸化物材料は、κ値が高く、漏電が少なく、誘電正接値が低い薄膜の形態であり得る。
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【課題】可燃性溶媒を用いることなく、基板上に無機膜を安全かつ低時間、超低電力で製膜できる、工業的に極めて有利な無機膜の製膜方法を提供する。
【解決手段】泳動電着法により基板表面に無機膜を製膜する方法において、電着浴の溶媒としてハイドロフルオロエーテルを用いた無機膜を製膜する。
ハイドロフルオロエーテルとしては、好ましくは下記一般式(I)で示されるフルオロエーテルを用いる。
R1−O−R2 (I)
(R1およびR2は、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数1〜6のフルオロアルキル基であり、かつR1およびR2の少なくとも一方は炭素数1〜6のフルオロアルキル基である。) (もっと読む)


【課題】常温で溶液処理方式に金属酸化物を形成する方法及びこれを含むトランジスタ構造体を形成する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、金属酸化物の形成方法に関する。本発明の実施形態による金属酸化物の形成方法は、ドーパント化学種を含む金属酸化物前駆体溶液を用意することと、塩基性化学種を含むアルコール系溶液を用意することと、金属酸化物前駆体溶液及びアルコール系溶液を反応させて反応物を形成することと、反応物を精製して金属酸化物を形成することと、を含む。 (もっと読む)


【課題】長期間保管されても、金属酸化物粒子が凝集し難く、金属酸化物粒子の分散性を高めることができる金属酸化物粒子分散液及び合わせガラス用中間膜を提供する。
【解決手段】金属酸化物粒子と、可塑剤と、分散剤と、下記式(1)で表される化合物とを含む金属酸化物粒子分散液、並びに、熱可塑性樹脂と、金属酸化物粒子と、可塑剤と、分散剤と、下記式(1)で表される化合物とを含む合わせガラス用中間膜。
【化1】


上記式(1)中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示す。 (もっと読む)


【課題】本発明は、多孔質基材の孔部を金属酸化物で効率良く埋めることができ、表面平滑性および緻密性等に優れた金属酸化物膜を形成することができる積層体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した多孔質基材に噴射することにより、上記多孔質基材上に金属酸化物膜を形成する積層体の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液の噴射方向を、上記多孔質基材側に向け、かつ、上記多孔質基材表面の法線方向に対して傾けることを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】金属酸化物膜を良好にパターニングすることが可能な金属酸化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】酸化チタン膜3の形成方法は、基材1上に、基材1の一部表面を選択的に露出させるために銅を主成分とするメタルマスク2を形成するステップと、メタルマスク2上と露出された基材1の一部表面上とにCVD法によって酸化チタン膜3を形成するステップと、メタルマスク2上に形成された酸化チタン膜3を剥離によって除去するステップと、酸化チタン膜3を剥離した後、メタルマスク2を除去するステップとを備える。 (もっと読む)


改質粒子を有するコーティング液を形成し;容器内の下相液の表面にコーティング層を形成し;基板と前記容器を分離する、各工程を有してなり、前記改質粒子が、少なくとも1つの改質剤を少なくとも1つの粒子に共有結合させることによって形成されることを特徴とするコーティング方法。
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【課題】低温で短時間かつ効率良く薄膜を酸化又は還元する反応装置及び反応方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る反応装置は、チャンバー3と、前記チャンバー内に配置され、薄膜が形成された基板1を保持する保持機構2と、極性溶媒のpHを調製するpH調製機構と、前記pH調製機構によってpHが調製された極性溶媒を加熱する加熱機構と、前記加熱機構によって加熱された前記極性溶媒を前記保持機構に保持された前記基板に供給する供給機構と、を具備し、前記pHが調製され且つ加熱された極性溶媒によって前記薄膜に酸化反応又は還元反応を起こさせることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理を用いることにより、表面抵抗等のばらつきが少ない薄膜形成が可能な金属酸化物薄膜の製膜方法を提供する。
【解決手段】基材上に、金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物の製膜方法において、基材に対して、金属塩を含有する液状物を塗布して金属塩を含有する塗膜を形成する工程と、
塗膜に対してプラズマ処理を行う工程と、を含み、より好ましくは、金属塩を含有する液状物として、亜鉛及びインジウムから選ばれる少なくとも1つを含有する液状物を用いる金属酸化物薄膜の製膜方法である。 (もっと読む)


ハフニウムおよび/もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を開示する。ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法も開示する。例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができる。腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態も開示する。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態も開示する。電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態も開示する。 (もっと読む)


金属酸化物膜を、前記膜のための支持体の表面上に堆積させるための方法であって、堆積チャンバーを準備する工程と、電子およびプラズマからなるパルスビームを前記堆積チャンバー中に与える工程と、支持体を前記堆積チャンバー中に与える工程であって、前記支持体は堆積表面を有する工程と、金属酸化物を含んだ材料で作られたターゲット体を前記堆積チャンバー中に与える工程であって、前記ターゲット体はターゲット表面を有する工程と、前記電子およびプラズマからなるパルスビームを前記ターゲット表面に衝突させることによって前記ターゲット表面からアブレーションされた金属酸化物のプルームを形成する工程と、前記プルームを前記堆積表面に接触させることによって前記堆積表面上に金属酸化物膜を堆積させる工程とを含む方法。
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少なくとも1種の金属酸化物前駆体が1種以上の対応する金属酸化物水酸化物を得るために加水分解処理にかけられ、そのようにして得られた金属酸化物水酸化物が金属−酸化物−金属化合物を形成するために縮合処理にかけられる金属−酸化物−金属化合物の混合物を製造するためのゾル−ゲル法であって、封入触媒の存在下に実施され、それによって触媒活性化学種が外部刺激への暴露によって封入構成単位から放出され、そしてここで、かかる外部刺激への暴露後に放出された触媒活性化学種がそのようにして得られた金属酸化物水酸化物中に存在する金属−水酸化物基の縮合を触媒することができる方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、結晶性や結晶構造の結晶状態が、段階的または連続的に変化した金属酸化物膜を、簡便な方法により得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または有機金属化合物が溶解し、かつ、金属酸化物膜の結晶状態を変化させる酸の濃度が異なる金属酸化物膜形成用溶液を、上記酸の濃度を変化させつつ、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材に接触させることにより、上記基材上に、結晶状態が段階的または連続的に変化した金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


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