【課題】一つの板状ガラス材から複数のガラス基板を製造する場合に、（１）主面および端面が共に化学強化されたガラス基板を得ること、（２）ガラス基板の寸法誤差を低減すること、（３）ガラス基板の生産性を犠牲にすることなくガラス基板の強度を良好に維持すること、を同時に実現する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、板状ガラス材をイオン交換処理によって化学強化する第１の化学強化工程Ｓ１と、第１の化学強化工程Ｓ１の後に板状ガラス材を分断することにより複数のガラス基板に小片化する小片化工程Ｓ２と、小片化工程Ｓ２の後にガラス基板をイオン交換処理によって化学強化する第２の化学強化工程Ｓ３とを含む。 （もっと読む）

【課題】研磨後の板厚のばらつきを低減可能なガラス基板の製造方法及びその方法に用いられる反り方向検出装置を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、複数のキャリア１４のそれぞれの反り方向を特定する反り方向特定工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えてサンギヤ１３とリングギヤ１２間に複数のキャリア１４を配置するキャリア配置工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えた状態で複数のガラス基板Ｇを研磨する研磨工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フロート法によって製造されたガラス板を、ＦＰＤ用ガラス基板として最適なガラス板に研磨するガラス板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、フロート法により製造されたガラス板Ｇであって、厚さが０．７ｍｍ以下であり、１辺の長さが１０００ｍｍ以上、ヤング率が６５ＧＰａ以上のガラス板Ｇを研磨対象とする。このガラス板Ｇの非研磨面をガラス保持部材１６によって保持し、ガラス板Ｇの研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具２６によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。研磨具２６は、Ａ硬度が２０以上、Ｄ硬度が９９以下、厚さが１．０〜２．５ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。また、ガラス保持部材１６は、圧縮率が１０〜７０％、圧縮弾性率が７０〜９８、Ａ硬度が２〜２０、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、厚さ分布が±０．０５ｍｍ以内であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】剥離帯電を抑制することができ、白ムラや白曇りが生じ難いフラットパネルディスプレイ用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板を製造するとき、半導体素子が形成されるガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面を洗浄し、洗浄された前記ガラス表面にエッチング処理を施す。前記エッチング処理が施された前記ガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下になるように前記洗浄処理と前記エッチング処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】ハンドリングが容易な上、微細な貫通孔を形成することが可能な、インターポーザ用のガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの貫通孔を有するインターポーザ用ガラス基板の製造方法であって、（ａ）第１の表面および第２の表面を有し、第１の厚さを有するガラス基板を準備する工程と、（ｂ）前記ガラス基板の前記第１の表面に、前記第１の厚さよりも薄い薄肉部を形成する工程であって、これにより、前記薄肉部と、該薄肉部を取り囲む厚肉部とが形成される工程と、（ｃ）前記薄肉部内の領域に、少なくとも一つの貫通孔を形成する工程と、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】高品質な化学研磨処理を安全に実現できるガラス基板の化学研磨装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板ＧＬを水平方向に搬送する搬送路と、搬送路を移動中のガラス基板に対して、化学研磨液を噴射してガラス基板を薄型化する研磨処理部１６，２２と、研磨処理部２２を通過して薄型化されたガラス基板に洗浄液を噴射して洗浄する洗浄処理部２４と、を有して構成され、研磨処理部１６へのガラス基板の導入部には、ガラス基板の表面を軽く保持して回転する回転ローラ４３と、研磨処理部１６の外側から回転ローラ４３に向けて水を噴射する噴射部ＮＺ１，ＮＺ２とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】一方で付加的な部材又は支持要素の組込みを排除し、他方で動的応力及び静的応力に対する略等価な機械的安定性を示す、基板用の軽量構造を提供する。
【解決手段】モノリシック基板１０は、軽量構造を有するためにガラス又はガラスセラミックを含む。軽量構造は、網状構造、例えば四角形又は四つ角を有する形状のポケットを形成する網状構造によって範囲が定められる凹部を含む。該軽量構造に起因して、基板１０の重量が大幅に低減されると同時に、高い剛性が確保され得る。基板１０は好ましくは、ミラー支持体又はミラーとして使用され、地球上及び／又は地球外で利用することができる。 （もっと読む）

【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス（３）を、固定砥粒であるダイヤモンドシート（１０）を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート（１０）が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス（３）表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート（１０）を用いて鏡面板ガラス（３）表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 （もっと読む）

【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法であって、溶融したガラスの塊ＧＧを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型１２１，１２２の面１２１ａ，１２２ａで前記塊ＧＧを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Ｇを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Ｇを加工する加工工程と、を有し、前記塊ＧＧの落下方向の速度成分について、前記一対の型１２１，１２２に対する前記塊ＧＧの相対速度を０に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊ＧＧが落下する方向に前記一対の型１２１，１２２が移動しながら、前記塊ＧＧを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Ｇの製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学強化により所望の耐衝撃性能を有するディスプレイ装置用カバーガラスを提供する。
【解決手段】ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程と、ガラス板を洗浄する洗浄工程と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程と、を備えるディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法であって、洗浄工程は、洗浄工程後、化学強化工程前におけるガラス板のＢＯＲ強度が４００Ｎ以上となるように、ガラス板の少なくとも一方の主表面にロールブラシの先端を当接させることでガラス板を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】加工が容易でかつ被加工物を安定して保持可能なレーザー加工装置用のテーブルを提供する。
【解決手段】レーザー加工装置において被加工物が載置固定されるテーブルの製造方法が、平板状のガラス板を用意する工程と、ガラス板の一方主面の吸引用溝の形成予定位置に、サンドブラスト処理にて粗溝を形成する工程と、粗溝の表面をエッチングして吸引用溝を得る工程と、を備えるようにする。吸引用溝の形成予定位置は、平面視でハニカム状に配置された領域を含むようにする。 （もっと読む）

【課題】 一般的な基材であるガラスに成膜され、且つ良好なパターン形状と優れた発光特性の両方を兼ね備えた薄膜蛍光体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材と結晶性の薄膜蛍光体からなり、前記薄膜蛍光体は、前記基材上に成膜されて薄膜蛍光体層が形成されており、前記薄膜蛍光体層にパターンが形成されており、前記結晶がナノ構造であることを特徴とするパターン形成された薄膜蛍光体とする。 （もっと読む）

【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調整方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のタングステン化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびタングステン化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ １〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のタンタル化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびタンタル化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】角部分の耐衝撃性が優れること。
【解決手段】イオン交換法により形成された圧縮応力層３０Ｕ、３０Ｂが、表面２０Ｕ側と裏面２０Ｂ側とのみに設けられ、端面４０Ａが、凸を成す曲面であり、端面４０Ａの表面粗さＲａが１０ｎｍ以下である携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のニオブ化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】
透明基体上に形成する低反射膜およびその形成方法に関し、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】
シリカ微粒子と、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化クロム、酸化セリウム、酸化モリブデンおよび酸化ランタンからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物をシリカ微粒子に対し５質量％以上、４０質量％以下、バインダーとして含有してなり、屈折率１．２０以上、１．４０以下であることを特徴とする低反射膜およびその形成方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）