【課題】本発明では、基板の耐熱性にあまり拘束されることなく、基板上に膜状のワダライト化合物を形成することが可能な、ワダライト化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｃａ_１２Ａｌ_{（１４−ｘ）}Ｓｉ_ｘＯ_３２Ｃｌ_{（ｘ＋２）}（ただしｘ＝０〜４）の組成で表されるワダライト化合物の製造方法であって、（ｉ）Ｃａ_１２Ａｌ_{（１４−ｘ）}Ｓｉ_ｘＯ_{（３３＋ｘ／２）}（ただしｘ＝０〜４）の組成で表される非晶質の材料Ａを調製する工程と、（ｉｉ）８５０℃未満の温度で、前記材料Ａを塩素処理してワダライト化合物を生成する工程と、を有する製造方法。 （もっと読む）

【課題】ゴミの付着やハンドリング時の貼り付き不具合を引き起こす粘着層を露出させず、露光マスクに接触したり現像液が溜まったりする段差部分がなく、支持フィルムにしわやカールが発生するのを防ぐことができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】ガラスフィルム３と、粘着層２と、幅がガラスフィルム３よりも大きいフィルムであって、ガラスフィルム３の両側端部３ａ，３ｂからはみ出した耳部６（６ａ，６ｂ）を有するように粘着層２を介してガラスフィルム３に設けられている支持フィルム１と、引張弾性率が５ＭＰａ〜８００ＭＰａでガラスフィルム３の厚さ以下のフィルムであって、耳部６に粘着層２又は他の粘着層を介して設けられている帯状フィルム４（４ａ，４ｂ）とを備えるガラスフィルム積層体１０によって、上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】パターン電極に断線不良等の形成不良が発生するという事態を確実に防止することが可能なガラス基板を提供する。
【解決手段】フロート法により成形されたガラス基板１であって、少なくとも一方の面について、周縁から１０ｍｍの領域を除く中央領域を有効面２とした場合に、前記有効面内のいずれの位置であっても、算術平均粗さＲａが０．３ｎｍ以下であって且つ十点平均粗さＲｚｊｉｓが４０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの端部から支持フィルムがはみ出した場合であっても、ゴミ付着の問題やハンドリング時の貼り付きの問題を低減でき、露光マスクに接触したり現像液が溜まったりする段差部分がなく、搬送直進性とパターン形成時等の位置精度を向上させることができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】ガラスフィルム３と、粘着層２と、ガラスフィルム３の幅Ａよりも大きい幅Ｂのフィルムであって前記したガラスフィルム３の両側端部３ａ，３ｂからはみ出すように、粘着層２を介してガラスフィルム３に設けられている支持フィルム１とを有し、支持フィルム１の幅方向Ｘの各端部１ａ，１ｂからその各端部１ａ，１ｂ側におけるガラスフィルム３の幅方向Ｘの各端部３ａ，３ｂまでの距離ａ，ｂを、支持フィルム１の幅方向Ｘの端部１ａ，１ｂから内方に向かって０．５ｍｍ以上１ｍｍ以下にして、上記課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】応力が過度に集中する鋭角な部分や直角な部分が形成されていない断面形状を有するマイクロ流路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマイクロ流路基板１０は、内部にマイクロ流路１１が設けられたマイクロ流路本体１５を備え、マイクロ流路１１の天井部とマイクロ流路１１の内側壁が交わる第１の角部１６、およびマイクロ流路１１の底部と内側壁が交わる第２の角部１７が曲面をなしていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜６％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜４％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１０μｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面処理剤フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シランを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒｆは１価又は２価のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、Ｚは独立にシロキサン結合を有してもよい２〜６価の基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に加水分解性基であり、ａは独立に２〜５の整数、ｂは独立に２又は３、ｙは単位毎に独立に１〜５の整数であり、αは１〜５の整数、βは１又は２である。）で表されるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン。 （もっと読む）

【課題】耐熱性無機基板上に塗布法で形成された高い仕事関数を有する有機ＥＬ用透明導電性基材とその製造方法、有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１上に、主成分として有機インジウム化合物、または有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液、あるいは、主成分として有機錫化合物、または有機錫化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を無機化して、酸化インジウム、またはドーパント金属酸化物を含む酸化インジウムである導電性酸化物を主成分とする無機膜、あるいは酸化錫、またはドーパント金属酸化物を含む酸化錫を主成分とする無機膜を形成する無機化工程の各工程からなる塗布法により透明導電膜３を形成する有機ＥＬ用透明導電性基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の強化板ガラスは、アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記アルミノシリケートガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ ３〜２５％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＺｎＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１０％を含有し、圧縮応力層の厚さが１００μｍ以下であり、且つ前記板端面が、スクライブ割断によって形成された面であると共に、折割工程を経ずに形成された面であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッチング時に板状ガラスの縁部の主表面が露出した部分の溶解を防ぎ、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラス１０２の両主表面上（主表面１０２ａおよび１０２ｂ）のレジスト材１０４に対してフォトマスク１１０を用いて板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で板状ガラスの両主表面側から露光するための露光工程と、露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターン１０６を形成する現像工程と、現像工程によって板状ガラスの主表面が露出した縁部（非露光領域１０３ｃ）に対して、エッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜１０８を形成する工程と、現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングしてガラス基板１００を抜き出すエッチング工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面記録密度が高いＨＤＤ用磁気記録媒体であっても、外周端部のヘッドクラッシュを抑制し、記録領域の拡大に寄与する、ＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上のＨＤＤ用磁気記録媒体の製造に用いられるＨＤＤ用ガラス基板５０は、ガラス基板５０の主表面５１に定義された基準面からのガラス基板５０の外周端部の高さのズレ量をＡとしたときに、式（１）に従って算出されるＡの周方向のバラツキＸが３％以下であり、かつ、ガラス基板５０の外周端部の周方向のＴＩＲが０．４μｍ以下である。バラツキＸ（％）＝｛（ＭＡＸ−ＭＩＮ）／（ＭＡＸ＋ＭＩＮ）｝×１００…式（１）（式（１）中、ＭＡＸはＡの周方向の最大値、ＭＩＮはＡの周方向の最小値を表す。） （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイの製造工程において破損が生じるのを防ぐことができるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板厚方向に対向する第１及び第２の主面を有し、且つ、第２の主面のみに滑剤が付着したフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記滑剤は、フラットパネルディスプレイの製造工程において前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板が搬送されるときに、前記第２の主面と、前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を搬送する搬送部材との間に介在するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】ソーダガラス基板、無アルカリガラス基板、又はアルミノケイ酸ガラス基板の表面を防眩化（アンチグレア化）するための表面処理液及び当該表面処理液を用いた防眩化ガラス基板の製造方法の提供。
【解決手段】表面処理液は、ソーダガラス基板、無アルカリガラス基板、又はアルミノケイ酸ガラス基板の表面を防眩化するために用いられ、下記式（ａ）〜（ｄ）で示される直線によって囲まれる濃度割合でＨＦとＨ_２ＳＯ_４とを含有する。（ａ）Ｘ＝０．５（ｂ）Ｘ＝１２（ｃ）Ｙ＝７５（ｄ）Ｙ＝２Ｘ＋８７上記式（ａ）〜（ｄ）において、ＸはＨＦの濃度（重量％）であり、ＹはＨ_２ＳＯ_４の濃度（重量％）である。ただし、上記式（ａ）〜（ｄ）で示される直線によって囲まれる濃度割合のうち、Ｘ＋Ｙ≧１００となる濃度割合を除く。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】波長域が異なる光に対して優れた特性を発揮する偏光素子を提供すること。
【解決手段】複数の偏光部２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂと、前記複数の偏光部に含まれ、所定の波長域の光を吸収する光吸収材４１Ｒ、４１Ｇ、４１Ｂとを備え、前記光吸収材が吸収する前記波長域は、前記偏光部２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂごとに設定されている。 （もっと読む）

【課題】強固な強化処理が施された大型のガラス母材からガラス基板を安定して複数枚採りをすることが可能なガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の化学研磨ステップおよび第２の化学研磨ステップを含む。第１の化学研磨ステップでは、ガラス母材１０の第１の主面のみに所定の片面研磨量だけ化学研磨処理が施される。第２の化学研磨ステップでは、第１の主面および第２の主面の両方に化学研磨処理が施される。そして、第１の主面に形成される第１の区画溝１０２および第２の主面に形成される第２の区画溝１０４が、ガラス母材１０の厚み方向の中心ライン１１０から片面研磨量に相当するズレ量１１４だけズレた位置にて貫通する。 （もっと読む）

【課題】強度に優れたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体の表面を４〜１０μｍの固定砥粒を用いて研削する粗ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を４μｍより小さい固定砥粒を用いて研削する精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を含み、前記粗ラッピング工程と前記精密ラッピング工程との間に前記化学処理工程を行うことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。前記化学処理工程において除去されるガラス基板前駆体の深さが、１〜３μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、かつ、付着した指紋が布等による乾拭きで拭き取りやすい基材であり、拭き取り部分に再度指紋成分が付着した場合であっても、該指紋成分が目立ちにくい基材、すなわち、優れた耐指紋汚染性を有する基材を提供する。
【解決手段】光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材１の平滑な面２の指が接触する箇所に、該平滑な面２に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴３を有し、該穴３の正面視での投影面積の二乗根の寸法が１０〜３００μｍであり、該穴３の平均深さが０．２〜５０μｍであり、該穴３の分布頻度が面積比で１０〜８５％であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材１。 （もっと読む）

【課題】多数枚生産される携帯機器用カバーガラスの強度のばらつきを低減できる携帯機器用カバーガラスの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、所定間隔を隔てて互いに平行に配列された複数枚の矩形状のガラス基板１００を、加熱された化学強化処理液１２２に浸漬することにより化学強化処理する化学強化工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、化学強化工程では、ガラス基板１００の主表面に対して平行な方向に化学強化処理液を流動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】（Ａ）分子内にビニルオキシ基を含有する低分子化合物及び／又は分子内にビニルオキシ基及び活性水素と反応しうる第２の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第１の官能基を含有する高分子化合物と、（Ｂ）分子内にＮ−マレオイルアミノ基を含含有する低分子化合物及び／又は分子内にＮ−マレオイルアミノ基及び活性水素と反応しうる第２の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第１の官能基を含有する高分子化合物とを、含有し、前記２種類の高分子化合物のうちの少なくとも一方の高分子化合物を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 （もっと読む）