【課題】 樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施す方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール２１０から連続的に引き出された長尺ガラスフィルムＧを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムＧの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムＧの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロール２３３の外周面上に接触させながら他方の面にスパッタリング等の熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において例えばアキュムレータロールを用いて長尺ガラスフィルムＧの伸縮を調整する。 （もっと読む）

【課題】ハフニウムおよび／もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法、例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができ、腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態であり、電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態。 （もっと読む）

【課題】電極を備えた透明基材を提供する。
【解決手段】特にはガラス製であり、特には太陽電池用の電極を備え、厚さが多くとも５００ｎｍ、特には多くとも４００ｎｍ、多くとも３００ｎｍ、又は、多くとも２００ｎｍのモリブデンＭｏに基づいた導電層を含んで成る透明基材が提供される。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板、ガラス基板またはその他の珪素含有材料を処理するフッ酸含有処理液を再生する方法及び装置において、効果的な再生または回収を可能にする。
【解決手段】、使用後のフッ酸含有処理液を貯留する貯蔵タンク1と、この貯蔵タンク1中の液におけるヘキサフルオロ珪酸の濃度を測定する濃度測定装置11と、貯蔵タンク1から受け入れた液を静置可能な析出反応タンク2と、測定された濃度から求められる理論計算量に基づき析出反応タンク2中に所定量のカリウム塩の水溶液を添加する析出用薬液供給部7,8,15と、析出した不溶性カリウム塩の懸濁液を静置して上澄み液を取り出し、必要に応じて濾過することで、清澄液と沈殿固形物とに分離する固液分離機構3-6,9と、この清澄液におけるフッ酸及び硝酸の濃度を測定する濃度測定装置11と、この濃度測定結果に基づきフッ酸及び硝酸を追加する機構13,14,23とを含む。 （もっと読む）

【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ１〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外部の機械的影響から保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えている改善されたガラスセラミックを提供する。
【解決手段】外部の機械的影響に対して保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えているガラスセラミックであって、その際、− 硬質材料層が、並んで存在しており、かつ互いに混合されている少なくとも２つの相を含有し、− 少なくとも１つのナノ結晶相及び１つの非晶相が存在し、− 硬質材料層が、少なくとも２６ＧＰａの強度及び少なくとも０．５μｍの層厚を有し、− 硬質材料層が、２００℃〜１０００℃の温度範囲内で耐化学薬品性であり、かつ− ガラスセラミックの熱膨張係数αが、硬質材料層の熱膨張係数αから^＋／₋２０％を超えて相違しないガラスセラミックによって解決される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主表面を平坦度３０ｎｍ以下に研磨することができる、ＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置１０のガラス基板２２の両主表面を研磨するＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法であって、前記研磨パッド２４が、微多孔が形成された表面層を有し、圧縮率が２０％以上である第１の軟質プラスチックシートと、前記第１の軟質プラスチックシートの前記研磨面の背面側に接合された、圧縮率が２０％未満である第２の軟質プラスチックシートと、を備えており、前記第２の軟質プラスチックシートの前記第１の軟質プラスチックシートが接合された反対面側をバフ処理した後、前記第２の軟質プラスチックシートのバフ処理された面を前記両面研磨装置の上下定盤の側にして、前記研磨パッドを該上下定盤に取り付けた状態で、前記研磨面側をドレス処理してから、前記ガラス基板の両主表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】様々な有機溶媒や樹脂との相溶性に優れ、無機材料表面に対してケイ素−酸素結合を形成することができ、容易に精製できるトリアリールアミン誘導体、その製造方法、その中間生成物、当該トリアリールアミン誘導体を無機材料表面に結合させてなる無機複合材料、並びに当該無機複合材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるシラノール基を有するトリアリールアミン誘導体。


（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^６、Ｒ^９、Ｒ^１１、Ｒ^１４中、少なくとも一つはＳｉＲ^１６Ｒ^１７ＯＨ（式中、Ｒ^１６、Ｒ^１７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０の直鎖、分岐、もしくは環状の一価炭化水素基を示す。）で表される置換基である。） （もっと読む）

【課題】光散乱機能および反射抑制機能の双方の向上に適した凹凸を有するガラス面を備えたガラス板を提供する。
【解決手段】光入射面となるガラス面１１を備えたガラス板１であって、このガラス面１１が、径が２０ｎｍ〜２５０ｎｍである微小凸部３１を有するとともに、０．０８μｍ〜０．８μｍの算術平均粗さＲａ、０．３μｍ〜７．０μｍの最大高さＲｙ、および０．３μｍ〜１０．０μｍの平均間隔Ｓｍにより示される凹凸２０を有する、ガラス板１を提供する。このガラス板の表面凹凸２０，３０は、フッ酸とフッ化カリウムなどのフッ化物塩とを含むエッチング液を用いたエッチング処理により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐エッチング液浸入性、非汚染性および剥離作業性に優れるガラスエッチング用保護シートを提供すること。
【解決手段】本発明により提供されるガラスエッチング用保護シートは、基材と該基材の片面に設けられた粘着剤層とを備え、ガラスをエッチングする際に非エッチング部分に貼り付けて該非エッチング部分をエッチング液から保護するガラスエッチング用保護シートである。また、前記粘着剤層を構成する粘着剤のゲル分率が６０％以上であり、前記粘着剤が、アクリル系ポリマーを主成分とするアクリル系粘着剤であり、前記アクリル系ポリマーは、式：ＣＨ_２＝ＣＲ^１ＣＯＯＲ^２
（式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｒ^２はアルキル基を示す）で表わされるモノマーを主モノマーとして含むモノマー原料を重合して合成されたものであり、前記主モノマーは、前記式のＲ^２が炭素数６以上のアルキル基であるモノマーを主成分として含む。 （もっと読む）

【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜３０％含有し、且つβ−ＯＨ値が０．３〜１／ｍｍであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス板１の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程後に、前記ガラス板１を化学強化する化学強化工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。前記研磨工程は、前記ガラス板１の表面を、酸化セリウムを含むスラリーを用いて研磨した後、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程（１）および（２）を含むガラス板の製造方法に関する。
（１）Ａｌ_２Ｏ_３を３モル％以上含有し、Ｌｉ_２ＯおよびＮａ_２Ｏの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量Ｒ_２Ｏに対するＬｉ_２ＯまたはＮａ_２Ｏの含有量のモル比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２ＯまたはＮａ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが、０．９以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
（２）工程（１）で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程 （もっと読む）

【課題】 基材の表面に所望の均一な厚さを有するシリカ膜を形成して、該基材を被覆する方法、及び、シリカ膜の厚さが従来よりも薄いものであっても、シリカ膜を紫外線から赤外線までの反射膜として十分に機能させることができるシリカ被覆体を提供する。
【解決手段】 基材の表面をシリカ膜で被覆する方法であって、少なくとも、シリカガラス粒子と、水溶液において熱的要因によりゲル化可能な有機物とを、水に加えてスラリーを作製する工程と、前記スラリーを前記基材の表面に塗布して塗布膜を形成するとともに、該塗布膜を熱的に処理してゲル膜を得る工程と、前記ゲル膜を乾燥させてシリカ粒子層とする工程と、前記シリカ粒子層を加熱して前記基材の表面上に固定させることにより、シリカ膜とする工程とを含むシリカ膜による被覆方法。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンを有する凹凸ガラス板を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラスペースト層３を形成する工程と、ガラス層を形成する工程と、凹凸を形成する工程とを備える。ガラスペースト層３を形成する工程では、平坦な表面２ａを有するガラス板２の該表面２ａの一部の上に、ガラス板２よりも軟化点が低いガラス粉末を含むペーストを塗布し、ガラスペースト層３を形成する。ガラス層を形成する工程では、ガラスペースト層３を焼成する。凹凸を形成する工程では、ガラス板２に対するエッチング速度よりもガラス層に対するエッチング速度の方が大きいエッチング液を用いてガラス層をエッチングにより除去すると共に、凹凸を形成する。 （もっと読む）

【課題】熱ＣＶＤ法により薄膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板１０の薄膜を形成しようとする部分である成膜部１０ｃの他主面１０ｃ２に、基板１０に吸収される波長域の光を照射することにより成膜部１０ｃを加熱した状態で、成膜部１０ｃの一主面１０ｃ１に対向して配置したノズル３０から成膜部１０ｃの一主面１０ｃ１に向けて反応ガスを供給することにより薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】透明材料をスクライビングないし溶接する方法を提供する。
【解決手段】透明材料をスクライブするため、材料を横切るレーザビームのシングルパスで多重スクライブ造作を創るために、超短レーザパルスを使用し、該スクライブ造作の少なくとも一つは材料の表面下に形成され、クリーンな割断を可能にする。透明材料を溶接するための方法は、局在化された加熱を通して接合を創り出すために、超短レーザパルスを使用する。超短パルス持続時間は、レーザ放射の非線形吸収を起こし、レーザの高繰り返し率は、材料内に熱のパルスからパルスへの蓄積を起こす。レーザは材料の界面近くに集光され、溶接されるための領域に高エネルギーフルーエンスを生成し、材料の残部への損傷を最小化し、きれいな溶接線を可能にする。 （もっと読む）

【課題】カバーガラス用ガラス基板の表面に印刷を施した場合、良好な印刷品質が得られる電子機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】携帯機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板１の表面に印刷を施す印刷工程を含み、少なくともアルカリ金属を含むガラスからなるカバーガラス用ガラス基板１の印刷可能な表面に、カバーガラス用ガラス基板１が印刷工程に供されるまで、ガラス基板表面の変質を抑制するための保護膜２を形成する。印刷工程の直前に保護膜２を除去し、印刷工程では、保護膜２が除去されたガラス基板表面に対して印刷層３を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量％表示で、ＳｉＯ_２：５０〜７０、Ａｌ_２Ｏ_３：１〜２２、ＺｒＯ_２：０〜８、Ｂ_２Ｏ_３：０〜８、Ｒ_２Ｏ：１０〜３０（ＲはＬｉ、Ｎａ及びＫからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、ＭＯ：０〜２０、（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選ばれる少なくとも１つ）、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はＲ_２ＯとしてＬｉ_２Ｏを少なくとも１質量％有し、Ａｌ_２Ｏ_３とＺｒＯ_２とを少なくとも合計で６質量％有し、軟化点温度が６５０℃以下であること。 （もっと読む）

【課題】赤外線の透過率を電気的に制御する調光素子を提供する。
【解決手段】第１透明部材１２を含む第１基体１０と、第２透明部材２２を含む第２基体２０と、電解質層３０とを備える電気制御調光素子１０００が提供される。典型的な電気制御調光素子においては、第１透明部材１２のある面１２が二酸化バナジウムを主成分として含む調光層１００により被覆され、第２透明部材２２のある面が透明電極膜により被覆され、そして電解質層３０が、第１基体１０の調光層１００と第２基体２０の透明電極膜とにより挟まれている。 （もっと読む）