長尺ガラスフィルムの処理方法および処理装置
【課題】 樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施す方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール２１０から連続的に引き出された長尺ガラスフィルムＧを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムＧの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムＧの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロール２３３の外周面上に接触させながら他方の面にスパッタリング等の熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において例えばアキュムレータロールを用いて長尺ガラスフィルムＧの伸縮を調整する。
【解決手段】 巻出ロール２１０から連続的に引き出された長尺ガラスフィルムＧを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムＧの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムＧの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロール２３３の外周面上に接触させながら他方の面にスパッタリング等の熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において例えばアキュムレータロールを用いて長尺ガラスフィルムＧの伸縮を調整する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺ガラスフィルムに対して連続的に成膜処理やアニール処理などの表面処理を施す方法および装置に関し、特に、ロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムを連続的に引き出して減圧雰囲気下において成膜処理を施した後、再びロール状に巻き取るかあるいは薄板状に切断する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話等の電子機器では、指先やペン先で操作が可能なタッチパネルが採用されている。このタッチパネルには抵抗型と静電容量型があり、どちらも基板フィルム上にＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の透明導電膜からなるパターニングされた配線が設けられており、これにより位置情報を検出する仕組みになっている。
【０００３】
このような透明導電膜の配線パターンの形成には、一般にロールトゥロールプロセスが用いられている。ロールトゥロールプロセスは、ロール状に巻かれたＰＥＴフィルムのような透明性の高い樹脂フィルムをロールから連続的に引き出して搬送しながら、該引き出された樹脂フィルムの片面にスパッタリング等の乾式めっき法で透明導電膜を成膜し、再びロールに巻き取るものであり、成膜した透明導電膜は別工程においてエッチングでパターニングすることにより配線が形成される。
【０００４】
上記のようなロールトゥロールで搬送される樹脂フィルム上に、乾式めっき法によって成膜処理を施す技術は古くから知られている。例えば特許文献１には、クーリングローラーの外周面上にフィルムを走行させてスパッタリング成膜を行う方法が開示されている。そして、この方法により、フィルムの変質や変形を生ずることなく成膜できると記載されている。
【０００５】
ところで、タッチパネル用の基板フィルム上に成膜される透明導電膜は、抵抗値が低ければ低いほど同じ導電性を得るための膜厚を薄くできるため、成膜時間を短縮化することができる上、高価な透明導電膜用の材料の使用量を削減することができる。さらに、膜厚を薄くすることにより可視波長域の透明性を高めることができる。一般的に、透明導電膜の抵抗値を低減させるためには、成膜温度を高めたり成膜後にアニール処理を施したりして透明導電膜を結晶化させることが知られている。
【０００６】
しかしながら、ＰＥＴフィルムのような透明性の高い樹脂フィルムでは、温度１５０℃の雰囲気下では３０分ほどがアニール処理の限界であり、これより高い熱負荷を与えると樹脂フィルムが変形してしまう。このように、樹脂フィルムは耐熱性の面から適用範囲に制限があるため、樹脂フィルムに代わる温度１５０℃を超えた条件で成膜処理やアニール処理が可能な透明性の高いフィルムが求められていた。
【０００７】
このような状況の下、近年、特許文献２に記載のような、オーバーフローダウンドロー法による厚み３００μｍ以下のガラスフィルムが開発された。そして、厚さ２００μｍ以下でロール状に巻かれており且つ樹脂フィルムのように自在に曲げることが可能なガラスフィルムが市場に紹介されている。このようなガラスフィルムであれば、数百℃の成膜処理やアニール処理が可能となる。
【０００８】
また、ロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムを引き出してスパッタリング成膜を行う技術が特許文献３、４に記載されている。具体的には、特許文献３には巻出ロールと巻取ロールの間でフローティング状態にあるガラスフィルムに成膜する技術が開示されており、特許文献４には巻出ロールと巻取ロールの間に位置する加熱ロールの外周面上に接触させたガラスフィルムにスパッタリング法で成膜する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭６２−２４７０７３号公報
【特許文献２】特開２０１０−２１５４９８号公報
【特許文献３】特開平１−５００９９０号公報
【特許文献４】特開２００７−１１９３２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
薄いガラスフィルムは、樹脂フィルムと比較するとほとんど伸びることがなく容易に割れるため、樹脂フィルムと同じようにロールトゥロールで搬送しながら処理する場合は、搬送速度や温度管理等を厳密に調整する必要がある。しかしながら、このように厳密に調整を行っても依然として割れることが多く、割れの少ない長尺ガラスフィルムの処理方法や処理装置が望まれていた。
【００１１】
本発明はこのような問題点に着目してなされたものであり、その課題とするところは、樹脂フィルムと比較して伸び難く割れやすい長尺ガラスフィルムに対し、ロール状に巻かれた状態から連続的に引き出して割ることなくその表面に熱負荷の掛かる処理を行うことである。ここで熱負荷の掛かる処理とは、長尺ガラスフィルムが数百℃に加熱された状態で行われる処理のことであり、例えば長尺ガラスフィルムに対して成膜装置（ウェブコーター）を用いて乾式めっき法によって成膜する処理やアニール処理がこれに該当する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明者はロールトゥロールで搬送されるガラスフィルムをキャンロールの外周面に接触させながら当該キャンロールの周囲に設置した成膜手段により連続して成膜を行う方法に関して鋭意研究を続けた結果、キャンロールの少なくとも上流側あるいは下流側に温度変化に起因するガラスフィルムの伸縮を吸収するいわゆるアキュムレータ機構を設けることによりガラスフィルムの割れを著しく抑制できること見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法は、ロールから連続的に引き出された長尺ガラスフィルムを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロールの外周面上に接触させながら他方の面に熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において長尺ガラスフィルムの伸縮を調整することを特徴としている。
【００１４】
また、本発明の長尺ガラスフィルムの処理装置は、長尺ガラスフィルムをロールから引き出して搬送経路に沿って搬送する搬送手段と、該引き出された長尺ガラスフィルムを加熱する加熱手段と、該加熱された長尺ガラスフィルムを接触させる、熱媒で加熱された外周面を備えたキャンロールと、該外周面に接触している長尺ガラスフィルムに表面処理を施すべく該外周面に対向して設けられた表面処理手段と、該表面処理された長尺ガラスフィルムを冷却する冷却手段と、長尺ガラスフィルムの伸縮を調整すべく該搬送経路における該加熱手段と該キャンロールとの間および／または該冷却手段の下流側に設けられたアキュムレータ手段とを有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して、該長尺ガラスフィルムを割ることなく成膜処理やアニール処理などの熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施すことが可能となる。特に、本発明に係る処理方法や処理装置を乾式めっき法による成膜処理に応用する場合は、ロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムを連続的に引き出してキャンロールの外周面上でスパッタリング等の成膜手段により連続的に成膜することが可能となる。
【００１６】
本発明の処理方法や処理装置による成膜処理は、裁断されたガラスフィルムに対して成膜処理を施す枚葉式よりもはるかに生産性が高く、且つ安定的に成膜することができる。さらに、本発明の処理方法や処理装置による成膜処理で成膜された長尺ガラスフィルム上のタッチパネル用透明導電膜は、樹脂フィルム上に成膜したものに比べて可視短波長域の透明度が高く、且つ低抵抗となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の一具体例を示す平面図である。
【図２】本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の他の具体例を示す平面図である。
【図３】本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の更に他の具体例を示す平面図である。
【図４】タッチパネルの膜機構を示す断面図である。
【図５】比較例に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、連続的に搬送される長尺ガラスフィルムに対してキャンロールの外周面上に接触させながら成膜処理やアニール処理などの熱負荷の掛かる処理を施すに際して、当該熱負荷の掛かる処理を施す工程の少なくとも上流側あるいは下流側において、温度変化に起因するガラスフィルムの伸縮を調整することを特徴とするものである。これにより、長尺ガラスフィルムの割れを抑制することができる。
【００１９】
本発明が対象とする長尺ガラスフィルムは、熱膨張係数が４×１０−６（／Ｋ）程度であり、ＰＥＴフィルムより一桁小さいため、ＰＥＴフィルムに比べて熱による伸縮の程度が小さい。しかしながら、例えば長尺ガラスフィルムに成膜を行うプロセスでは、温度変化による長尺ガラスフィルムの長さ方向の伸縮を搬送系のモータ制御のみで吸収することは難しい。その理由は、ガラスフィルムは伸ばすことがほとんどできないため、搬送系のモータ制御において生じ得る搬送誤差の影響を受けて容易に割れるおそれがあるからである。
【００２０】
これに対してＰＥＴフィルムであれば、搬送系のモータ制御での搬送誤差をＰＥＴフィルム自体の伸びで緩和することができる。さらに、ＰＥＴフィルムの表面には表面の滑りをよくするフィラー粒子が存在しているため、これによる若干の滑りによっても搬送系のモータ制御での搬送誤差を緩和することができる。しかし、ガラスフィルムは、その表面が非常に平滑である上、フィラー粒子が存在していないため、搬送ロール等の外周面上で滑ることはほとんどない。
【００２１】
このように、搬送系のモータ制御での搬送誤差により長尺ガラスフィルムに無理な引っ張りが発生すると、長尺ガラスフィルムは簡単に割れてしまうことがある。そこで、本発明においては、長尺ガラスフィルムの処理のうち特に温度変化が大きい表面処理の上流側や下流側に長尺ガラスフィルムの伸縮を吸収するいわゆるアキュムレータを配置している。これにより、温度変化に起因する長尺ガラスフィルムの伸縮や搬送系のモータ制御で生じ得る搬送誤差を吸収して、無理な引っ張りが長尺ガラスフィルムに掛からないようにすることができる。
【００２２】
ガラスフィルムは無理な引っ張りやショックによって簡単に割れてしまう扱い難い基板であるが、本発明によって可視短波長領域で高い透明度を有し且つ高温処理（例えば、成膜処理やアニール処理）に耐えるというガラスフィルムの極めて優れた利点を引き出すことが可能となる。以下、具体的な長尺ガラスフィルムの成膜装置を採り上げて本発明に係る長尺ガラスフィルムの処理方法の実施態様について詳細に説明する。
【００２３】
（１）長尺ガラスフィルムの成膜装置（基本型）
まず、本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の一具体例について図１を参照しながら説明する。図１に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、略直方体形状の減圧容器内に納められている。この減圧容器は、到達圧力１０−４Ｐａ程度までの減圧と、その後のスパッタリングガスの導入による０.１〜１０Ｐａ程度の圧力調整を行うため、図示しないドライポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオコイル等の種々の装置を有している。減圧容器は、したがってこれらの圧力に耐えることができる程度の強度を有していればよい。
【００２４】
減圧容器内は、隔壁によって巻出ゾーン２００、ヒーターゾーン２０１、上流側アキュムレータゾーン２０２、表面改質ゾーン２０３、成膜ゾーン２０４、冷却ゾーン２０５、下流側アキュムレータゾーン２０６、および巻取ゾーン２０７に仕切られている。成膜装置は搬送手段を有しており、これによりロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムＧを引き出して上記各ゾーンを経由する所定の搬送経路に沿って長尺ガラスフィルムＧを搬送している。
【００２５】
具体的には、この搬送手段は、巻出ロール２１０、フリーロール２１２、２１４、２１５、駆動ロール２１６、２１７、フリーロール２１８、２２６、２２７、前フィードロール２３２、キャンロール２３３、後フィードロール２３４、フリーロール２４４、駆動ロール２４７、フリーロール２５１、２５２、および巻取ロール２５６で構成されている。
【００２６】
巻出ロール２１０は巻出ゾーン２００内に設けられている。巻出ロール２１０には、長尺ガラスフィルムＧが、合紙としての長尺ＰＥＴフィルムＰと共にロール状に巻かれてセットされている。長尺ＰＥＴフィルムＰは、長尺ガラスフィルムＧを巻出ロール２１０から引き出す時に同時に排出されるため、フリーロール２１２の後段に位置するＰＥＴフィルム巻取ロール２１３で巻き取られるようになっている。なお、巻出ロール２１０に接するようにタッチロール２１１が設けられている。
【００２７】
巻出ゾーン２００に隣接するヒーターゾーン２０１内には、長尺ガラスフィルムＧを加熱する加熱手段が設けられている。この加熱手段は、長尺ガラスフィルムＧの搬送経路に沿って順に設けられたヒーター２１９、２２０、２２１、および２２２で構成されている。各ヒーターは、例えばシースヒータ、カーボンヒータ、赤外線ヒータ等からなる。なお、成膜ゾーン２０４の上流側にヒーターゾーン２０１を設ける理由は、スパッタリング成膜の前に長尺ガラスフィルムＧを暖めておかないとスパッタリング成膜の熱負荷により長尺ガラスフィルムＧが割れるおそれがあるからである。
【００２８】
ヒーターゾーン２０１に隣接する上流側アキュムレータゾーン２０２内には、アキュムレータ手段が設けられている。このアキュムレータ手段は、長尺ガラスフィルムＧに一定の張力を付与するアキュムレータロール（ダンサーロールとも称する）２２４と、その前後に設けられたフリーロール２２３、２２５とで構成される。
【００２９】
上記一定の張力を付与するため、アキュムレータロール２２４の回転軸は付勢手段によって下方（図中の矢印Ａ１の方向）に付勢されている。これにより、長尺ガラスフィルムＧの伸縮に追従して自動的にアキュムレータロールを上下方向に変位させることが可能となる。付勢手段の具体的な機構は特に限定するものではなく、例えばアキュムレータロール２２４の回転軸を回転自在に支持する支持部につるまきバネや板バネなどの弾性体の一端部を取り付けると共に、その他端部をアキュムレータゾーンの床部や天井部に取り付ければよい。
【００３０】
あるいは、アキュムレータロール２２４自体が非常に重くなる場合は、アキュムレータロール２２４自体の重力よりも低い張力で長尺ガラスロールの搬送が行われるので、回転軸を回転自在に支持する支持部に張力センサを取り付け、この張力センサの値が一定になるようにモータ等の駆動手段によって当該支持部を上下移動させる制御を行ってもよい。
【００３１】
上流側アキュムレータゾーン２０２に隣接する表面改質ゾーン２０３内には、膜の密着力を向上させるため、イオンビーム処理やプラズマ処理を行なう２台の表面改質装置２２９、２３０がこの順に搬送経路に沿って設けられている。これら２台の表面改質装置に導入するガスは、２台とも同じガスを使用してもよいし、異なるガスを使用してもよい。
【００３２】
例えば、最初に窒素イオンビームを照射した後、酸素イオンビームを照射してもよい。ガラスフィルムに施すこれらイオンビーム処理やプラズマ処理等の処理条件や、これら表面改質処理の要否は、必要とされる密着力に応じて適宜選択される。なお、図１の成膜装置では、表面改質ゾーン２０３においてイオンビーム遮蔽板２２８と表面改質装置２２９、２３０との間に長尺ガラスフィルムＧを通過させてイオンビーム処理する方法が示されているが、スパッタリング成膜に匹敵する高い熱負荷が長尺ガラスフィルムＧに掛かる場合は、加熱キャンロールに巻きつけて表面改質を行う必要がある。
【００３３】
表面改質ゾーン２０３に隣接する成膜ゾーン２０４内にはキャンロール２３３が設けられている。キャンロール２３３の内部には、減圧容器の外部から供給される高沸点有機溶媒、熱媒油、または熱湯等の熱媒が循環しており、これにより外周面に接触した長尺ガラスフィルムＧを保温もしくは加熱することが可能となる。このようにキャンロール２３３を熱媒で加温するのは、スパッタリング成膜の熱負荷でガラスフィルムに熱衝撃が加わり割れることを防ぐ為である。
【００３４】
キャンロール２３３の外周面に対向する位置には、長尺ガラスフィルムＧに熱負荷の掛かる表面処理を施すための表面処理手段が設けられている。図１に示す表面処理手段は、乾式めっき法の一種であるスパッタリング成膜を行うスパッタリングカソード２３６、２３７、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、および２４３がこの順に搬送経路に沿って並べられている。
【００３５】
なお、金属膜のスパッタリング成膜の場合は、板状ターゲットを使用することが好ましいが、板状ターゲットを用いた場合、ターゲット上にノジュール（異物の成長）が発生することがある。これが問題になる場合は、ノジュール（異物の成長）の発生がなく、ターゲットの使用効率も高い円筒形のロータリーターゲットを使用してもよい。
【００３６】
成膜ゾーン２０４に隣接する冷却ゾーン２０５内には冷却手段が設けられている。図１に示す冷却手段は、冷却ロール２４５、２４６がこの順に搬送経路に沿って設けられている。冷却ロール２４５、２４６の内部には、減圧容器の外部から供給される冷却水や有機溶媒等の冷媒が循環している。冷却ロール２４５の冷媒の温度は、冷却ロール２４６より高くすることで、成膜後のガラスフィルムを段階的に冷却することも可能である。
【００３７】
これら冷却ロールの外周面に長尺ガラスフィルムＧを片面ずつ接触させることにより該フィルムを冷却することができる。なお、成膜ゾーン２０４の下流側に冷却ゾーン２０５を設ける理由は、スパッタリング成膜の後に長尺ガラスフィルムＧを冷やしておかないと、巻取ロール２５６に巻取った後に冷えて巻締まりが発生し、割れるおそれがあるからである。
【００３８】
冷却ゾーン２０５に隣接する下流側アキュムレータゾーン２０６内には、前述した上流側アキュムレータゾーン２０２と同様のアキュムレータ手段が設けられている。すなわち、このアキュムレータ手段は、長尺ガラスフィルムＧに一定の張力を付与するアキュムレータロール（ダンサーロールとも称する）２４９と、その前後に設けられたフリーロール２４８、２５０とで構成されている。
【００３９】
このアキュムレータロール２４９の回転軸も、付勢手段によって下方（図中の矢印Ａ２の方向）に付勢されており、これにより長尺ガラスフィルムＧの伸縮に追従して自動的にアキュムレータロールが上下方向に変位するようになっている。なお、前述したアキュムレータロール２２４と同様に、アキュムレータロール２４９の回転軸を回転自在に支持する支持部に張力センサを取り付け、この張力センサの値が一定になるようにモータ等の駆動手段によって当該支持部を上下移動させる制御を行ってもよい。
【００４０】
下流側アキュムレータゾーン２０６に隣接する巻取ゾーン２０７内には上記各ゾーンで処理された長尺ガラスフィルムＧを再び巻き取る巻取ロール２５６が設けられている。巻取ゾーン２０７内には更に合紙としてのＰＥＴフィルム２５４がロール状に巻かれたＰＥＴフィルム巻出ロール２５７が設けられており、長尺ガラスフィルムＧは、ＰＥＴフィルム巻出ロール２５７から引き出されたＰＥＴフィルム２５４を挟み込みならが巻取ロール２５６に巻取られる。なお、巻取ロール２５６に接するようにニアロール２５５が設けられている。このように、成膜後のガラスフィルムを減圧容器内で巻き取ることにより、成膜された長尺ガラスフィルムＧの後工程での取り扱いが容易になる。
【００４１】
次に、上記構成の成膜装置の動作について説明する。巻出ロール２１０から引き出された長尺ガラスフィルムＧは、先ずヒーターゾーン２０１へ搬送され、ここで前述したようにスパッタリング成膜の熱負荷による割れを防ぐべくヒーター２１９、２２０、２２１、および２２２によって所定の温度まで加熱される。
【００４２】
ヒーターゾーン２０１で加熱された長尺ガラスフィルムＧは、次にアキュムレータロール２２４が配されたアキュムレータゾーン２０２に送られる。ここで、ヒーターゾーン２０１の加熱処理に起因する長尺ガラスフィルムＧの長さ方向の変化が吸収される。すなわち、加熱処理によって長尺ガラスフィルムＧがその長さ方向に伸長した場合、アキュムレータロール２２４は前述したように下方に向けて付勢されているので、この付勢力と長尺ガラスフィルムＧの張力がバランスするまでアキュムレータロール２２４は下方に向けて変位する。逆に、長尺ガラスフィルムＧが冷えてその長さ方向に収縮した場合、長尺ガラスフィルムＧの張力が付勢力に打ち勝ってアキュムレータロール２２４は上方に向けて変位する。
【００４３】
このように、アキュムレータロール２２４が上下方向に位置を変えることにより、アキュムレータロール２２４とその前後に設けられたフリーロール２２３、２２５との間がバッファの役目を果たし、長尺ガラスフィルムＧの長さ方向の変化が吸収される。樹脂フィルムの場合は、例えば加熱処理されたフィルムを駆動させる駆動ロールのモータ回転数を制御することによって樹脂フィルムに無理な応力がかからないようにすることが可能ではあるが、樹脂フィルムと比較して伸び難く割れやすいガラスフィルムを搬送制御するにはアキュムレータロールを採用することが必要となる。
【００４４】
アキュムレータロール２２４には、例えばその回転軸の上下方向の位置を検出するアキュムレータロール位置検出手段（図示せず）を設け、これから出力される信号でアキュムレータロール２２４よりも下流側に位置する駆動ロール、例えばキャンロール２３３の周速度を制御してもよい。具体的には、アキュムレータロールの位置が下降傾向にあるときはその下流側の駆動ロールのモータを徐々に速くなるように制御し、逆に上昇傾向にあるときは下流側の駆動ロールのモータを徐々に遅くなるように制御すればよい。
【００４５】
これにより、アキュムレータロールの回転軸の位置（高さ）が略一定の範囲内に収められ、長尺ガラスフィルムの搬送速度も略一定の範囲内に収めることができる。その結果、成膜時の膜厚変化を最小限に留めることが可能となる。ここで、アキュムレータロールの回転軸の位置を略一定の範囲内に収めるとは、回転軸の位置の変化を数十ｃｍの範囲に収めることである。回転軸の位置の変化が１ｍもあると、その後の搬送速度に影響し、成膜時の膜厚変化が著しくなる。なお、このように制御する場合は、長尺ガラスフィルムＧに衝撃を与えない範囲で周速度が変動するように駆動ロールの周速度を制御するのが好ましい。
【００４６】
上記したように、キャンロール２３３の周速度でアキュムレータロール２２４を制御する場合は、これに伴ってキャンロール２３３に巻付けられている長尺ガラスフィルムＧの搬送速度が変動する。その結果、長尺ガラスフィルムＧの表面にスパッタリング成膜したときの膜厚にばらつきが生ずる。これが問題になる場合は、キャンロール２３３の周速度に応じて各スパッタリングカソードへの供給電力を変化させればよい。これにより、長尺ガラスフィルムＧの搬送速度の変化に対応して各スパッタリングカソードによる成膜速度を変化させることができるので、ばらつきのない均一な膜厚が得られる。
【００４７】
アキュムレータゾーン２０２で長さ方向の伸縮が調整された長尺ガラスフィルムＧは次に表面改質ゾーン２０３に送られ、ここでイオンビーム処理やプラズマ処理による表面改質が行なわれて膜の密着力が向上する。続いて、長尺ガラスフィルムＧは成膜ゾーン２０４に送られ、ここでキャンロール２３３に巻付けられながら、成膜手段であるスパッタリングカソード２３６、２３７、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、および２４３によって順に成膜が行われる。
【００４８】
キャンロール２３３の上流側には長尺ガラスフィルムＧの張力を検出する張力センサーロール２３１が設けられており、この張力センサーロール２３１で検出した張力の信号が前フィードロール２３２やキャンロール２３３の周速度にフィードバックされる。これにより、長尺ガラスフィルムＧを所定の範囲の張力に保ちつつキャンロール２３３への密着を確保することができる。
【００４９】
キャンロール２３３の下流側にも同様に張力センサーロール２３５が設けられており、これにより検出された長尺ガラスフィルムＧの張力の信号がキャンロール２３３や後フィードロール２３４の周速度にフィードバックされる。これにより、長尺ガラスフィルムＧを所定の範囲の張力に保ちつつキャンロール２３３への密着を確保することができる。
【００５０】
成膜処理が施された長尺ガラスフィルムＧは、次に冷却ゾーン２０５に送られ、ここで冷却ロール２４５、２４６によって冷却される。冷却された長尺ガラスフィルムＧは、次にアキュムレータゾーン２０６に送られ、ここで、前述したアキュムレータロール２２４と同様に、アキュムレータロール２４９の上下方向の変位によって冷却に起因するガラスフィルムの長さ方向の変化が吸収される。
【００５１】
このアキュムレータロール２４９にも、前述したアキュムレータロール２２４と同様にアキュムレータロール位置検出手段（図示せず）を設けて、ここから出力される信号でアキュムレータロール２４９よりも下流側に位置する駆動ロールの周速度を制御してもよい。これにより、アキュムレータロール２４９の変位を一定の範囲内に収めることができる。アキュムレータゾーン２０６で伸縮が調製された長尺ガラスフィルムＧは、最後に巻取ゾーン２０７に送られ、ここで合紙としてのＰＥＴフィルム２５４と共に巻取ロール２５６に巻取られる。
【００５２】
以上、熱負荷の掛かる表面処理としてスパッタリング成膜を例に挙げて本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法の一具体例について説明したが、本発明が対象とする熱負荷の掛かる表面処理はスパッタリング成膜に限定されるものではなく、プラズマ処理やイオンビーム処理など、より高い熱負荷の掛かる表面処理であってもよい。この場合は、図１の成膜装置のスパッタリングカソードに代えて各種の表面処理手段が設けられる。
【００５３】
また、上記説明では乾式めっきの例としてスパッタリングをとりあげて説明したが、これに限定されるものではなく、ＣＶＤ（化学気相堆積；Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＡＬＤ（原子層堆積；Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｐｏｓｉｔｉｏｎ）、真空蒸着、マグネトロンスパッタリング、イオンビームスパッタリングであってもよい。
【００５４】
（２）長尺ガラスフィルムの成膜装置（レーザーダイシング型）
次に、本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の他の具体例について図２を参照しながら説明する。この図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、図１の巻取ゾーン２０７に代えてダイシングゾーン３０８が設けられていることを除いて図１に示す成膜装置とほぼ同等である。すなわち、この図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置では、成膜された長尺ガラスフィルムに対して例えばレーザーダイシングにより切断を行い、切断された薄板状のガラスフィルムＳをスタックすることを特徴としている。
【００５５】
具体的には、この図２に示す本発明の他の具体例の長尺ガラスフィルムの成膜装置は、巻出ゾーン３００、ヒーターゾーン３０１、上流側アキュムレータゾーン３０２、表面改質ゾーン３０３、成膜ゾーン３０４、冷却ゾーン３０５、下流側アキュムレータゾーン３０６、およびダイシングゾーン３０８に仕切られた減圧容器内に納められている。
【００５６】
これらのうち、巻出ゾーン３００から下流側アキュムレータゾーン３０６までに収められている成膜装置の構成要素については、図１に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置のものとほぼ同等であるので、以降の説明においては、ダイシングゾーン３０８における構成要素について説明する。なお、図２において図１と同一の部材は、符号の下２桁が図１のものと同一になっている。
【００５７】
ダイシングゾーン３０８内には、ニップロール３５８と引出駆動ロール３５９とで上下から挟み込んで引き出された長尺ガラスフィルムＧを裁断する裁断手段が設けられている。この裁断手段は、例えばレーザー照射装置３６０（レーザー発振器とスキャナーとを組み合わせた装置）からなり、レーザー発振器から発せられる照射レーザー３６１の照射位置を、スキャナーで長尺ガラスフィルムＧに対してその幅方向に移動させることによって、長尺ガラスフィルムＧを連続的に裁断することができる。
【００５８】
切断された薄板状のガラスフィルムＳは、落下して下方に位置するスタックボックス３６２内にスタックされる。なお、長尺ガラスフィルムＧは連続的に搬送されているため、搬送方向に対して垂直に切断するためには、照射レーザー３６１の照射位置は、該搬送方向に対して垂直方向ではなく若干斜め方向に移動するのが好ましい。
【００５９】
このように、減圧容器内で成膜後のガラスフィルムを切断することにより、後工程がバッチ式や枚歯式の場合に好都合である。なお、裁断は前述したレーザーダイシングにより行うことが望ましい。その理由は、レーザーダイシングではカット面がレーザーの熱によって若干溶けるので、割れにくくすることができるからである。これに対して裁断にダイシングソーやダイヤモンドカッターを用いると、カット面に無数のマイクロクラックが発生するので、このクラックをきっかけに割れやすくなる。
【００６０】
（３）長尺ガラスフィルムの成膜装置（大気中レーザーダイシング型）
次に、本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の更に他の具体例について図３を参照しながら説明する。この図３に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、大気中でレーザーダイシングにより切断してスタックする点を除いて図２に示す成膜装置とほぼ同等である。この方法によれば、ガラスフィルムロール１本分の成膜工程が終了する前に成膜後のガラスフィルムを取り出すことができるため、生産性を高めることができる。
【００６１】
具体的には、この図３に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、巻出ゾーン４００、ヒーターゾーン４０１、上流側アキュムレータゾーン４０２、表面改質ゾーン４０３、成膜ゾーン４０４、冷却ゾーン４０５、下流側アキュムレータゾーン４０６、差圧ゾーン４０９、およびダイシングゾーン４０８に仕切られた減圧容器内に納められている。
【００６２】
これらのうち、巻出ゾーン４００から下流側アキュムレータゾーン４０６までに収められている成膜装置の構成要素については、図１および図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置のものとほぼ同等であり、ダイシングゾーン４０８に収められている成膜装置の構成要素については、図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置のものとほぼ同等である。従って、以降の説明においては、差圧ゾーン４０９について説明する。なお、図３において図１や図２と同一の部材は、符号の下２桁が図１や図２のものと同一になっている。
【００６３】
前述したように、この図３に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、下流側アキュムレータゾーン４０６とダイシングゾーン４０８の間に差圧ゾーン４０９が設けられている以外は図２に示す成膜装置とほぼ同等である。互いに隣接する下流側アキュムレータゾーン４０６と差圧ゾーン４０９とを仕切る隔壁、および互いに隣接するダイシングゾーン４０８と差圧ゾーン４０９とを仕切る隔壁には、それぞれ長尺ガラスフィルムＧを両面から挟み込む２対のゴムロール４５２、４５３が設けられている。なお、これら２対のゴムロールは、大気圧であるダイシングゾーン４０８が下流側アキュムレータゾーン４０６の真空に影響を与えない程度に気密性が保たれている。
【００６４】
これにより、巻出ゾーン４００から下流側アキュムレータゾーン４０６までの減圧雰囲気を維持しつつ、長尺ガラスフィルムの裁断を大気雰囲気下で行うことが可能となる。よって、成膜処理の作業を中断することなく切断された薄板状ガラスフィルムＳを取り出して、バッチ式や枚歯式の後工程の作業を行うことができる。
【００６５】
次に、図４を参照しながらタッチパネルの膜構造について説明する。一般的に、タッチパネルに用いられる膜構造は、基板としての長尺ガラスフィルムＧの片面に、ガラスフィルム１側から順に、第１層目の物理的膜厚１０ｎｍのＳｉＯ２層１、第２層目の物理的膜厚６ｎｍのＮｂ２Ｏ５層２、第３層目の物理的膜厚３５ｎｍのＳｉＯ２層３、および第４層目の物理的膜厚２２ｎｍのＩＴＯ層４が成膜された積層構造を基本としている。
【００６６】
このように、透明導電性を得るためのＩＴＯ層４以外にも複数の層が成膜されている理由は、ガラスフィルムをタッチパネルとして使用する場合、ＩＴＯ層４には電極としての役割を担うパターン部が形成されるからである。すなわち、ＩＴＯ層４のパターン部と非パターン部の見栄えを良くするため、換言すれば、これらパターン部と非パターン部とで反射率や透過率に大きな差が生じないようにするため、光学薄膜の理論計算に基づいてＩＴＯ層４以外のこれら複数の層を設計し、成膜することが行われている。本発明の処理方法であれば、このような複数の層を成膜する場合であっても、キャンロールに対向させるスパッタリングカソードの数や種類を適宜変更することによって対応することができる。
【００６７】
以上説明したように、本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法では、連続的に搬送されるガラスフィルムに対して割れの問題を生ずることなく熱負荷の掛かる処理を施すことが可能となる。また、ガラスフィルムの表面に連続して成膜などの表面処理を行うことができるので、表面処理条件が安定する。その結果、品質の安定した薄膜トランジスタや太陽電池を作製することが可能となる。これに対して従来のガラスフィルムへの薄膜トランジスタや太陽電池などの成膜では、ガラスフィルム１枚ごとに処理する枚葉式でのみ表面処理や成膜が行われていた。このような枚葉式では連続的な処理ができないため、１枚ごとの品質のバラツキが生じていた。
【００６８】
本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法によって作製された薄膜トランジスタは、液晶パネルなどのディスプレイパネルに用いることができる。また、透明度の高いガラスフィルムの表面に乾式めっき法で成膜を施すことができるので、光学フィルターなどの光学部品への応用も可能である。さらに、ガラスのもつ耐薬品性から、ガラスフィルムの表面に導電膜を成膜し、二次電池の電極部材として用いることも可能である。このように、本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法が適用できる用途は多岐にわたっている。
【実施例】
【００６９】
[実施例１]
図１に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用いて長尺ガラスフィルムに成膜処理を施し、図４に示すようなタッチパネルに用いる４層の膜構造を作製した。基板となる長尺ガラスフィルムＧには、幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ５０μｍのガラスフィルムを使用した。キャンロール２３３には、直径４００ｍｍ、幅５００ｍｍのアルミ製のものを使用した。このキャンロール２３３の本体表面には、ハードクロムめっきを施した。キャンロール２３３はジャケットロール構造になっており、ここに減圧容器の外部で温調された熱媒を循環した。
【００７０】
図４に示す４層の膜構造にするため、スパッタリングカソード２３６、２３７には、第１層目に該当するＳｉＯ２層１を成膜するためのＡＧＣセラミックス製ＳｉＣターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置し、スパッタリングカソード２３８、２３９には、第２層目に該当するＮｂ２Ｏ５層２を成膜するためのＡＧＣセラミックス製ＮｂＯターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置した。
【００７１】
さらに、スパッタリングカソード２４０、２４１には、第３層目に該当するＳｉＯ２層３を成膜するためのＡＧＣセラミックス製ＳｉＣターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置し、スパッタリングカソード２４２、２４３には、第４層目に該当するＩＴＯ層４を成膜するための住友金属鉱山製ＩＴＯターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置した。
【００７２】
そして、マグネトロンスパッタリングには、４０〜２００ｋＨｚの中周波電源を用いたデュアルマグネトロンスパッタリング法を採用した。また、巻出ロール２１０と巻取ロール２５６の張力は共に５０Ｎとした。キャンロール２３３の周速度と、その上流側のモータ駆動の前フィードロール２３２および下流側のモータ駆動の後フィードロール２３４の周速度は、フィルム搬送速度が２ｍ／分となるように速度制御した。
【００７３】
巻出ロール２１０にロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムＧをセットし、長尺ガラスフィルムＧの間に合紙として挟み込まれているＰＥＴフィルムＰをＰＥＴフィルム巻取ロール２１３に巻き取りながら長尺ガラスフィルムＧを引き出した。この引き出した長尺ガラスフィルムＧの先端部は、キャンロール２３３を経由して、巻取ロール２５６に巻きつけた。その際、ＰＥＴフィルム巻出ロール２５７から引き出されるＰＥＴフィルムＰは合紙として長尺ガラスフィルムＧに挟み込まれるようにした。
【００７４】
全てのゾーンを複数台のドライポンプにより５Ｐａまで排気した後、更に、複数台のターボ分子ポンプとクライオコイルを用いて３×１０−３Ｐａまで排気した。ヒーターゾーン２０１内のヒーター２１９、２２０、２２１、２２２は、設定温度２００℃となるように温度制御し、これらの放射熱で長尺ガラスフィルムＧが加熱できるようにした。
【００７５】
アキュムレータゾーン２０２では、アキュムレータロール２２４の変位が１００ｍｍの範囲内に収まるように、アキュムレータロール位置検出手段からの出力信号を用いて下流側の駆動ロールである前フィードロール２３２のモータ回転数を制御した。その際、ガラスフィルムに衝撃を与えないことも考慮にいれて制御パラメータを設定した。表面改質ゾーン２０３内では、膜の密着力を向上させるために２台のイオンビームを採用した。最初のイオンビームでは窒素イオンビームを照射し、次のイオンビームでは酸素イオンビームを照射した。それぞれのイオンビームには、窒素を５０ｓｃｃｍ、酸素を５０ｓｃｃｍ導入し、２.０ｋＶの電圧を印可した。
【００７６】
そして、長尺ガラスフィルムＧの搬送速度を２ｍ／分にした後、第１層目のＳｉＯ２層１を成膜するためのスパッタリングカソード２３６、２３７には２.０ｋＷのカソード電力、第２層目のＮｂ２Ｏ５層２を成膜するためのスパッタリングカソード２３８、２３９には１.２ｋＷのカソード電力、第３層目のＳｉＯ２層３を成膜するためのスパッタリングカソード２４０、２４１には７.０ｋＷのカソード電力、第４層目のＩＴＯ層４を成膜するためのスパッタリングカソード２４２、２４３には４.４ｋＷのカソード電力を印加した。また、それぞれのカソード付近にはアルゴンガスを２００ｓｃｃｍ導入し、さらに酸素を導入した。
【００７７】
冷却ゾーン２０５では、１００℃に温度制御された冷却ロール２４５と、５０℃に温度制御された冷却ロール２４６とをこの順で長尺ガラスフィルムＧに接触させて長尺ガラスフィルムＧの温度を下げた。アキュムレータゾーン２０６では、上記と同様に、このアキュムレータロール２４９が１００ｍｍ範囲内になるように、アキュムレータロール位置検出手段からの出力信号を用いて下流側の駆動ロールである巻取ロール２５６のモータ回転数を制御した。その際、ガラスフィルムに衝撃を与えないことも考慮にいれて制御パラメータを設定した。
【００７８】
このようにして長尺ガラスフィルムＧに成膜処理を施した。そして、ロール状に巻かれた長さ３００ｍの長尺ガラスフィルムＧが全て引き出された時点で各マグネトロンスパッタカソードへの電力供給を停止し、それぞれのガス導入も停止した。最後に、長尺ガラスフィルムＧの搬送を停止し、かつ、各ポンプを停止してからベント（大気開放）し、巻出ロール２１０の長尺ガラスフィルムＧ終端部を外し、全ての長尺ガラスフィルムＧを巻取ロール２５６に巻き取ってから取り外した。成膜が完了した後、巻取ロール２５６に巻き取られた長尺ガラスフィルムＧを大気中に取り出した。その結果、割れやすいガラスフィルムを割ることなく良好に成膜することができた。
【００７９】
[実施例２]
図２に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用い、実施例１で行った巻取ロールでの巻取りに代えて長尺ガラスフィルムを裁断手段で切断した以外は実施例１と同様にしてタッチパネルに用いる４層の膜構造を作製した。具体的には、実施例１と同様にして成膜された長尺ガラスフィルムに対してダイシングゾーン３０８内に設けたレーザー照射装置３５７によって搬送方向の長さが４０ｃｍとなるように幅方向に切断し、切断されたガラスフィルムはスタックボックス３５５にスタックした。レーザーには、出力５０Ｗの発振波長１０.６μｍの炭酸ガスレーザーを用いた。
【００８０】
そして、実施例１と同様にロール状に巻かれた長さ３００ｍの長尺ガラスフィルムＧが全て引き出された時点で実施例１と同様の手順で成膜処理を終了してガラスフィルムを取り出した。その結果、割れやすいガラスフィルムを割ることなく良好に成膜することができた。
【００８１】
[実施例３]
図３に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用い、大気圧下で長尺ガラスフィルムを切断した以外は実施例２と同様にしてタッチパネルに用いる４層の膜構造を作製した。具体的には、アキュムレータゾーン４０６とダイシングゾーン４０８の間に差圧ゾーン４０９を設け、巻出ゾーン４００から下流側アキュムレータゾーン４０６までは減圧雰囲気に維持して実施例１や実施例２と同様にして長尺ガラスフィルムＧに成膜しながら、ダイシングゾーン４０８は大気雰囲気にして実施例２と同様にしてレーザーダイシングを行った。
【００８２】
そして、実施例１や実施例２と同様にロール状に巻かれた長さ３００ｍの長尺ガラスフィルムＧが全て引き出された時点で実施例１や実施例２と同様の手順で成膜処理を終了した。その結果、割れやすいガラスフィルムを割ることなく良好に成膜することができた。また、成膜中でも随時ダイシングゾーン４０８のスタックボックス４６２から裁断された薄板状のガラスフィルムＳを取り出すことができた。
【００８３】
[比較例]
比較のため、図５に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用いて実施例１と同様に成膜処理を施した。すなわち、アキュムレータ手段を用いなかった以外は実施例１と同様にしてガラスフィルムに成膜処理を施した。その結果、この図５の成膜装置では、搬送中の衝撃によって長尺ガラスフィルムＧが割れてしまった。一カ所が割れると、張力が一瞬にして大きな変動を受けて、搬送経路を走行中のガラスフィルムは全て割れてしまったため、どこで割れたか特定できなかった。なお、図５において図１と同一の部材は、符号の下２桁が図１のものと同一になっている。
【符号の説明】
【００８４】
Ｇ 長尺ガラスフィルム
Ｓ 薄板状ガラスフィルム
Ｐ 長尺ＰＥＴフィルム
１ ＳｉＯ２層
２ Ｎｂ２Ｏ５層
３ ＳｉＯ２層
４ ＩＴＯ層
１００、２００、３００、４００ 巻出ゾーン
１０１、２０１、３０１、４０１ ヒーターゾーン
２０２、３０２、４０２ 上流側アキュムレータゾーン
１０３、２０３、３０３、４０３ 表面改質ゾーン
１０４、２０４、３０４、４０４ 成膜ゾーン
１０５、２０５、３０５、４０５ 冷却ゾーン
２０６、３０６、４０６ 下流側アキュムレータゾーン
１０７、２０７ 巻取ゾーン
３０８、４０８ ダイシングゾーン
４０９ 差圧ゾーン
１１０、２１０、３１０、４１０ 巻出ロール
１１１、２１１、３１１、４１１ タッチロール
１１２、２１２、３１２、４１２ フリーロール
１１３、２１３、３１３、４１３ ＰＥＴフィルム巻取ロール
１１４、２１４、３１４、４１４ フリーロール
１１５、２１５、３１５、４１５ フリーロール
１１６、２１６、３１６、４１６ 駆動ロール
１１７、２１７、３１７、４１７ 駆動ロール
１１８、２１８、３１８、４１８ フリーロール
１１９、２１９、３１９、４１９ ヒーター
１２０、２２０、３２０、４２０ ヒーター
１２１、２２１、３２１、４２１ ヒーター
１２２、２２２、３２２、４２２ ヒーター
２２３、３２３、４２３ フリーロール
２２４、３２４、４２４ アキュムレータロール
２２５、３２５、４２５ フリーロール
１２６、２２６、３２６、４２６ フリーロール
１２７、２２７、３２７、４２７ フリーロール
１２８、２２８、３２８、４２８ イオンビーム遮蔽版
１２９、２２９、３２９、４２９ イオンビーム
１３０、２３０、３３０、４３０ イオンビーム
１３１、２３１、３３１、４３１ 張力センサーロール
１３２、２３２、３３２、４３２ 前フィードロール
１３３、２３３、３３３、４３３ キャンロール
１３４、２３４、３３４、４３４ 後フィードロール
１３５、２３５、３３５、４３５ 張力センサーロール
１３６、２３６、３３６、４３６ スパッタリングカソード
１３７、２３７、３３７、４３７ スパッタリングカソード
１３８、２３８、３３８、４３８ スパッタリングカソード
１３９、２３９、３３９、４３９ スパッタリングカソード
１４０、２４０、３４０、４４０ スパッタリングカソード
１４１、２４１、３４１、４４１ スパッタリングカソード
１４２、２４２、３４２、４４２ スパッタリングカソード
１４３、２４３、３４３、４４３ スパッタリングカソード
１４４、２４４、３４４、４４４ フリーロール
１４５、２４５、３４５、４４５ 冷却ロール
１４６、２４６、３４６、４４６ 冷却ロール
１４７、２４７、３４７、４４７ 駆動ロール
２４８、３４８、４４８ フリーロール
２４９、３４９、４４９ アキュムレータロール
２５０、３５０、４５０ フリーロール
１５１、２５１ フリーロール
１５２、２５２ フリーロール
１５５、２５５ 二アロール
１５６、２５６ 巻取ロール
１５７、２５７ ＰＥＴフィルム巻取ロール
３５８、４５８ ニップロール
３５９、４５９ 引出駆動ロール
３６０、４６０ レーザー照射装置
３６１、４６１ 照射レーザー
３６２、４６２ スタックボックス
４６３ ゴムロール対
４６４ ゴムロール対
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺ガラスフィルムに対して連続的に成膜処理やアニール処理などの表面処理を施す方法および装置に関し、特に、ロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムを連続的に引き出して減圧雰囲気下において成膜処理を施した後、再びロール状に巻き取るかあるいは薄板状に切断する方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話等の電子機器では、指先やペン先で操作が可能なタッチパネルが採用されている。このタッチパネルには抵抗型と静電容量型があり、どちらも基板フィルム上にＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の透明導電膜からなるパターニングされた配線が設けられており、これにより位置情報を検出する仕組みになっている。
【０００３】
このような透明導電膜の配線パターンの形成には、一般にロールトゥロールプロセスが用いられている。ロールトゥロールプロセスは、ロール状に巻かれたＰＥＴフィルムのような透明性の高い樹脂フィルムをロールから連続的に引き出して搬送しながら、該引き出された樹脂フィルムの片面にスパッタリング等の乾式めっき法で透明導電膜を成膜し、再びロールに巻き取るものであり、成膜した透明導電膜は別工程においてエッチングでパターニングすることにより配線が形成される。
【０００４】
上記のようなロールトゥロールで搬送される樹脂フィルム上に、乾式めっき法によって成膜処理を施す技術は古くから知られている。例えば特許文献１には、クーリングローラーの外周面上にフィルムを走行させてスパッタリング成膜を行う方法が開示されている。そして、この方法により、フィルムの変質や変形を生ずることなく成膜できると記載されている。
【０００５】
ところで、タッチパネル用の基板フィルム上に成膜される透明導電膜は、抵抗値が低ければ低いほど同じ導電性を得るための膜厚を薄くできるため、成膜時間を短縮化することができる上、高価な透明導電膜用の材料の使用量を削減することができる。さらに、膜厚を薄くすることにより可視波長域の透明性を高めることができる。一般的に、透明導電膜の抵抗値を低減させるためには、成膜温度を高めたり成膜後にアニール処理を施したりして透明導電膜を結晶化させることが知られている。
【０００６】
しかしながら、ＰＥＴフィルムのような透明性の高い樹脂フィルムでは、温度１５０℃の雰囲気下では３０分ほどがアニール処理の限界であり、これより高い熱負荷を与えると樹脂フィルムが変形してしまう。このように、樹脂フィルムは耐熱性の面から適用範囲に制限があるため、樹脂フィルムに代わる温度１５０℃を超えた条件で成膜処理やアニール処理が可能な透明性の高いフィルムが求められていた。
【０００７】
このような状況の下、近年、特許文献２に記載のような、オーバーフローダウンドロー法による厚み３００μｍ以下のガラスフィルムが開発された。そして、厚さ２００μｍ以下でロール状に巻かれており且つ樹脂フィルムのように自在に曲げることが可能なガラスフィルムが市場に紹介されている。このようなガラスフィルムであれば、数百℃の成膜処理やアニール処理が可能となる。
【０００８】
また、ロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムを引き出してスパッタリング成膜を行う技術が特許文献３、４に記載されている。具体的には、特許文献３には巻出ロールと巻取ロールの間でフローティング状態にあるガラスフィルムに成膜する技術が開示されており、特許文献４には巻出ロールと巻取ロールの間に位置する加熱ロールの外周面上に接触させたガラスフィルムにスパッタリング法で成膜する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭６２−２４７０７３号公報
【特許文献２】特開２０１０−２１５４９８号公報
【特許文献３】特開平１−５００９９０号公報
【特許文献４】特開２００７−１１９３２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
薄いガラスフィルムは、樹脂フィルムと比較するとほとんど伸びることがなく容易に割れるため、樹脂フィルムと同じようにロールトゥロールで搬送しながら処理する場合は、搬送速度や温度管理等を厳密に調整する必要がある。しかしながら、このように厳密に調整を行っても依然として割れることが多く、割れの少ない長尺ガラスフィルムの処理方法や処理装置が望まれていた。
【００１１】
本発明はこのような問題点に着目してなされたものであり、その課題とするところは、樹脂フィルムと比較して伸び難く割れやすい長尺ガラスフィルムに対し、ロール状に巻かれた状態から連続的に引き出して割ることなくその表面に熱負荷の掛かる処理を行うことである。ここで熱負荷の掛かる処理とは、長尺ガラスフィルムが数百℃に加熱された状態で行われる処理のことであり、例えば長尺ガラスフィルムに対して成膜装置（ウェブコーター）を用いて乾式めっき法によって成膜する処理やアニール処理がこれに該当する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明者はロールトゥロールで搬送されるガラスフィルムをキャンロールの外周面に接触させながら当該キャンロールの周囲に設置した成膜手段により連続して成膜を行う方法に関して鋭意研究を続けた結果、キャンロールの少なくとも上流側あるいは下流側に温度変化に起因するガラスフィルムの伸縮を吸収するいわゆるアキュムレータ機構を設けることによりガラスフィルムの割れを著しく抑制できること見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法は、ロールから連続的に引き出された長尺ガラスフィルムを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロールの外周面上に接触させながら他方の面に熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において長尺ガラスフィルムの伸縮を調整することを特徴としている。
【００１４】
また、本発明の長尺ガラスフィルムの処理装置は、長尺ガラスフィルムをロールから引き出して搬送経路に沿って搬送する搬送手段と、該引き出された長尺ガラスフィルムを加熱する加熱手段と、該加熱された長尺ガラスフィルムを接触させる、熱媒で加熱された外周面を備えたキャンロールと、該外周面に接触している長尺ガラスフィルムに表面処理を施すべく該外周面に対向して設けられた表面処理手段と、該表面処理された長尺ガラスフィルムを冷却する冷却手段と、長尺ガラスフィルムの伸縮を調整すべく該搬送経路における該加熱手段と該キャンロールとの間および／または該冷却手段の下流側に設けられたアキュムレータ手段とを有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して、該長尺ガラスフィルムを割ることなく成膜処理やアニール処理などの熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施すことが可能となる。特に、本発明に係る処理方法や処理装置を乾式めっき法による成膜処理に応用する場合は、ロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムを連続的に引き出してキャンロールの外周面上でスパッタリング等の成膜手段により連続的に成膜することが可能となる。
【００１６】
本発明の処理方法や処理装置による成膜処理は、裁断されたガラスフィルムに対して成膜処理を施す枚葉式よりもはるかに生産性が高く、且つ安定的に成膜することができる。さらに、本発明の処理方法や処理装置による成膜処理で成膜された長尺ガラスフィルム上のタッチパネル用透明導電膜は、樹脂フィルム上に成膜したものに比べて可視短波長域の透明度が高く、且つ低抵抗となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の一具体例を示す平面図である。
【図２】本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の他の具体例を示す平面図である。
【図３】本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の更に他の具体例を示す平面図である。
【図４】タッチパネルの膜機構を示す断面図である。
【図５】比較例に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、連続的に搬送される長尺ガラスフィルムに対してキャンロールの外周面上に接触させながら成膜処理やアニール処理などの熱負荷の掛かる処理を施すに際して、当該熱負荷の掛かる処理を施す工程の少なくとも上流側あるいは下流側において、温度変化に起因するガラスフィルムの伸縮を調整することを特徴とするものである。これにより、長尺ガラスフィルムの割れを抑制することができる。
【００１９】
本発明が対象とする長尺ガラスフィルムは、熱膨張係数が４×１０−６（／Ｋ）程度であり、ＰＥＴフィルムより一桁小さいため、ＰＥＴフィルムに比べて熱による伸縮の程度が小さい。しかしながら、例えば長尺ガラスフィルムに成膜を行うプロセスでは、温度変化による長尺ガラスフィルムの長さ方向の伸縮を搬送系のモータ制御のみで吸収することは難しい。その理由は、ガラスフィルムは伸ばすことがほとんどできないため、搬送系のモータ制御において生じ得る搬送誤差の影響を受けて容易に割れるおそれがあるからである。
【００２０】
これに対してＰＥＴフィルムであれば、搬送系のモータ制御での搬送誤差をＰＥＴフィルム自体の伸びで緩和することができる。さらに、ＰＥＴフィルムの表面には表面の滑りをよくするフィラー粒子が存在しているため、これによる若干の滑りによっても搬送系のモータ制御での搬送誤差を緩和することができる。しかし、ガラスフィルムは、その表面が非常に平滑である上、フィラー粒子が存在していないため、搬送ロール等の外周面上で滑ることはほとんどない。
【００２１】
このように、搬送系のモータ制御での搬送誤差により長尺ガラスフィルムに無理な引っ張りが発生すると、長尺ガラスフィルムは簡単に割れてしまうことがある。そこで、本発明においては、長尺ガラスフィルムの処理のうち特に温度変化が大きい表面処理の上流側や下流側に長尺ガラスフィルムの伸縮を吸収するいわゆるアキュムレータを配置している。これにより、温度変化に起因する長尺ガラスフィルムの伸縮や搬送系のモータ制御で生じ得る搬送誤差を吸収して、無理な引っ張りが長尺ガラスフィルムに掛からないようにすることができる。
【００２２】
ガラスフィルムは無理な引っ張りやショックによって簡単に割れてしまう扱い難い基板であるが、本発明によって可視短波長領域で高い透明度を有し且つ高温処理（例えば、成膜処理やアニール処理）に耐えるというガラスフィルムの極めて優れた利点を引き出すことが可能となる。以下、具体的な長尺ガラスフィルムの成膜装置を採り上げて本発明に係る長尺ガラスフィルムの処理方法の実施態様について詳細に説明する。
【００２３】
（１）長尺ガラスフィルムの成膜装置（基本型）
まず、本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の一具体例について図１を参照しながら説明する。図１に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、略直方体形状の減圧容器内に納められている。この減圧容器は、到達圧力１０−４Ｐａ程度までの減圧と、その後のスパッタリングガスの導入による０.１〜１０Ｐａ程度の圧力調整を行うため、図示しないドライポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオコイル等の種々の装置を有している。減圧容器は、したがってこれらの圧力に耐えることができる程度の強度を有していればよい。
【００２４】
減圧容器内は、隔壁によって巻出ゾーン２００、ヒーターゾーン２０１、上流側アキュムレータゾーン２０２、表面改質ゾーン２０３、成膜ゾーン２０４、冷却ゾーン２０５、下流側アキュムレータゾーン２０６、および巻取ゾーン２０７に仕切られている。成膜装置は搬送手段を有しており、これによりロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムＧを引き出して上記各ゾーンを経由する所定の搬送経路に沿って長尺ガラスフィルムＧを搬送している。
【００２５】
具体的には、この搬送手段は、巻出ロール２１０、フリーロール２１２、２１４、２１５、駆動ロール２１６、２１７、フリーロール２１８、２２６、２２７、前フィードロール２３２、キャンロール２３３、後フィードロール２３４、フリーロール２４４、駆動ロール２４７、フリーロール２５１、２５２、および巻取ロール２５６で構成されている。
【００２６】
巻出ロール２１０は巻出ゾーン２００内に設けられている。巻出ロール２１０には、長尺ガラスフィルムＧが、合紙としての長尺ＰＥＴフィルムＰと共にロール状に巻かれてセットされている。長尺ＰＥＴフィルムＰは、長尺ガラスフィルムＧを巻出ロール２１０から引き出す時に同時に排出されるため、フリーロール２１２の後段に位置するＰＥＴフィルム巻取ロール２１３で巻き取られるようになっている。なお、巻出ロール２１０に接するようにタッチロール２１１が設けられている。
【００２７】
巻出ゾーン２００に隣接するヒーターゾーン２０１内には、長尺ガラスフィルムＧを加熱する加熱手段が設けられている。この加熱手段は、長尺ガラスフィルムＧの搬送経路に沿って順に設けられたヒーター２１９、２２０、２２１、および２２２で構成されている。各ヒーターは、例えばシースヒータ、カーボンヒータ、赤外線ヒータ等からなる。なお、成膜ゾーン２０４の上流側にヒーターゾーン２０１を設ける理由は、スパッタリング成膜の前に長尺ガラスフィルムＧを暖めておかないとスパッタリング成膜の熱負荷により長尺ガラスフィルムＧが割れるおそれがあるからである。
【００２８】
ヒーターゾーン２０１に隣接する上流側アキュムレータゾーン２０２内には、アキュムレータ手段が設けられている。このアキュムレータ手段は、長尺ガラスフィルムＧに一定の張力を付与するアキュムレータロール（ダンサーロールとも称する）２２４と、その前後に設けられたフリーロール２２３、２２５とで構成される。
【００２９】
上記一定の張力を付与するため、アキュムレータロール２２４の回転軸は付勢手段によって下方（図中の矢印Ａ１の方向）に付勢されている。これにより、長尺ガラスフィルムＧの伸縮に追従して自動的にアキュムレータロールを上下方向に変位させることが可能となる。付勢手段の具体的な機構は特に限定するものではなく、例えばアキュムレータロール２２４の回転軸を回転自在に支持する支持部につるまきバネや板バネなどの弾性体の一端部を取り付けると共に、その他端部をアキュムレータゾーンの床部や天井部に取り付ければよい。
【００３０】
あるいは、アキュムレータロール２２４自体が非常に重くなる場合は、アキュムレータロール２２４自体の重力よりも低い張力で長尺ガラスロールの搬送が行われるので、回転軸を回転自在に支持する支持部に張力センサを取り付け、この張力センサの値が一定になるようにモータ等の駆動手段によって当該支持部を上下移動させる制御を行ってもよい。
【００３１】
上流側アキュムレータゾーン２０２に隣接する表面改質ゾーン２０３内には、膜の密着力を向上させるため、イオンビーム処理やプラズマ処理を行なう２台の表面改質装置２２９、２３０がこの順に搬送経路に沿って設けられている。これら２台の表面改質装置に導入するガスは、２台とも同じガスを使用してもよいし、異なるガスを使用してもよい。
【００３２】
例えば、最初に窒素イオンビームを照射した後、酸素イオンビームを照射してもよい。ガラスフィルムに施すこれらイオンビーム処理やプラズマ処理等の処理条件や、これら表面改質処理の要否は、必要とされる密着力に応じて適宜選択される。なお、図１の成膜装置では、表面改質ゾーン２０３においてイオンビーム遮蔽板２２８と表面改質装置２２９、２３０との間に長尺ガラスフィルムＧを通過させてイオンビーム処理する方法が示されているが、スパッタリング成膜に匹敵する高い熱負荷が長尺ガラスフィルムＧに掛かる場合は、加熱キャンロールに巻きつけて表面改質を行う必要がある。
【００３３】
表面改質ゾーン２０３に隣接する成膜ゾーン２０４内にはキャンロール２３３が設けられている。キャンロール２３３の内部には、減圧容器の外部から供給される高沸点有機溶媒、熱媒油、または熱湯等の熱媒が循環しており、これにより外周面に接触した長尺ガラスフィルムＧを保温もしくは加熱することが可能となる。このようにキャンロール２３３を熱媒で加温するのは、スパッタリング成膜の熱負荷でガラスフィルムに熱衝撃が加わり割れることを防ぐ為である。
【００３４】
キャンロール２３３の外周面に対向する位置には、長尺ガラスフィルムＧに熱負荷の掛かる表面処理を施すための表面処理手段が設けられている。図１に示す表面処理手段は、乾式めっき法の一種であるスパッタリング成膜を行うスパッタリングカソード２３６、２３７、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、および２４３がこの順に搬送経路に沿って並べられている。
【００３５】
なお、金属膜のスパッタリング成膜の場合は、板状ターゲットを使用することが好ましいが、板状ターゲットを用いた場合、ターゲット上にノジュール（異物の成長）が発生することがある。これが問題になる場合は、ノジュール（異物の成長）の発生がなく、ターゲットの使用効率も高い円筒形のロータリーターゲットを使用してもよい。
【００３６】
成膜ゾーン２０４に隣接する冷却ゾーン２０５内には冷却手段が設けられている。図１に示す冷却手段は、冷却ロール２４５、２４６がこの順に搬送経路に沿って設けられている。冷却ロール２４５、２４６の内部には、減圧容器の外部から供給される冷却水や有機溶媒等の冷媒が循環している。冷却ロール２４５の冷媒の温度は、冷却ロール２４６より高くすることで、成膜後のガラスフィルムを段階的に冷却することも可能である。
【００３７】
これら冷却ロールの外周面に長尺ガラスフィルムＧを片面ずつ接触させることにより該フィルムを冷却することができる。なお、成膜ゾーン２０４の下流側に冷却ゾーン２０５を設ける理由は、スパッタリング成膜の後に長尺ガラスフィルムＧを冷やしておかないと、巻取ロール２５６に巻取った後に冷えて巻締まりが発生し、割れるおそれがあるからである。
【００３８】
冷却ゾーン２０５に隣接する下流側アキュムレータゾーン２０６内には、前述した上流側アキュムレータゾーン２０２と同様のアキュムレータ手段が設けられている。すなわち、このアキュムレータ手段は、長尺ガラスフィルムＧに一定の張力を付与するアキュムレータロール（ダンサーロールとも称する）２４９と、その前後に設けられたフリーロール２４８、２５０とで構成されている。
【００３９】
このアキュムレータロール２４９の回転軸も、付勢手段によって下方（図中の矢印Ａ２の方向）に付勢されており、これにより長尺ガラスフィルムＧの伸縮に追従して自動的にアキュムレータロールが上下方向に変位するようになっている。なお、前述したアキュムレータロール２２４と同様に、アキュムレータロール２４９の回転軸を回転自在に支持する支持部に張力センサを取り付け、この張力センサの値が一定になるようにモータ等の駆動手段によって当該支持部を上下移動させる制御を行ってもよい。
【００４０】
下流側アキュムレータゾーン２０６に隣接する巻取ゾーン２０７内には上記各ゾーンで処理された長尺ガラスフィルムＧを再び巻き取る巻取ロール２５６が設けられている。巻取ゾーン２０７内には更に合紙としてのＰＥＴフィルム２５４がロール状に巻かれたＰＥＴフィルム巻出ロール２５７が設けられており、長尺ガラスフィルムＧは、ＰＥＴフィルム巻出ロール２５７から引き出されたＰＥＴフィルム２５４を挟み込みならが巻取ロール２５６に巻取られる。なお、巻取ロール２５６に接するようにニアロール２５５が設けられている。このように、成膜後のガラスフィルムを減圧容器内で巻き取ることにより、成膜された長尺ガラスフィルムＧの後工程での取り扱いが容易になる。
【００４１】
次に、上記構成の成膜装置の動作について説明する。巻出ロール２１０から引き出された長尺ガラスフィルムＧは、先ずヒーターゾーン２０１へ搬送され、ここで前述したようにスパッタリング成膜の熱負荷による割れを防ぐべくヒーター２１９、２２０、２２１、および２２２によって所定の温度まで加熱される。
【００４２】
ヒーターゾーン２０１で加熱された長尺ガラスフィルムＧは、次にアキュムレータロール２２４が配されたアキュムレータゾーン２０２に送られる。ここで、ヒーターゾーン２０１の加熱処理に起因する長尺ガラスフィルムＧの長さ方向の変化が吸収される。すなわち、加熱処理によって長尺ガラスフィルムＧがその長さ方向に伸長した場合、アキュムレータロール２２４は前述したように下方に向けて付勢されているので、この付勢力と長尺ガラスフィルムＧの張力がバランスするまでアキュムレータロール２２４は下方に向けて変位する。逆に、長尺ガラスフィルムＧが冷えてその長さ方向に収縮した場合、長尺ガラスフィルムＧの張力が付勢力に打ち勝ってアキュムレータロール２２４は上方に向けて変位する。
【００４３】
このように、アキュムレータロール２２４が上下方向に位置を変えることにより、アキュムレータロール２２４とその前後に設けられたフリーロール２２３、２２５との間がバッファの役目を果たし、長尺ガラスフィルムＧの長さ方向の変化が吸収される。樹脂フィルムの場合は、例えば加熱処理されたフィルムを駆動させる駆動ロールのモータ回転数を制御することによって樹脂フィルムに無理な応力がかからないようにすることが可能ではあるが、樹脂フィルムと比較して伸び難く割れやすいガラスフィルムを搬送制御するにはアキュムレータロールを採用することが必要となる。
【００４４】
アキュムレータロール２２４には、例えばその回転軸の上下方向の位置を検出するアキュムレータロール位置検出手段（図示せず）を設け、これから出力される信号でアキュムレータロール２２４よりも下流側に位置する駆動ロール、例えばキャンロール２３３の周速度を制御してもよい。具体的には、アキュムレータロールの位置が下降傾向にあるときはその下流側の駆動ロールのモータを徐々に速くなるように制御し、逆に上昇傾向にあるときは下流側の駆動ロールのモータを徐々に遅くなるように制御すればよい。
【００４５】
これにより、アキュムレータロールの回転軸の位置（高さ）が略一定の範囲内に収められ、長尺ガラスフィルムの搬送速度も略一定の範囲内に収めることができる。その結果、成膜時の膜厚変化を最小限に留めることが可能となる。ここで、アキュムレータロールの回転軸の位置を略一定の範囲内に収めるとは、回転軸の位置の変化を数十ｃｍの範囲に収めることである。回転軸の位置の変化が１ｍもあると、その後の搬送速度に影響し、成膜時の膜厚変化が著しくなる。なお、このように制御する場合は、長尺ガラスフィルムＧに衝撃を与えない範囲で周速度が変動するように駆動ロールの周速度を制御するのが好ましい。
【００４６】
上記したように、キャンロール２３３の周速度でアキュムレータロール２２４を制御する場合は、これに伴ってキャンロール２３３に巻付けられている長尺ガラスフィルムＧの搬送速度が変動する。その結果、長尺ガラスフィルムＧの表面にスパッタリング成膜したときの膜厚にばらつきが生ずる。これが問題になる場合は、キャンロール２３３の周速度に応じて各スパッタリングカソードへの供給電力を変化させればよい。これにより、長尺ガラスフィルムＧの搬送速度の変化に対応して各スパッタリングカソードによる成膜速度を変化させることができるので、ばらつきのない均一な膜厚が得られる。
【００４７】
アキュムレータゾーン２０２で長さ方向の伸縮が調整された長尺ガラスフィルムＧは次に表面改質ゾーン２０３に送られ、ここでイオンビーム処理やプラズマ処理による表面改質が行なわれて膜の密着力が向上する。続いて、長尺ガラスフィルムＧは成膜ゾーン２０４に送られ、ここでキャンロール２３３に巻付けられながら、成膜手段であるスパッタリングカソード２３６、２３７、２３８、２３９、２４０、２４１、２４２、および２４３によって順に成膜が行われる。
【００４８】
キャンロール２３３の上流側には長尺ガラスフィルムＧの張力を検出する張力センサーロール２３１が設けられており、この張力センサーロール２３１で検出した張力の信号が前フィードロール２３２やキャンロール２３３の周速度にフィードバックされる。これにより、長尺ガラスフィルムＧを所定の範囲の張力に保ちつつキャンロール２３３への密着を確保することができる。
【００４９】
キャンロール２３３の下流側にも同様に張力センサーロール２３５が設けられており、これにより検出された長尺ガラスフィルムＧの張力の信号がキャンロール２３３や後フィードロール２３４の周速度にフィードバックされる。これにより、長尺ガラスフィルムＧを所定の範囲の張力に保ちつつキャンロール２３３への密着を確保することができる。
【００５０】
成膜処理が施された長尺ガラスフィルムＧは、次に冷却ゾーン２０５に送られ、ここで冷却ロール２４５、２４６によって冷却される。冷却された長尺ガラスフィルムＧは、次にアキュムレータゾーン２０６に送られ、ここで、前述したアキュムレータロール２２４と同様に、アキュムレータロール２４９の上下方向の変位によって冷却に起因するガラスフィルムの長さ方向の変化が吸収される。
【００５１】
このアキュムレータロール２４９にも、前述したアキュムレータロール２２４と同様にアキュムレータロール位置検出手段（図示せず）を設けて、ここから出力される信号でアキュムレータロール２４９よりも下流側に位置する駆動ロールの周速度を制御してもよい。これにより、アキュムレータロール２４９の変位を一定の範囲内に収めることができる。アキュムレータゾーン２０６で伸縮が調製された長尺ガラスフィルムＧは、最後に巻取ゾーン２０７に送られ、ここで合紙としてのＰＥＴフィルム２５４と共に巻取ロール２５６に巻取られる。
【００５２】
以上、熱負荷の掛かる表面処理としてスパッタリング成膜を例に挙げて本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法の一具体例について説明したが、本発明が対象とする熱負荷の掛かる表面処理はスパッタリング成膜に限定されるものではなく、プラズマ処理やイオンビーム処理など、より高い熱負荷の掛かる表面処理であってもよい。この場合は、図１の成膜装置のスパッタリングカソードに代えて各種の表面処理手段が設けられる。
【００５３】
また、上記説明では乾式めっきの例としてスパッタリングをとりあげて説明したが、これに限定されるものではなく、ＣＶＤ（化学気相堆積；Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＡＬＤ（原子層堆積；Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｐｏｓｉｔｉｏｎ）、真空蒸着、マグネトロンスパッタリング、イオンビームスパッタリングであってもよい。
【００５４】
（２）長尺ガラスフィルムの成膜装置（レーザーダイシング型）
次に、本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の他の具体例について図２を参照しながら説明する。この図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、図１の巻取ゾーン２０７に代えてダイシングゾーン３０８が設けられていることを除いて図１に示す成膜装置とほぼ同等である。すなわち、この図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置では、成膜された長尺ガラスフィルムに対して例えばレーザーダイシングにより切断を行い、切断された薄板状のガラスフィルムＳをスタックすることを特徴としている。
【００５５】
具体的には、この図２に示す本発明の他の具体例の長尺ガラスフィルムの成膜装置は、巻出ゾーン３００、ヒーターゾーン３０１、上流側アキュムレータゾーン３０２、表面改質ゾーン３０３、成膜ゾーン３０４、冷却ゾーン３０５、下流側アキュムレータゾーン３０６、およびダイシングゾーン３０８に仕切られた減圧容器内に納められている。
【００５６】
これらのうち、巻出ゾーン３００から下流側アキュムレータゾーン３０６までに収められている成膜装置の構成要素については、図１に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置のものとほぼ同等であるので、以降の説明においては、ダイシングゾーン３０８における構成要素について説明する。なお、図２において図１と同一の部材は、符号の下２桁が図１のものと同一になっている。
【００５７】
ダイシングゾーン３０８内には、ニップロール３５８と引出駆動ロール３５９とで上下から挟み込んで引き出された長尺ガラスフィルムＧを裁断する裁断手段が設けられている。この裁断手段は、例えばレーザー照射装置３６０（レーザー発振器とスキャナーとを組み合わせた装置）からなり、レーザー発振器から発せられる照射レーザー３６１の照射位置を、スキャナーで長尺ガラスフィルムＧに対してその幅方向に移動させることによって、長尺ガラスフィルムＧを連続的に裁断することができる。
【００５８】
切断された薄板状のガラスフィルムＳは、落下して下方に位置するスタックボックス３６２内にスタックされる。なお、長尺ガラスフィルムＧは連続的に搬送されているため、搬送方向に対して垂直に切断するためには、照射レーザー３６１の照射位置は、該搬送方向に対して垂直方向ではなく若干斜め方向に移動するのが好ましい。
【００５９】
このように、減圧容器内で成膜後のガラスフィルムを切断することにより、後工程がバッチ式や枚歯式の場合に好都合である。なお、裁断は前述したレーザーダイシングにより行うことが望ましい。その理由は、レーザーダイシングではカット面がレーザーの熱によって若干溶けるので、割れにくくすることができるからである。これに対して裁断にダイシングソーやダイヤモンドカッターを用いると、カット面に無数のマイクロクラックが発生するので、このクラックをきっかけに割れやすくなる。
【００６０】
（３）長尺ガラスフィルムの成膜装置（大気中レーザーダイシング型）
次に、本発明に係る長尺ガラスフィルムの成膜装置の更に他の具体例について図３を参照しながら説明する。この図３に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、大気中でレーザーダイシングにより切断してスタックする点を除いて図２に示す成膜装置とほぼ同等である。この方法によれば、ガラスフィルムロール１本分の成膜工程が終了する前に成膜後のガラスフィルムを取り出すことができるため、生産性を高めることができる。
【００６１】
具体的には、この図３に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、巻出ゾーン４００、ヒーターゾーン４０１、上流側アキュムレータゾーン４０２、表面改質ゾーン４０３、成膜ゾーン４０４、冷却ゾーン４０５、下流側アキュムレータゾーン４０６、差圧ゾーン４０９、およびダイシングゾーン４０８に仕切られた減圧容器内に納められている。
【００６２】
これらのうち、巻出ゾーン４００から下流側アキュムレータゾーン４０６までに収められている成膜装置の構成要素については、図１および図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置のものとほぼ同等であり、ダイシングゾーン４０８に収められている成膜装置の構成要素については、図２に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置のものとほぼ同等である。従って、以降の説明においては、差圧ゾーン４０９について説明する。なお、図３において図１や図２と同一の部材は、符号の下２桁が図１や図２のものと同一になっている。
【００６３】
前述したように、この図３に示す長尺ガラスフィルムの成膜装置は、下流側アキュムレータゾーン４０６とダイシングゾーン４０８の間に差圧ゾーン４０９が設けられている以外は図２に示す成膜装置とほぼ同等である。互いに隣接する下流側アキュムレータゾーン４０６と差圧ゾーン４０９とを仕切る隔壁、および互いに隣接するダイシングゾーン４０８と差圧ゾーン４０９とを仕切る隔壁には、それぞれ長尺ガラスフィルムＧを両面から挟み込む２対のゴムロール４５２、４５３が設けられている。なお、これら２対のゴムロールは、大気圧であるダイシングゾーン４０８が下流側アキュムレータゾーン４０６の真空に影響を与えない程度に気密性が保たれている。
【００６４】
これにより、巻出ゾーン４００から下流側アキュムレータゾーン４０６までの減圧雰囲気を維持しつつ、長尺ガラスフィルムの裁断を大気雰囲気下で行うことが可能となる。よって、成膜処理の作業を中断することなく切断された薄板状ガラスフィルムＳを取り出して、バッチ式や枚歯式の後工程の作業を行うことができる。
【００６５】
次に、図４を参照しながらタッチパネルの膜構造について説明する。一般的に、タッチパネルに用いられる膜構造は、基板としての長尺ガラスフィルムＧの片面に、ガラスフィルム１側から順に、第１層目の物理的膜厚１０ｎｍのＳｉＯ２層１、第２層目の物理的膜厚６ｎｍのＮｂ２Ｏ５層２、第３層目の物理的膜厚３５ｎｍのＳｉＯ２層３、および第４層目の物理的膜厚２２ｎｍのＩＴＯ層４が成膜された積層構造を基本としている。
【００６６】
このように、透明導電性を得るためのＩＴＯ層４以外にも複数の層が成膜されている理由は、ガラスフィルムをタッチパネルとして使用する場合、ＩＴＯ層４には電極としての役割を担うパターン部が形成されるからである。すなわち、ＩＴＯ層４のパターン部と非パターン部の見栄えを良くするため、換言すれば、これらパターン部と非パターン部とで反射率や透過率に大きな差が生じないようにするため、光学薄膜の理論計算に基づいてＩＴＯ層４以外のこれら複数の層を設計し、成膜することが行われている。本発明の処理方法であれば、このような複数の層を成膜する場合であっても、キャンロールに対向させるスパッタリングカソードの数や種類を適宜変更することによって対応することができる。
【００６７】
以上説明したように、本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法では、連続的に搬送されるガラスフィルムに対して割れの問題を生ずることなく熱負荷の掛かる処理を施すことが可能となる。また、ガラスフィルムの表面に連続して成膜などの表面処理を行うことができるので、表面処理条件が安定する。その結果、品質の安定した薄膜トランジスタや太陽電池を作製することが可能となる。これに対して従来のガラスフィルムへの薄膜トランジスタや太陽電池などの成膜では、ガラスフィルム１枚ごとに処理する枚葉式でのみ表面処理や成膜が行われていた。このような枚葉式では連続的な処理ができないため、１枚ごとの品質のバラツキが生じていた。
【００６８】
本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法によって作製された薄膜トランジスタは、液晶パネルなどのディスプレイパネルに用いることができる。また、透明度の高いガラスフィルムの表面に乾式めっき法で成膜を施すことができるので、光学フィルターなどの光学部品への応用も可能である。さらに、ガラスのもつ耐薬品性から、ガラスフィルムの表面に導電膜を成膜し、二次電池の電極部材として用いることも可能である。このように、本発明の長尺ガラスフィルムの処理方法が適用できる用途は多岐にわたっている。
【実施例】
【００６９】
[実施例１]
図１に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用いて長尺ガラスフィルムに成膜処理を施し、図４に示すようなタッチパネルに用いる４層の膜構造を作製した。基板となる長尺ガラスフィルムＧには、幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ５０μｍのガラスフィルムを使用した。キャンロール２３３には、直径４００ｍｍ、幅５００ｍｍのアルミ製のものを使用した。このキャンロール２３３の本体表面には、ハードクロムめっきを施した。キャンロール２３３はジャケットロール構造になっており、ここに減圧容器の外部で温調された熱媒を循環した。
【００７０】
図４に示す４層の膜構造にするため、スパッタリングカソード２３６、２３７には、第１層目に該当するＳｉＯ２層１を成膜するためのＡＧＣセラミックス製ＳｉＣターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置し、スパッタリングカソード２３８、２３９には、第２層目に該当するＮｂ２Ｏ５層２を成膜するためのＡＧＣセラミックス製ＮｂＯターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置した。
【００７１】
さらに、スパッタリングカソード２４０、２４１には、第３層目に該当するＳｉＯ２層３を成膜するためのＡＧＣセラミックス製ＳｉＣターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置し、スパッタリングカソード２４２、２４３には、第４層目に該当するＩＴＯ層４を成膜するための住友金属鉱山製ＩＴＯターゲット（幅６００ｍｍ×長さ１５０ｍｍ）を設置した。
【００７２】
そして、マグネトロンスパッタリングには、４０〜２００ｋＨｚの中周波電源を用いたデュアルマグネトロンスパッタリング法を採用した。また、巻出ロール２１０と巻取ロール２５６の張力は共に５０Ｎとした。キャンロール２３３の周速度と、その上流側のモータ駆動の前フィードロール２３２および下流側のモータ駆動の後フィードロール２３４の周速度は、フィルム搬送速度が２ｍ／分となるように速度制御した。
【００７３】
巻出ロール２１０にロール状に巻かれた長尺ガラスフィルムＧをセットし、長尺ガラスフィルムＧの間に合紙として挟み込まれているＰＥＴフィルムＰをＰＥＴフィルム巻取ロール２１３に巻き取りながら長尺ガラスフィルムＧを引き出した。この引き出した長尺ガラスフィルムＧの先端部は、キャンロール２３３を経由して、巻取ロール２５６に巻きつけた。その際、ＰＥＴフィルム巻出ロール２５７から引き出されるＰＥＴフィルムＰは合紙として長尺ガラスフィルムＧに挟み込まれるようにした。
【００７４】
全てのゾーンを複数台のドライポンプにより５Ｐａまで排気した後、更に、複数台のターボ分子ポンプとクライオコイルを用いて３×１０−３Ｐａまで排気した。ヒーターゾーン２０１内のヒーター２１９、２２０、２２１、２２２は、設定温度２００℃となるように温度制御し、これらの放射熱で長尺ガラスフィルムＧが加熱できるようにした。
【００７５】
アキュムレータゾーン２０２では、アキュムレータロール２２４の変位が１００ｍｍの範囲内に収まるように、アキュムレータロール位置検出手段からの出力信号を用いて下流側の駆動ロールである前フィードロール２３２のモータ回転数を制御した。その際、ガラスフィルムに衝撃を与えないことも考慮にいれて制御パラメータを設定した。表面改質ゾーン２０３内では、膜の密着力を向上させるために２台のイオンビームを採用した。最初のイオンビームでは窒素イオンビームを照射し、次のイオンビームでは酸素イオンビームを照射した。それぞれのイオンビームには、窒素を５０ｓｃｃｍ、酸素を５０ｓｃｃｍ導入し、２.０ｋＶの電圧を印可した。
【００７６】
そして、長尺ガラスフィルムＧの搬送速度を２ｍ／分にした後、第１層目のＳｉＯ２層１を成膜するためのスパッタリングカソード２３６、２３７には２.０ｋＷのカソード電力、第２層目のＮｂ２Ｏ５層２を成膜するためのスパッタリングカソード２３８、２３９には１.２ｋＷのカソード電力、第３層目のＳｉＯ２層３を成膜するためのスパッタリングカソード２４０、２４１には７.０ｋＷのカソード電力、第４層目のＩＴＯ層４を成膜するためのスパッタリングカソード２４２、２４３には４.４ｋＷのカソード電力を印加した。また、それぞれのカソード付近にはアルゴンガスを２００ｓｃｃｍ導入し、さらに酸素を導入した。
【００７７】
冷却ゾーン２０５では、１００℃に温度制御された冷却ロール２４５と、５０℃に温度制御された冷却ロール２４６とをこの順で長尺ガラスフィルムＧに接触させて長尺ガラスフィルムＧの温度を下げた。アキュムレータゾーン２０６では、上記と同様に、このアキュムレータロール２４９が１００ｍｍ範囲内になるように、アキュムレータロール位置検出手段からの出力信号を用いて下流側の駆動ロールである巻取ロール２５６のモータ回転数を制御した。その際、ガラスフィルムに衝撃を与えないことも考慮にいれて制御パラメータを設定した。
【００７８】
このようにして長尺ガラスフィルムＧに成膜処理を施した。そして、ロール状に巻かれた長さ３００ｍの長尺ガラスフィルムＧが全て引き出された時点で各マグネトロンスパッタカソードへの電力供給を停止し、それぞれのガス導入も停止した。最後に、長尺ガラスフィルムＧの搬送を停止し、かつ、各ポンプを停止してからベント（大気開放）し、巻出ロール２１０の長尺ガラスフィルムＧ終端部を外し、全ての長尺ガラスフィルムＧを巻取ロール２５６に巻き取ってから取り外した。成膜が完了した後、巻取ロール２５６に巻き取られた長尺ガラスフィルムＧを大気中に取り出した。その結果、割れやすいガラスフィルムを割ることなく良好に成膜することができた。
【００７９】
[実施例２]
図２に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用い、実施例１で行った巻取ロールでの巻取りに代えて長尺ガラスフィルムを裁断手段で切断した以外は実施例１と同様にしてタッチパネルに用いる４層の膜構造を作製した。具体的には、実施例１と同様にして成膜された長尺ガラスフィルムに対してダイシングゾーン３０８内に設けたレーザー照射装置３５７によって搬送方向の長さが４０ｃｍとなるように幅方向に切断し、切断されたガラスフィルムはスタックボックス３５５にスタックした。レーザーには、出力５０Ｗの発振波長１０.６μｍの炭酸ガスレーザーを用いた。
【００８０】
そして、実施例１と同様にロール状に巻かれた長さ３００ｍの長尺ガラスフィルムＧが全て引き出された時点で実施例１と同様の手順で成膜処理を終了してガラスフィルムを取り出した。その結果、割れやすいガラスフィルムを割ることなく良好に成膜することができた。
【００８１】
[実施例３]
図３に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用い、大気圧下で長尺ガラスフィルムを切断した以外は実施例２と同様にしてタッチパネルに用いる４層の膜構造を作製した。具体的には、アキュムレータゾーン４０６とダイシングゾーン４０８の間に差圧ゾーン４０９を設け、巻出ゾーン４００から下流側アキュムレータゾーン４０６までは減圧雰囲気に維持して実施例１や実施例２と同様にして長尺ガラスフィルムＧに成膜しながら、ダイシングゾーン４０８は大気雰囲気にして実施例２と同様にしてレーザーダイシングを行った。
【００８２】
そして、実施例１や実施例２と同様にロール状に巻かれた長さ３００ｍの長尺ガラスフィルムＧが全て引き出された時点で実施例１や実施例２と同様の手順で成膜処理を終了した。その結果、割れやすいガラスフィルムを割ることなく良好に成膜することができた。また、成膜中でも随時ダイシングゾーン４０８のスタックボックス４６２から裁断された薄板状のガラスフィルムＳを取り出すことができた。
【００８３】
[比較例]
比較のため、図５に示す成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を用いて実施例１と同様に成膜処理を施した。すなわち、アキュムレータ手段を用いなかった以外は実施例１と同様にしてガラスフィルムに成膜処理を施した。その結果、この図５の成膜装置では、搬送中の衝撃によって長尺ガラスフィルムＧが割れてしまった。一カ所が割れると、張力が一瞬にして大きな変動を受けて、搬送経路を走行中のガラスフィルムは全て割れてしまったため、どこで割れたか特定できなかった。なお、図５において図１と同一の部材は、符号の下２桁が図１のものと同一になっている。
【符号の説明】
【００８４】
Ｇ 長尺ガラスフィルム
Ｓ 薄板状ガラスフィルム
Ｐ 長尺ＰＥＴフィルム
１ ＳｉＯ２層
２ Ｎｂ２Ｏ５層
３ ＳｉＯ２層
４ ＩＴＯ層
１００、２００、３００、４００ 巻出ゾーン
１０１、２０１、３０１、４０１ ヒーターゾーン
２０２、３０２、４０２ 上流側アキュムレータゾーン
１０３、２０３、３０３、４０３ 表面改質ゾーン
１０４、２０４、３０４、４０４ 成膜ゾーン
１０５、２０５、３０５、４０５ 冷却ゾーン
２０６、３０６、４０６ 下流側アキュムレータゾーン
１０７、２０７ 巻取ゾーン
３０８、４０８ ダイシングゾーン
４０９ 差圧ゾーン
１１０、２１０、３１０、４１０ 巻出ロール
１１１、２１１、３１１、４１１ タッチロール
１１２、２１２、３１２、４１２ フリーロール
１１３、２１３、３１３、４１３ ＰＥＴフィルム巻取ロール
１１４、２１４、３１４、４１４ フリーロール
１１５、２１５、３１５、４１５ フリーロール
１１６、２１６、３１６、４１６ 駆動ロール
１１７、２１７、３１７、４１７ 駆動ロール
１１８、２１８、３１８、４１８ フリーロール
１１９、２１９、３１９、４１９ ヒーター
１２０、２２０、３２０、４２０ ヒーター
１２１、２２１、３２１、４２１ ヒーター
１２２、２２２、３２２、４２２ ヒーター
２２３、３２３、４２３ フリーロール
２２４、３２４、４２４ アキュムレータロール
２２５、３２５、４２５ フリーロール
１２６、２２６、３２６、４２６ フリーロール
１２７、２２７、３２７、４２７ フリーロール
１２８、２２８、３２８、４２８ イオンビーム遮蔽版
１２９、２２９、３２９、４２９ イオンビーム
１３０、２３０、３３０、４３０ イオンビーム
１３１、２３１、３３１、４３１ 張力センサーロール
１３２、２３２、３３２、４３２ 前フィードロール
１３３、２３３、３３３、４３３ キャンロール
１３４、２３４、３３４、４３４ 後フィードロール
１３５、２３５、３３５、４３５ 張力センサーロール
１３６、２３６、３３６、４３６ スパッタリングカソード
１３７、２３７、３３７、４３７ スパッタリングカソード
１３８、２３８、３３８、４３８ スパッタリングカソード
１３９、２３９、３３９、４３９ スパッタリングカソード
１４０、２４０、３４０、４４０ スパッタリングカソード
１４１、２４１、３４１、４４１ スパッタリングカソード
１４２、２４２、３４２、４４２ スパッタリングカソード
１４３、２４３、３４３、４４３ スパッタリングカソード
１４４、２４４、３４４、４４４ フリーロール
１４５、２４５、３４５、４４５ 冷却ロール
１４６、２４６、３４６、４４６ 冷却ロール
１４７、２４７、３４７、４４７ 駆動ロール
２４８、３４８、４４８ フリーロール
２４９、３４９、４４９ アキュムレータロール
２５０、３５０、４５０ フリーロール
１５１、２５１ フリーロール
１５２、２５２ フリーロール
１５５、２５５ 二アロール
１５６、２５６ 巻取ロール
１５７、２５７ ＰＥＴフィルム巻取ロール
３５８、４５８ ニップロール
３５９、４５９ 引出駆動ロール
３６０、４６０ レーザー照射装置
３６１、４６１ 照射レーザー
３６２、４６２ スタックボックス
４６３ ゴムロール対
４６４ ゴムロール対
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロールから連続的に引き出された長尺ガラスフィルムを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロールの外周面上に接触させながら他方の面に熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において長尺ガラスフィルムの伸縮を調整することを特徴とする長尺ガラスフィルムの処理方法。
【請求項２】
前記伸縮の調整は、前記搬送経路に設けられた１つ以上のアキュムレータロールの変位によって行うことを特徴とする、請求項１に記載の長尺ガラスフィルムの処理方法。
【請求項３】
前記伸縮の調整は、更に前記１つ以上のアキュムレータロールの変位に基づいて前記搬送経路に設けられた駆動力を備えたロールの周速度の変化によって行うことを特徴とする、請求項２に記載の長尺ガラスフィルムの処理方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理が、減圧雰囲気下で行われる乾式めっきであることを特徴とする長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項５】
前記冷却処理の後に長尺ガラスフィルムを略同じ寸法の複数の薄板に裁断することを特徴とする、請求項４に記載の長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項６】
前記裁断がレーザーダイシングによることを特徴とする、請求項５に記載の長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項７】
前記乾式めっきがスパッタリングであることを特徴とする、請求項４〜６のいずれかに記載の長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項８】
長尺ガラスフィルムをロールから引き出して搬送経路に沿って搬送する搬送手段と、該引き出された長尺ガラスフィルムを加熱する加熱手段と、該加熱された長尺ガラスフィルムを接触させる、熱媒で加熱された外周面を備えたキャンロールと、該外周面に接触している長尺ガラスフィルムに表面処理を施すべく該外周面に対向して設けられた表面処理手段と、該表面処理された長尺ガラスフィルムを冷却する冷却手段と、長尺ガラスフィルムの伸縮を調整すべく該搬送経路における該加熱手段と該キャンロールとの間および／または該冷却手段の下流側に設けられたアキュムレータ手段とを有することを特徴とする長尺ガラスフィルムの処理装置。
【請求項９】
前記アキュムレータ手段が、前記長尺ガラスフィルムの搬送経路に設けられた１つ以上の変位自在なアキュムレータロールからなることを特徴とする、請求項８に記載の長尺ガラスフィルムの処理装置。
【請求項１０】
前記１つ以上のアキュムレータロールの位置を検出するアキュムレータロール位置検出手段を更に備え、該アキュムレータロール位置検出手段で検出された位置信号に基づいて前記搬送経路に設けられた駆動力を備えたロールの周速度を制御することを特徴とする、請求項９に記載の長尺ガラスフィルムの処理装置。
【請求項１１】
請求項８または９に記載の前記表面処理手段が、減圧容器内で行う乾式めっき手段であることを特徴とする長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１２】
前記搬送経路の最下流に長尺ガラスフィルムを略同じ寸法の複数の薄板に裁断する裁断手段が設けられていることを特徴とする、請求項１１に記載の長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１３】
前記裁断手段がレーザーダイシング装置であることを特徴とする、請求項１２に記載の長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１４】
前記乾式めっき手段が、スパッタリングカソードであることを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれかに記載の長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１】
ロールから連続的に引き出された長尺ガラスフィルムを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロールの外周面上に接触させながら他方の面に熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において長尺ガラスフィルムの伸縮を調整することを特徴とする長尺ガラスフィルムの処理方法。
【請求項２】
前記伸縮の調整は、前記搬送経路に設けられた１つ以上のアキュムレータロールの変位によって行うことを特徴とする、請求項１に記載の長尺ガラスフィルムの処理方法。
【請求項３】
前記伸縮の調整は、更に前記１つ以上のアキュムレータロールの変位に基づいて前記搬送経路に設けられた駆動力を備えたロールの周速度の変化によって行うことを特徴とする、請求項２に記載の長尺ガラスフィルムの処理方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理が、減圧雰囲気下で行われる乾式めっきであることを特徴とする長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項５】
前記冷却処理の後に長尺ガラスフィルムを略同じ寸法の複数の薄板に裁断することを特徴とする、請求項４に記載の長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項６】
前記裁断がレーザーダイシングによることを特徴とする、請求項５に記載の長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項７】
前記乾式めっきがスパッタリングであることを特徴とする、請求項４〜６のいずれかに記載の長尺ガラスフィルムの成膜方法。
【請求項８】
長尺ガラスフィルムをロールから引き出して搬送経路に沿って搬送する搬送手段と、該引き出された長尺ガラスフィルムを加熱する加熱手段と、該加熱された長尺ガラスフィルムを接触させる、熱媒で加熱された外周面を備えたキャンロールと、該外周面に接触している長尺ガラスフィルムに表面処理を施すべく該外周面に対向して設けられた表面処理手段と、該表面処理された長尺ガラスフィルムを冷却する冷却手段と、長尺ガラスフィルムの伸縮を調整すべく該搬送経路における該加熱手段と該キャンロールとの間および／または該冷却手段の下流側に設けられたアキュムレータ手段とを有することを特徴とする長尺ガラスフィルムの処理装置。
【請求項９】
前記アキュムレータ手段が、前記長尺ガラスフィルムの搬送経路に設けられた１つ以上の変位自在なアキュムレータロールからなることを特徴とする、請求項８に記載の長尺ガラスフィルムの処理装置。
【請求項１０】
前記１つ以上のアキュムレータロールの位置を検出するアキュムレータロール位置検出手段を更に備え、該アキュムレータロール位置検出手段で検出された位置信号に基づいて前記搬送経路に設けられた駆動力を備えたロールの周速度を制御することを特徴とする、請求項９に記載の長尺ガラスフィルムの処理装置。
【請求項１１】
請求項８または９に記載の前記表面処理手段が、減圧容器内で行う乾式めっき手段であることを特徴とする長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１２】
前記搬送経路の最下流に長尺ガラスフィルムを略同じ寸法の複数の薄板に裁断する裁断手段が設けられていることを特徴とする、請求項１１に記載の長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１３】
前記裁断手段がレーザーダイシング装置であることを特徴とする、請求項１２に記載の長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【請求項１４】
前記乾式めっき手段が、スパッタリングカソードであることを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれかに記載の長尺ガラスフィルムの成膜装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１３−４９８７６（Ｐ２０１３−４９８７６Ａ）
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１８６８１７（Ｐ２０１１−１８６８１７）
【出願日】平成２３年８月３０日（２０１１．８．３０）
【出願人】（０００１８３３０３）住友金属鉱山株式会社 (2,015)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月３０日（２０１１．８．３０）
【出願人】（０００１８３３０３）住友金属鉱山株式会社 (2,015)
【Ｆターム（参考）】
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