【課題】小型化及びコスト低減を実現した紫外線照射装置及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。 （もっと読む）

【課題】化学強化の作業を長時間停止することなく処理液を交換することができると共に、板ガラス全体を均一に強化処理することができるガラス強化装置の提供。
【解決手段】板ガラスを、処理剤の融点〜融点+70℃の温度範囲に調節された処理液に浸漬して化学強化するガラス強化装置。該装置は、少なくとも、前記板ガラスを前記処理液の温度近辺まで加熱する予熱炉、処理液の温度を保持するための制御手段、ヒーター及び処理液を排出するドレンバルブを有する化学処理槽、化学処理された板ガラスの温度を120〜80℃に冷却する徐冷炉、冷却された板ガラスを洗浄する水洗槽、乾燥手段；前記板ガラスを前記予熱炉、化学処理槽、徐冷炉、水洗槽、乾燥手段の順に搬送する手段、及び、前記化学処理槽に処理液を供給する供給槽を有すると共に、前記化学処理槽が処理液を攪拌する手段を有し、前記供給槽が、処理剤を融解する手段及び該手段によって得られた処理液を前記化学処理槽に供給する手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式の化学研磨装置において１枚のシート状のガラス母材を複数のガラス基板に分割することを可能にするガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 この発明は、連続的に搬送される複数のガラス基板に対して化学研磨処理を行うように構成された化学研磨装置に適用されるガラス基板の製造方法である。化学研磨装置は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。この化学研磨装置において、上側からガラス母材に噴射する化学研磨液の量と、下側からガラス母材に噴射する化学研磨液の量とをそれぞれ調整することによって、第１の主面に形成される区画溝および第２の主面に形成される区画溝を、ガラス母材の厚み方向の中心から所定量ズレた位置にて貫通させる。 （もっと読む）

【課題】治具を使用することなくガラス基板に対して化学研磨処理を施すことが可能な枚葉式の化学研磨装置を提供する。
【解決手段】化学研磨装置１０は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。搬送部は、ガラス基板１００の底面を支持しつつ水平方向に搬送するように構成された複数の搬送ローラ５０を備える。研磨処理部は、第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２、第１〜３の中継部２８，３０，３２を備える。第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２は、それぞれがガラス基板に対して同一組成の化学研磨液を噴射するように構成される。第１〜３の中継部２８，３０，３２は、各処理チャンバを連結するように構成される。第１〜第４の処理チャンバ１６，１８，２０，２２のそれぞれは、ガラス基板１００の搬送方向に直交する方向に揺動可能な噴射ノズルを有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の表面に固着したカレットを除去する。
【解決手段】フッ化水素及び水蒸気を含む反応ガスを大気圧近傍下でガラス板９０に接触させて、ガラス板９０の表面部分９１ｅ，９２ｅを構成するＳｉＯ_２のエッチング反応を起こさせる。エッチング反応の度合いを、カレット９３，９４の表面部分９３ｅ，９４ｅがエッチングされるとともに表面部分９３ｅ，９４ｅより内側の部分９３ａ，９４ａが残留する程度に調節する。その後、ガラス板９０を洗浄流体４３にて洗浄する。 （もっと読む）

【課題】両面研磨装置を用いたガラス基板の磁気薄膜層形成予定面のみに研磨を行なった場合であっても、磁気薄膜層形成予定面に微小な凹凸の発生を抑制することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第１キャリア２０５ａに保持されるガラス基板１Ｇの磁気薄膜層形成予定面１４とは反対側の面１５と補助プレート２０６の表面との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ１、前記予定面１４と第１研磨部材２０３との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ２とし、第２キャリア２０５ｂに保持されるガラス基板１Ｇの磁気薄膜層形成予定面１４とは反対側の面１５と補助プレート２０６の表面との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ３、この予定面１４と第２研磨部材２０４との間の水平方向に生じる摩擦力をＦ４とした場合、Ｆ１／Ｆ２およびＦ３／Ｆ４の値が、０．８以上１．７５以下となる条件の下で、磁気薄膜層形成予定面１４の研磨を行なう。 （もっと読む）

【課題】基板表面を加工する際に、裏面には加工が施されない基板表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空容器内の基板ステージに基板を載置する基板載置工程と、真空容器内を排気する排気工程と、基板ステージの基板保持面側から不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程と、真空容器内に処理ガスを供給してエッチングするエッチング工程と、エッチングの終了後に不活性ガスの供給を停止する不活性ガス供給停止工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施す方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール２１０から連続的に引き出された長尺ガラスフィルムＧを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムＧの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムＧの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロール２３３の外周面上に接触させながら他方の面にスパッタリング等の熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において例えばアキュムレータロールを用いて長尺ガラスフィルムＧの伸縮を調整する。 （もっと読む）

【課題】熱ＣＶＤ法により薄膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板１０の薄膜を形成しようとする部分である成膜部１０ｃの他主面１０ｃ２に、基板１０に吸収される波長域の光を照射することにより成膜部１０ｃを加熱した状態で、成膜部１０ｃの一主面１０ｃ１に対向して配置したノズル３０から成膜部１０ｃの一主面１０ｃ１に向けて反応ガスを供給することにより薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】多数枚生産される携帯機器用カバーガラスの強度のばらつきを低減できる携帯機器用カバーガラスの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、所定間隔を隔てて互いに平行に配列された複数枚の矩形状のガラス基板１００を、加熱された化学強化処理液１２２に浸漬することにより化学強化処理する化学強化工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、化学強化工程では、ガラス基板１００の主表面に対して平行な方向に化学強化処理液を流動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の主面への処理液の飛散を抑制しつつ基板の端面を局所的に処理できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、硬脆性基板の一種であるガラス基板（基板９０）の側端面９１Ｓをエッチングする。基板処理装置１００は、その外周面が基板９０の側端面９１に当接される当接面を形成するスポンジ体２１３（当接部材）と、スポンジ体２１３を回転させるスポンジ体回転駆動部２４０（回転駆動部）と、スポンジ体２１３に処理液を供給する処理液供給管２５１（処理液供給部）とを備える。搬送ローラー３１により＋ｙ方向に搬送される基板９０の側端面９１Ｓに対して、ｚ軸回りに回転するスポンジ体２１３の外周面が押し当てられることにより、基板９０の側端面９１Ｓのエッチングが行われる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、保持用治具７を用いてガラス基板１を洗浄液中に保持する工程と、洗浄液に超音波を印加し、ガラス基板１の表面に沿うように洗浄液中を伝播する超音波によってガラス基板１の表面を洗浄する工程と、を備え、ガラス基板１の表面に対して保持用治具７が超音波の伝播を遮る面積は、ガラス基板１の表面の面積に対して１％以下である。 （もっと読む）

【課題】実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】前照射工程、第１の成膜工程、後照射工程及び第２の成膜工程を順次有する。前照射工程では、基板１０１の表面にエネルギーを持つ粒子を３００〜６００秒の照射時間で照射する。第１の成膜工程では、前照射工程後の基板１０１の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第１の膜１０３を３ｎｍ以上の厚みで成膜する。後照射工程では、基板１０１に成膜された第１の膜１０３にエネルギーを持つ粒子を照射する。これにより第１の膜１０３の厚みを０．１〜５００ｎｍとし、かつ第１の膜１０３の表面に特定の表面特性を満足する凹凸を形成させる。第２の成膜工程では、後照射工程後の第１の膜１０３の凹凸面に撥油性を有する第２の膜１０５を成膜する。 （もっと読む）

【課題】光学研磨した場合と同等の平滑面をもつ透明膜を、粗研磨により形成された凹凸形状をもつガラス基板表面に形成してなる透明物品、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】粗研磨により形成された凹凸形状をもつガラス基板２の表面に透明膜１を形成してなる透明物品であって、前記透明膜１と前記ガラス基板２との屈折率の差が波長３８０〜７８０ｎｍの領域において０．１以内であり、前記透明膜の表面が最大高さＲｚ値で１〜８０ｎｍの平滑面をもつ。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、ガラス基板の研磨位置に応じて最適に研磨するガラス基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るガラス基板の製造方法は、搬送されたガラス基板の両端面を研磨する研磨工程を含むガラス基板の製造方法において、両端面を研磨する一対の研磨砥石は、回動自在に保持されると共にガラス基板方向へ第１の力が付与され、且つ、ガラス基板の幅方向の変動に対して追従可能に保持されている。また、一対の研磨砥石は、研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、回動が規制されるように第２の力が付与されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供する。
【解決手段】端面研磨工程では、回転自在の軸心３１ａと、剛性が相対的に高く、軸心３１ａからブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第１ブラシ部３１ｃと、剛性が相対的に低く、軸心３１ａからブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第２ブラシ部３１ｄとを有するブラシを用いてガラス基板の端面１３を研磨する。端面研磨工程は、第１ブラシ部３１ｃと第２ブラシ部３１ｄとをガラス基板の端面１３に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第１研磨段階と、ガラス基板の端面１３とブラシの軸心３１ａとの間の距離が第１研磨段階よりも長くなった状態で、第２ブラシ部３１ｄのみをガラス基板の端面１３に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第２研磨段階とをこの順に含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板エッチング装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板エッチング装置１００は、エッチング液１１５を収容する容器１１０と、容器内に配置され、ガラス基板１２５が水平に安着する第１プレート１２０と、ガラス基板と向き合うように容器内に配置され、第１プレート上または第１プレート下でエッチング液を流動させる流動部１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は硝子基板をエッチングして硝子基板の厚さを薄くする硝子基板のエッチング装置に関することとして、もっと詳しくは前記の硝子基板が少なくとも一つ以上配列されて、前記の硝子基板の下部には前記の硝子基板と地面が傾きを形成するようにして、前記の硝子基板の固定と脱去ができるようにする固定部材を具備して、前記の硝子基板の上部にはエッチング液が下方に噴射される噴射部材を備えていることを特徴とする硝子基板のエッチング装置と前記の装置によって製造された硝子薄板に関するのである。
【解決手段】前記の噴射部材は少なくとも一つ以上のノズルとノズルヘッドを備えて構成されて、前記のノズルでエッチング液がスプレーで噴射されることを特徴にして、前記の硝子基板とノズル端の間の間隔はノズルの配置間隔とノズルのエッチング液の噴射角度によって決まることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板にキズが発生するのを防止しつつ、安定して基板を洗浄することができる、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄板１と、洗浄板１を振動させる振動部２と、基板に非接触な状態で基板上を吸引し、洗浄板１の先端部１ａの近傍に吸込み口を有する吸引部３，４と、洗浄板１を基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来よりも搬送によりガラス基板につく傷をなるべく少なくするガラス基板搬送装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程において前記ガラス基板を略水平状態で搬送するガラス基板搬送装置１００であって、回転軸１０１と、駆動部と、リング部材１０２とを備える。回転軸１０１は、ｊ個（ｊは４以上の整数）ある。回転軸１０１は、搬入側から搬出側に向かって第１、第２、・・・、第ｊ回転軸１０１と並ぶ。リング部材１０２は、第１状態となるように配置される。第１状態とは、直線Ｌ１および直線Ｌ２それぞれと第ｍ回転軸１０１（ｍは２より大きく、かつ、ｊより小さい整数）とが直交する点Ｐ１および点Ｐ２上にリング部材１０２が装着されておらず、かつ、第ｍ回転軸１０１上のＰ１およびＰ２の間にリング部材１０２が１つ装着されている状態である。 （もっと読む）