【課題】入射角の変化による色調変化を抑制することができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成の波長選択反射層を有する。高屈折率層全体の光学膜厚ｄ_aに対する金属層全体の光学膜厚ｄ_bの比率αと、第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ₁に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ₃の比率β（＝ｄ₃／ｄ₁）とが所定の領域内に含まれるようにする。 （もっと読む）

【課題】基板表面を加工する際に、裏面には加工が施されない基板表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空容器内の基板ステージに基板を載置する基板載置工程と、真空容器内を排気する排気工程と、基板ステージの基板保持面側から不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程と、真空容器内に処理ガスを供給してエッチングするエッチング工程と、エッチングの終了後に不活性ガスの供給を停止する不活性ガス供給停止工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 樹脂フィルムに比べて伸び難く且つ割れやすい長尺ガラスフィルムに対して熱負荷の掛かる表面処理を連続的に施す方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール２１０から連続的に引き出された長尺ガラスフィルムＧを搬送経路に沿って搬送しながら順に加熱処理、表面処理および冷却処理を施す長尺ガラスフィルムＧの処理方法であって、前記表面処理では長尺ガラスフィルムＧの一方の面を熱媒で加熱されたキャンロール２３３の外周面上に接触させながら他方の面にスパッタリング等の熱負荷の掛かる処理を施し、前記搬送経路における前記表面処理と前記加熱処理との間および／または前記冷却処理の後において例えばアキュムレータロールを用いて長尺ガラスフィルムＧの伸縮を調整する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主表面を平坦度３０ｎｍ以下に研磨することができる、ＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置１０のガラス基板２２の両主表面を研磨するＥＵＶＬ光学基材用ガラス基板の研磨方法であって、前記研磨パッド２４が、微多孔が形成された表面層を有し、圧縮率が２０％以上である第１の軟質プラスチックシートと、前記第１の軟質プラスチックシートの前記研磨面の背面側に接合された、圧縮率が２０％未満である第２の軟質プラスチックシートと、を備えており、前記第２の軟質プラスチックシートの前記第１の軟質プラスチックシートが接合された反対面側をバフ処理した後、前記第２の軟質プラスチックシートのバフ処理された面を前記両面研磨装置の上下定盤の側にして、前記研磨パッドを該上下定盤に取り付けた状態で、前記研磨面側をドレス処理してから、前記ガラス基板の両主表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】スプレー法を用いて希釈な被膜形成用組成物（固形分濃度が０．５％未満）を被膜形成面に大容量塗布する（３０ｍｌ／ｍ^２以上）場合において、被膜形成用組成物および被膜形成面であるガラス表面の状態を評価し、ムラのない被膜が形成できるのかを迅速簡便に判断する方法を提供する。
【解決手段】被膜形成用組成物の滴下法による空気に対する表面張力をＳ（ｍＮ／ｍ）、ガラス表面に対する純水の接触角をθ（°）とした場合に、０＜θ≦１０および０≦Ｓ≦−θ＋４５の不等式を満たす場合に、均一な被膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】走行するパネル端部近傍で均一な蒸着方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの支持体２上に配置された、少なくとも１つのパネル１の表面を処理する方法に関し、ガス、液体または微粉固体材料を吹き付けることにあり、この場合、上記支持体はパネル端部を超えて突き出し、吹付け材料の障壁として作用する。吹付け材料は、パネルに平行で、パネルの全端部の近傍で外側の方向に付勢される。このようにして、エッジ効果は打ち消され、この処理によって、パネル中心における効果と同一効果を端部に沿って生成する。この処理はさらに、例えば、ＳｎＯ_２：ＦなどのＣＶＤ蒸着の形態を取ることもできる。 （もっと読む）

【課題】安定して正確に表面圧縮応力および圧縮応力層の深さを測定できる化学強化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスの屈折率分布を測定する抜取り検査をすることを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス基板の板厚測定結果に基いて複数のガラス基板をグループに分け、グループに分けた複数のガラス基板をグループ毎に一度に精密研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板を工程から抜き取ることなく、ガラス基板の板厚を非接触で精度よく測定する。
【解決手段】複数のガラス基板１０の板厚を測定する板厚測定工程と、板厚測定工程の測定結果に基いて複数のガラス基板１０をグループに分け、グループに分けた複数のガラス基板１０をグループ毎に一度に精密研磨する精密研磨工程とを含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、板厚測定工程では、ガラス基板１０に板厚方向に所定の波長帯域を有する光Ｌを照射し、ガラス基板１０の表面で板厚方向に反射した光ａと裏面で板厚方向に反射した光ｂとの干渉光を受光し、受光した干渉光を波長毎に分析することにより、光Ｌを照射したガラス基板１０の板厚を分光干渉によって測定する。 （もっと読む）

【課題】可視光に対して優れた反射防止性能を示す多孔質ガラスを提供する。
【解決手段】シリカを主成分とし、スピノーダル型の相分離由来の孔およびバイノーダル型の相分離由来の孔が形成された多孔質層２を有する反射防止など様々な光学機能を有する光学材料として工業的利用される多孔質ガラス１。母体ガラスを加熱処理することにより、母体ガラスを相分離し、相分離ガラスを酸溶液と接触させることにより酸可溶成分であるアルカリ金属酸化物−酸化ホウ素リッチ相を溶出除去させることにより多孔質ガラス１とする。 （もっと読む）

【課題】基板にキズが発生するのを防止しつつ、安定して基板を洗浄することができる、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄板１と、洗浄板１を振動させる振動部２と、基板に非接触な状態で基板上を吸引し、洗浄板１の先端部１ａの近傍に吸込み口を有する吸引部３，４と、洗浄板１を基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】加工ヘッドを対向するガラス基板に対して走査しながらエッチャントをガラス基板との隙間に供給しこれを吸引排出することでガラス基板の表面を加工する際、走査速度を速めても、平坦化のために算出した目的の除去量（計算値）と実際の加工における除去量にずれを生じさせることなくガラス基板の表面を加工する。
【解決手段】加工ヘッド２によりエッチャントをガラス基板３の表面に供給し吸引することにより、加工ヘッド２とガラス基板３との隙間に一定面積のエッチャント流路を形成し、加工ヘッド２とガラス基板３とを相対的に走査してガラス基板３の表面を加工する際、前記エッチャント流路を流れるエッチャントを該エッチャント流路の外側から前記エッチャント流路の外周を取り囲むようにして、全周方向からエッチャント流路の中心に向かって流れる乾燥ガスの加圧ガス流で加圧し、前記エッチャント流路内にエッチャントを封じ込める。 （もっと読む）

【課題】 合成石英からなるフォトマス用のガラス基板や該ガラス基板を用いたフォトマスクにおいて、ガラス基板の周辺部にひび、欠けの欠陥部が生じた場合に、該欠陥部を修正でき、且つ、フォトマスクの仕様であるフラットネスを確保できる方法を提供する。
【解決手段】 順に、（ａ）ガラス基板の前記欠陥部にガラス基板とは別の合成石英を溶融して欠陥部を埋める溶接をし、且つ、溶接部が盛り上がるようにする処理を行う、補修処理と、（ｂ）ガラス基板の前記補修処理における処理領域を、部分的に加熱によりアニールして、該処理領域の残存応力をとるアニール処理と、（ｃ）前記補修処理において盛り上がった溶接部を削って外形を整える整形研磨処理と、（ｄ）端面、表裏の各面に対して、それぞれ、各面の未修正部に合わせて研磨を行う、研磨処理とを、有する。 （もっと読む）

【課題】
ガラスライニング機器の補修に際して、補修部分の接着性に優れ、長期間の使用に耐えられること、また、ガラスライニング層の欠損などにより母材が減肉されてしまった部分の補修の際に、母材の機械的強度を回復させ、かつ補修時に母材の減肉部分周辺にあるガラスライニング層に亀裂を生じさせない補修方法を提供することである。
【解決手段】
ガラスライニング機器のガラス欠損またはガラスが欠損したことにより母材が減肉してしまった部分の補修において、補修部分の近傍に断熱材を設けると共に、断熱材の外周部分のガラスライニングの表面温度を６０℃以下に維持しながら、補修部分に耐腐食性のある金属を溶射または溶接することを特徴とするガラスライニング機器の補修方法。 （もっと読む）

【課題】フロート法で製作されたＰＤＰ用のガラス基板などのように、微少な表面研磨が要求されるガラス物品の研磨量を高精度に測定する。
【解決手段】ガラス基板１の表面の一部を保護膜で保護した状態で、研磨パッド６によりガラス基板１の表面を研磨した後、研磨後にガラス基板１の表面に残存する保護膜２を除去し、保護膜２が除去されたガラス基板１の未研磨面１ｂと、保護膜２が形成されていなかったガラス基板１の研磨面１ａとの段差Ｄから研磨量を測定する。 （もっと読む）

【課題】最終研磨にコロイダルシリカスラリーを用いる場合、研磨時間に比例して端部のダレ量が増加する傾向が見られるため、最終研磨前のガラス基板のロールオフを小さくしてこの問題を解決する。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第４級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる１以上の水溶性有機高分子および平均粒径が０．４〜１．８μｍの酸化セリウム砥粒を含有するスラリーと、研磨布とを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。 （もっと読む）

エッチング基板、特に光吸収性エッチング基板、及びこのような基板の製造方法について記載する。 （もっと読む）

【課題】ガラスパイプの内面を長手方向で均一にエッチングし、長手方向における偏肉が極力抑えられたガラスパイプを製造することが可能なガラスパイプの製造方法を提供する。
【解決手段】製品となるガラスパイプＧよりも内径の大きなダミーパイプＤが両端に接続されたガラスパイプＧの内側にエッチングガスを導入しながらガラスパイプＧに対して熱源１０を長手方向へ相対移動させてガラスパイプＧをエッチングガスの流入側Ｇａから排出側Ｇｂへ向かって加熱し、ガラスパイプＧの内面をエッチングするガラスパイプＧの製造方法であって、エッチングガスの流入側Ｇａにおける熱源１０の相対移動速度をエッチングガスの排出側Ｇｂより速くする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、絶縁信頼性に優れたガラスフィラー、及びその製造方法、並びに該ガラスフィラーを含む電子材料用途のプリプレグを提供すること。
【解決手段】ＣａＯ含量が０．１質量％以上である組成の原料ガラスを水溶媒中で湿式粉砕してスラリーを作製する工程、ｐＨ８以上を保ちながらシランカップリング剤を該スラリーに添加する工程、及び得られたスラリーを８０℃以上４００℃以下で加熱乾燥する工程を含むガラスフィラー製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱線遮蔽性に優れ、高い可視光透過率を有し、低コストで製造可能であり、且つ耐候性が高い熱線遮蔽ガラス及びこの熱線遮蔽ガラスを用いた複層ガラスを提供する。
【解決手段】表面に、導電性高分子からなる熱線反射層２４が形成され、且つ導電性高分子以外の熱線遮蔽剤及びバインダを含む樹脂組成物からなる熱線遮蔽層２５が形成されており、前記熱線遮蔽剤が、最表層として形成されている熱線遮蔽ガラス及びこれを用いた複層ガラス。 （もっと読む）

レーザベースの変位検出器(26)を使用して、透明な物品(20)の一つの面に塗布された化粧コーティング(22)を検出し、それによって、レーザ加工システムの中に装填されているときにどの面が最も上になっているかを判定する。具体的には、可視光に対して透明で、レーザ加工システムの中で適切な向きにすることが特に困難である物品(20)が、レーザベースの変位検出器(26)を物品(20)上の部分コーティング(22)と共に使用することによって、向きを定められる。 （もっと読む）