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Fターム[4G059AB06]の内容

ガラスの表面処理 (18,270) | プロセスの特徴 (2,241) | 選択された表面部分の処理 (470) | ガラス表面に密着するマスクを用いるもの (101)

Fターム[4G059AB06]に分類される特許

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【課題】光線の反射により、対応する明晰な光の図案を出現させる曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法を提供する。
【解決手段】曲率変化図案を備えるガラス面及びその製造方法は、ガラス1本体外表の滑らかな面12上に、複数の圧力区域13を配列して組成する予定図案Pを設置し、各圧力区域13の圧力値は50Mpa以上で、こうして滑らかな面12上には予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成し、ガラス1面の製造方法は、表面ラフ度(Ra)が約0.12μm以下のガラス1滑らかな面12上にカバー2を設置し、カバー2上には複数の中空部21を配列して組成する予定図案Pを設置し、ガラス1滑らかな面12に対して化学イオン強化プロセスを行い、滑らかな面12上にはカバー2の中空部21に対応する複数の圧力区域13を形成し、カバー2を除去し、滑らかな面12を洗浄し、こうしてガラス1滑らかな面12上にカバー2の予定図案Pに対応する曲率変化図案P’を形成する。 (もっと読む)


【課題】枚葉方式の化学研磨装置において1枚のシート状のガラス母材を複数のガラス基板に分割することを可能にするガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 この発明は、連続的に搬送される複数のガラス基板に対して化学研磨処理を行うように構成された化学研磨装置に適用されるガラス基板の製造方法である。化学研磨装置は、搬送部および研磨処理部を少なくとも備える。この化学研磨装置において、上側からガラス母材に噴射する化学研磨液の量と、下側からガラス母材に噴射する化学研磨液の量とをそれぞれ調整することによって、第1の主面に形成される区画溝および第2の主面に形成される区画溝を、ガラス母材の厚み方向の中心から所定量ズレた位置にて貫通させる。 (もっと読む)


【課題】ガラスや他の酸化シリコンをベースとする又は窒化シリコンをベースとする系、及びそれらの厚さが変化する層に対して高い潜在処理量を有する技術的に簡単で、液体又はガス相での慣用の湿式又は乾式エッチング方法よりも著しく低コストである、エッチング方法に使用できるエッチング媒体を提供する。
【解決手段】上記課題は、無機のガラス状又は結晶性の表面をエッチングするための、非ニュートン流動性を有する、均質な、粒子を含まない、プリント可能なエッチング媒体により達成できる。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。 (もっと読む)


【課題】応力が過度に集中する鋭角な部分や直角な部分が形成されていない断面形状を有するマイクロ流路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマイクロ流路基板10は、内部にマイクロ流路11が設けられたマイクロ流路本体15を備え、マイクロ流路11の天井部とマイクロ流路11の内側壁が交わる第1の角部16、およびマイクロ流路11の底部と内側壁が交わる第2の角部17が曲面をなしていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】エッチング時に板状ガラスの縁部の主表面が露出した部分の溶解を防ぎ、エッチャントの消費量ひいては製造コストの削減を図ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラス102の両主表面上(主表面102aおよび102b)のレジスト材104に対してフォトマスク110を用いて板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で板状ガラスの両主表面側から露光するための露光工程と、露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターン106を形成する現像工程と、現像工程によって板状ガラスの主表面が露出した縁部(非露光領域103c)に対して、エッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜108を形成する工程と、現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングしてガラス基板100を抜き出すエッチング工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フラットパネルディスプレイの製造工程において破損が生じるのを防ぐことができるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】板厚方向に対向する第1及び第2の主面を有し、且つ、第2の主面のみに滑剤が付着したフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記滑剤は、フラットパネルディスプレイの製造工程において前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板が搬送されるときに、前記第2の主面と、前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を搬送する搬送部材との間に介在するように設けられる。 (もっと読む)


【課題】強度のばらつきを抑制できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法は、板状ガラス110から、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板100をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含み、エッチング工程でガラス基板を抜き出すための、耐エッチング性を有するレジスト材を用いたレジストパターン120を板状ガラスの主表面に形成するパターン形成工程を含み、パターン形成工程では、抜出されるガラス基板の主表面が、板状ガラスの縁部126を含まないようレジストパターンを形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】外部から観察される隠蔽領域の面積を削減し、携帯機器の美観を向上し、しかも上記タッチパネル用の透明電極用の配線する面積を確保しうる携帯機器用カバーガラスおよびその製造方法、および携帯機器のカバーガラス用ガラス基板を提供する。
【解決手段】本発明の代表的な構成は、携帯機器100の表示画面を保護するカバーガラス120であって、カバーガラス120の断面視において携帯機器100の内部側の主表面(内部側主表面140b)が携帯機器100の外部側の主表面(外部側主表面140a)より外周方向に長く、内部側の主表面上の縁に、配線を隠すための塗装122を施していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の表面の活性化に伴う電子機器用カバーガラスのガラス基板の強度低下の抑制方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有するガラス基板の表面近傍において、前記金属酸化物の金属イオンαを、前記金属イオンαよりもイオン半径が大きい金属イオンβで置換する置換工程と、前記置換工程により前記ガラス基板の表面近傍に形成された化学強化層に対し、前記置換工程後、表面失活用イオンγの注入処理を施す注入工程と、を有し、前記化学強化層内では、前記ガラス基板における主表面からの厚さ方向の距離とイオン濃度との関係において、前記表面失活用イオンγのイオン濃度を、前記金属イオンβのイオン濃度以下とする。 (もっと読む)


【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス1は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス1であって、前記カバーガラス1の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さRaが10nm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】一つの板状ガラス材から複数のガラス基板を製造する場合に、(1)主面および端面が共に化学強化されたガラス基板を得ること、(2)ガラス基板の寸法誤差を低減すること、(3)ガラス基板の生産性を犠牲にすることなくガラス基板の強度を良好に維持すること、を同時に実現する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、板状ガラス材をイオン交換処理によって化学強化する第1の化学強化工程S1と、第1の化学強化工程S1の後に板状ガラス材を分断することにより複数のガラス基板に小片化する小片化工程S2と、小片化工程S2の後にガラス基板をイオン交換処理によって化学強化する第2の化学強化工程S3とを含む。 (もっと読む)


【課題】抜きフロスト加工をしたガラス製品を効率的に製造できる方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ガラス素材(10)の処理部(s)にエッチング液(l)を接触させて形成された曇りガラス状のフロスト部(12)を有するガラス製品の製造方法であって、エッチング液に対して耐食性を有するマスキング剤を処理部の一部に付着させてなるマスク部(m)を形成するマスキング工程と、マスキング工程後の処理部へエッチング液を接触させてフロスト部を形成するエッチング工程と、エッチング工程後に少なくとも該マスク部を加熱してマスク部にあったマスキング剤を焼失させる焼失工程と、を備えることを特徴とする。本発明によれば、その焼失工程によりマスキング剤が跡形無く綺麗に除去されるので、従来必要であったマスキング被膜の剥離除去作業を省略でき、いわゆる抜きフロスト加工したガラス製品を効率的に製造できる。 (もっと読む)


【課題】角部分の耐衝撃性が優れること。
【解決手段】イオン交換法により形成された圧縮応力層30U、30Bが、表面20U側と裏面20B側とのみに設けられ、端面40Aが、凸を成す曲面であり、端面40Aの表面粗さRaが10nm以下である携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】熱処理を受けた基材の視覚的なマーキングのための方法を提供する。
【解決手段】本発明は、熱処理基材、特には強化ガラスペインの視覚的なマーキングのための方法であり、該基材の表面上に堆積されたマーキング層を改良することによってなされ、熱処理が実施されたことを視覚的に示す方法であって、粗いマーキング領域が該基材の表面上に作製され、該基材の上に堆積された該マーキング層が該基材に対して親密な接着結合を示し、機械的な手段によって該マーキング層を完全には除去できないようにしている、熱処理基材の視覚的なマーキングのための方法。 (もっと読む)


【課題】マザー基板の透明導電膜が形成されている側の主面に、透明導電膜にキズをつけることなくスクライブラインを形成でき、部材の汚染を抑制できる、透明導電膜を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、光学ガラス基板であるマザー基板1の一主面を少なくとも2つの領域1a、1bに分割する未塗布部1cが形成されるように、マザー基板1の一主面上に導電性無機粒子、樹脂、及び溶剤を含むコーティング組成物を塗布し、乾燥させることにより、マザー基板1の一主面上に透明導電膜3を形成する工程と、未塗布部1cにスクライブライン1dを形成する工程と、スクライブライン1dに沿ってマザー基板1を切断し、一主面に透明導電膜3を有するガラス基板4を得る工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の互いに対向する一方及び他方のそれぞれの主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板の一方及び他方のそれぞれの主表面から前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材を得る第1の工程と、前記ガラス基材の厚さ方向の流れを持つエッチャント中で前記ガラス基材をエッチングする第2の工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が携帯機器用カバーガラスの高いガラス基材を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、UL(Underwriters Laboratories)−1439に準拠するシャープエッジテストで表面から2層が切断されない形状であり、前記一対の主表面及び前記端面には、イオン交換処理により化学強化されることによって圧縮応力層が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカを含むスラリーを供給しながら、研磨パッド7とガラス基板1とを相対的に移動させてガラス基板1の主表面を鏡面に研磨する研磨工程を有するマスクブランクス用ガラス基板1の製造方法である。ここで、前記ガラス基板1に供給する前記スラリーの温度を25℃以下に制御する。 (もっと読む)


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