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Fターム[4G059BB14]の内容

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【課題】従来よりも工程数が少なく、安価にガラスを加工することができるガラスの加工方法を提供する。
【解決手段】フッ化物イオンと水とを含むエッチング液6中で、加工電極2を陽極としてガラス7に接触または近接させることで、加工電極2近傍のガラス7を局所的に溶解させる。これにより、ガラス7に、溝7aを形成する。 (もっと読む)


【課題】ラスタースキャン方式によりガラス基板等の被加工物の表面をエッチャントにより加工する際、加工ヘッドの副走査のピッチに合わせて大きなうねりが発生した。
【解決手段】加工ヘッド2のノズルをガラス基板の表面に液状のエッチャントを連続的に供給する供給口44と、供給口44のを取り囲む多数の排出孔45により構成し、供給口44から供給されたエッチャントを多数の排出孔45より吸引して排出し、多数の排出孔45の内側に流動するエッチャントにより形成されるエッチング領域により、ガラス基板の表面をラスタースキャン方式によりエッチング加工するための加工ヘッドであって、前記エッチング領域を、供給口44を中心とする円周内に形成された第1のエッチング領域53と、副走査方向の前後部にそれぞれ第1のエッチング領域53から張り出した第2のエッチング領域54とにより構成した。 (もっと読む)


【課題】小型の装置を用い、簡単な操作で、ガラス基板の破損を防止して、多数のガラス基板を同時に表面研磨し、安全、高生産性かつ高歩留まりで平滑なガラス表面を有する研磨ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板1の外周部の表裏両面ならびに端部を、液非透過性および強度付与性のマスキング材2でマスキングし、マスキングしたガラス基板1をマスキング部2aで支持するように上下方向に配置し、面間隔を保つように並べてキャリア3にセットし、キャリア3にセットされたガラス基板1を研磨液5に浸漬してガラス基板1の両面を研磨し、研磨したガラス基板1の片面を、マスキング部2aの内側に位置する追加ステージ10上に支持し、カッタ11を用いて分断することにより研磨ガラス基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材1は、板状のガラス基板の主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材1を得て、このガラス基材1の端面13に対して、該ガラス基材表面が軟化し得る熱エネルギーを局所的に加えることにより得られることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つガラス基材であって、断面視において、それぞれの主表面と前記端面とで構成される2つのエッジ部を結ぶ第1仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Lと、前記ガラス基材の厚さDとの関係がL≦D/2を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高精度・高性能・高額な処理装置を用いないで、また精細で複雑な処理工程を必要としないで、簡素な手法で再現性良く微細な凹凸構造を形成する方法、及び前記方法によって形成された基板を提供する。
【解決手段】エッチング処理によって基板表面に凹凸構造を形成する方法であって、前記基板上に膜を成膜する工程、前記膜をエッチング処理することにより前記膜に微細な凹凸構造を形成する工程、及び前記膜に生じた微細な凹凸構造をエッチングマスクとして前記基板のエッチング処理を行う工程からなることを特徴とする基板表面に凹凸構造を形成する方法、並びに前記方法によって得られた凹凸構造を有する基板。 (もっと読む)


【課題】極限的に薄型化された貼合せガラス基板の取扱いを容易にし、半完成品の段階から自由に湾曲させることのできるFPDの製造方法を提供する。
【解決手段】貼合せガラス基板の内部に、複数の表示領域を設けてなる基礎部材GLの周縁を封止する封止工程と、封止工程を経た基礎部材GLを、フッ酸を含有する化学研磨液に浸漬して、その板厚を100μm以下まで薄型化する研磨工程と、薄型化された基礎部材GLを、個々の表示領域毎に切断して中間部材MDとする切断工程と、中間部材MDの表裏面に、中間部材MDより大きいフィルム材Fi1,Fi2を配置して、中間部材MDを覆った状態で、表面側と裏面側のフィルム材Fi1,Fi2の接触面を互いに固着させて半完成品とする保護工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、UL−1439に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 (もっと読む)


【課題】凹凸のある表面を有するガラス基材の製造方法において、圧子に用いる材料の自由度を広げる。
【解決手段】ガラス基材の表面の所定領域を押圧し、前記押圧した所定領域を含む領域をエッチングすることにより、前記所定領域と前記所定領域を除く領域とにおけるエッチング速度の相違を利用して前記表面に凹凸を形成する、凹凸のある表面を有するガラス基材の製造方法であって、前記ガラス基材と同等以下のモース硬度を有する材料を先端部に用いた圧子を用い、前記先端部を前記表面に押し付けながら、前記先端部が前記表面に及ぼす剪断力および押圧力が前記エッチング速度の相違を生じせしめるのに足りる大きさとなるように剪断力が発生する相対速度により、前記圧子を前記ガラス基材に対して移動させることを含む、ガラス基材の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス1は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス1であって、前記カバーガラス1の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さRaが10nm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は硝子基板をエッチングして硝子基板の厚さを薄くする硝子基板のエッチング装置に関することとして、もっと詳しくは前記の硝子基板が少なくとも一つ以上配列されて、前記の硝子基板の下部には前記の硝子基板と地面が傾きを形成するようにして、前記の硝子基板の固定と脱去ができるようにする固定部材を具備して、前記の硝子基板の上部にはエッチング液が下方に噴射される噴射部材を備えていることを特徴とする硝子基板のエッチング装置と前記の装置によって製造された硝子薄板に関するのである。
【解決手段】前記の噴射部材は少なくとも一つ以上のノズルとノズルヘッドを備えて 構成されて、前記のノズルでエッチング液がスプレーで噴射されることを特徴にして、前記の硝子基板とノズル端の間の間隔はノズルの配置間隔とノズルのエッチング液の噴射角度によって決まることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】EUVL用の反射型マスク、ミラー等に用いられる、光学面の平坦度および表面粗さに優れており、かつ面取部の欠けが防止されたEUVL用光学部材、およびEUVL用光学部材の光学面の表面処理方法の提供。
【解決手段】OH濃度が100ppm以上で、TiO2を含有し、SiO2を主成分とする石英ガラス材料製のEUVL用光学部材の光学面に、フッ素または塩素の少なくとも一方を含有するソースガスを用いたGCIBエッチングを施すことを特長とするEUVL用光学部材の表面処理方法。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の側端面から、加工硬化層や無数のマイクロクラックを除去する基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理部40は、主として本体部401と、送給部5と、回収部6とを備える。本体部401には、ガラス基板90が遊挿されたときに、当該ガラス基板90の側端面と端縁の表裏面を覆うことが可能な開口部403が設けられている。また、開口部403の内部には、供給口404および排出口405が設けられている。送給部5は、薬液送給部50、純水送給部51および熱風送給部52を備えており、供給口404を介して開口部43に連通接続される。また回収部6は、使用済薬液収容部60、純水廃棄部61および排気部62を備えており、排出口を介して開口部403に連通接続される。 (もっと読む)


【課題】機械的強度を極限的に高めたフラットパネルディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の表示領域を内包する貼合せガラス基板について、その板厚を薄型化する第一工程と、薄型化された前記貼合せガラス基板を、複数の表示領域毎に切断して複数の表示セルに分離する第二工程と、分離された個々の表示セルを保持した状態で、各表示セルの周縁端面に化学研磨液を接触させて、周縁端面を滑面化する第三工程と、を有して構成される。 (もっと読む)


【課題】凸部を有する基板表面の微細構造作製方法およびガラス部品において、凸形状の表面に平面部分に形成されるのと同様な微細構造を容易に形成することができるようにする。
【解決手段】ガラス基材1に圧力を局所的に印加することにより、ガラス基材1表面およびその近傍に圧縮応力部3を形成する圧縮応力部形成工程と、これによって形成された圧縮応力部3とガラス基材1の他の部分との間で、エッチングレートが異なる第1のエッチング液を用いてガラス基材1の化学的エッチング処理を行って、ガラス基材1表面に凸部2を形成する第1のエッチング工程と、凸部2が形成されたガラス基材1表面を、ガラス基材1に含まれるガラス成分の耐酸性に応じてエッチングレートが異なる酸性液からなる第2のエッチング液を用いて化学的エッチング処理を行うことで、ガラス基材1表面に微細構造5を形成する第2のエッチング工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスクに用いた場合に、優れた強度を実現可能な、ガラス基板を提供することにある。
【解決手段】ドーナツ形状のガラス基板において、内周面の面取部および側面部の算術平均粗さRaが0.05〜1μm、かつ、それらの最大高さRyが0.5〜15μmあり、さらに、それらの展開長さ比Lrが1.006以上である。 (もっと読む)


【課題】
【解決手段】本発明は、ネガティブフォトレジストを用いたガラスまたは金属エッチング方法およびこれを用いたクリシェの製造方法に関する。本発明に係るガラスまたは金属エッチング方法は、ネガティブフォトレジストと金属または金属酸化物との接着力が優れているので金属または金属酸化物エッチング液によってフォトレジスト層が腐食されないだけでなく、逆型のフォトマスクを製作する必要がないので製造工程が簡単であり、混合波長などの低分解能光源を用いることができて経済的である。 (もっと読む)


【課題】 硝子に微小な穴あけをする際、穴の周縁にギザギザが形成されない優れた方法及び装置を提供する。
【解決手段】 硝子より成る対象物1の表面を保護層4で覆い、保護層4の穴あけ箇所の部分に穴あけ用開口40を形成する。硝子を溶出することが可能な溶出液2をノズル3から噴射させ、穴あけ用開口40を通して対象物1の表面に当てて5×10−2N/cm以上20×10−2N/cm以下の圧力で衝撃する。ノズル3から噴射される溶出液2は、穴あけ用開口40よりも小さい直径20μm以上400μm以下の粒状である。溶出液2による衝撃を継続することで対象物1に貫通穴10が形成される。 (もっと読む)


表面テクスチャ形成方法、すなわち、ガラス機能を有する基材の少なくとも1つの表面部分上に特徴的寸法を有する形状の少なくとも1種のアレイの形成のための方法において、堆積されるための材料の少なくとも1種の前駆物質を含む溶液は、大気圧で、フレーム(flame)の中で、解離され、材料に基づく複数の小塊の形態で、マスクを堆積させるためにフレームが表面部分に向けられ、材料のマスクがエッチングステップを受けることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】赤外線、可視光線、紫外線からなる群から選ばれた光線を通過させるために使用される高い光透過率を有する合成石英ガラス体を提供する。
【解決手段】合成石英ガラス体表面にフッ素化剤を接触させ、当該合成石英ガラス体の内部2へフッ素化剤を浸透させて、その表面部分を改質することにより、合成石英ガラス体の表面部分に空隙を形成し、その表面部分においてフッ素原子濃度が表面から深さ方向に傾斜的に減少している合成石英ガラス体の製造方法。 (もっと読む)


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